4-羟基-N,N-二(2-羟基乙基)丁酰胺 | 66857-22-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 脂肪酰基
• 中文名称: 4-羟基-N,N-二(2-羟基乙基)丁酰胺
• 英文名称: Butanamide, 4-hydroxy-N,N-bis(2-hydroxyethyl)-
• 英文别名: 4-hydroxy-N,N-bis(2-hydroxyethyl)butanamide
• CAS: 66857-22-5
• 化学式: C₈H₁₇NO₄
• 分子量: 191.22
• InChiKey: VLVFFKKUHQEBBU-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  425.9±40.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.214±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -2
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.88
• 拓扑面积：
  81
• 氢给体数：
  3
• 氢受体数：
  4

文献信息

• [EN] 4-HYDROXY BUTYRIC ACID DERIVATIVES
  申请人：DR. FRANZ KÖHLER CHEMIE GMBH

  公开号：WO1992019581A1

  公开（公告）日：1992-11-12

  (DE) Wasserlösliche Derivate der 4-Hydroxy-Buttersäure (GHB) mit den Formeln (I) und (II), wobei R1, R2 und R3 H-, CH3-, C2H5-, CH2OH-CH2- oder CH2OH-CHOH-CH2-Reste bedeuten oder mit dem Stickstoff ein Heterocycloalkan mit 4 oder 5 Kohlenstoffatomen bilden, wobei ferner R4 ein Alkohol oder Polyalkohol mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen und 1 bis 5 Sauerstoffatomen von linearer, verzweigter oder ringförmiger Struktur ist und R1 und R4 zu einem cyclischen Ether miteinander kondensiert sein können, und R5 und R6 unabhängig voneinander H- oder CH2-OH- sind.(EN) The invention relates to water soluble derivatives of 4-hydroxy butyric acid (GHB) of the formulae (I) and (II), wherein R1, R2 and R3 represent H, CH3, C2H5, CH2OH-CH2 or CH2OH-CHOH-CH2 residues, or form with the nitrogen a heterocycloalkane with 4 or 5 carbon atoms; R4 represents an alcohol or polyalcohol with 1 to 5 carbon atoms and 1 to 5 oxygen atoms and with a linear, branched or cyclic structure, and can be condensed with R1 to form a cyclic ether; and R5 and R6 independently of each other can be H or CH2OH residues.(FR) Dérivés solubles dans l'eau de l'acide 4-hydroxybutyrique (GHB) répondant aux formules (I) et (II) dans lesquelles R1, R2 et R3 représentent des restes H, CH3, C2H5, CH2OH-CH2 ou CH2OH-CHOH-CH2 ou bien forment avec l'azote un hétérocycloalcane possédant 4 ou 5 atomes de carbone; R4 représente un alcool ou un polyalcool possédant 1 à 5 atomes de carbone et 1 à 5 atomes d'oxygène ainsi qu'une structure linéaire ramifiée ou cyclique et peut être condensé avec R1 pour former un éther cyclique; et R5 et R6 peuvent être, indépendamment l'un de l'autre, des restes H ou CH2OH.

  该发明涉及可溶于水的γ-羟基乙酸（GHB）的衍生物，其化学式为（I）和（II），其中 R1、R2和R3分别代表以下基团：H、CH3、C2H5、 OH-CH2或 OH-CHOH- 残基； 或与氮形成一种含有4至5个碳原子的非环烷烃（nonpolycyclic heterocyclic alkane）； R4代表一个醇或聚醇（polyol），其中碳原子数为1至5、氧原子数为1至5，且具有线性、分枝或环形结构；且 R4与R1可缩聚形成环状醚（cyclic ether）； 而R5和R6则分别独立地为H或 OH基团。
• DERIVATE DER 4-HYDROXY-BUTTERSÄURE
  申请人：Dr. Franz Köhler Chemie GmbH

  公开号：EP0536369A1

  公开（公告）日：1993-04-14
• Composition for removing a photoresist, method of preparing the composition, method of removing a photoresist and method of manufacturing a semiconductor device using the composition
  申请人：Park Jung-Dae

  公开号：US20060287207A1

  公开（公告）日：2006-12-21

  A composition for removing a photoresist includes about 5 to about 20 percent by weight of an alcoholamide compound, about 15 to about 60 percent by weight of a polar aprotic solvent, about 0.1 to about 6 percent by weight of an additive, and pure water. The alcoholamide compound is chemically structured as follows: where R 1 is a hydroxyl group or a hydroxyalkyl group, and R 2 is a hydrogen atom or a hydroxyalkyl group.
• COMPOSITION FOR REMOVING A PHOTORESIST, METHOD OF PREPARING THE COMPOSITION, METHOD OF REMOVING A PHOTORESIST AND METHOD OF MANUFACTURING A SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE COMPOSITION
  申请人：PARK Jung-Dae

  公开号：US20100009885A1

  公开（公告）日：2010-01-14

  A composition for removing a photoresist includes about 5 to about 20 percent by weight of an alcoholamide compound, about 15 to about 60 percent by weight of a polar aprotic solvent, about 0.1 to about 6 percent by weight of an additive, and pure water. The alcoholamide compound is chemically structured as follows: where R 1 is a hydroxyl group or a hydroxyalkyl group, and R 2 is a hydrogen atom or a hydroxyalkyl group.
• US4143159A
  申请人：——

  公开号：US4143159A

  公开（公告）日：1979-03-06