8-hydroxy-3-methylcoumarin | 854907-08-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯丙烷和聚酮 - 香豆素及其衍生物
• 英文名称: 8-hydroxy-3-methylcoumarin
• 英文别名: 8-hydroxy-3-methyl-chromen-2-one；8-Hydroxy-3-methyl-cumarin；8-Hydroxy-3-met hylcoumarin；8-hydroxy-3-methylchromen-2-one
• CAS: 854907-08-7
• 化学式: C₁₀H₈O₃
• 分子量: 176.172
• InChiKey: VIZHQCJUKSDWAD-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.9
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.1
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  8-hydroxy-3-methylcoumarin 在 氢氧化钾 作用下， 以 甲醇 、 乙醇 为溶剂， 生成 7-Morpholinomethyl-8-methoxy-3-methyl-cumarin
  参考文献：
  名称：

  具有中央刺激活性的一系列香豆素衍生物。

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jm00332a010
• 作为产物：
  描述：

  8-methoxy-3-methyl-2H-chromen-2-one 在 氢碘酸 、 乙酸酐 作用下， 生成 8-hydroxy-3-methylcoumarin
  参考文献：
  名称：

  Cingolani et al., Gazzetta Chimica Italiana, 1953, vol. 83, p. 647,651

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Photoresist underlayer film-forming composition and pattern forming process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP2813891A2

  公开（公告）日：2014-12-17

  In lithography, a composition comprising a novolak resin comprising recurring units of hydroxycoumarin is used to form a photoresist underlayer film. The underlayer film is strippable in alkaline water, without causing damage to ion-implanted Si substrates or SiO2 substrates.

  在光刻技术中，一种由包含羟基香豆素递归单元的酚醛树脂组成的组合物可用于形成光刻胶底层膜。该底层膜可在碱水中剥离，而不会对离子注入硅基底或二氧化硅基底造成损坏。
• Convenient Synthesis of 3-Methylcoumarins and Coumarin-3-carbaldehydes
  作者：Temitope O. Olomola、Rosalyn Klein、Perry T. Kaye

  DOI：10.1080/00397911.2010.523491

  日期：2012.1.15

  Rapid, microwave-assisted Baylis-Hillman reactions of substituted salicylaldehydes, followed by one-pot hydrogen iodide-mediated cyclization and reduction of the corresponding adducts, has afforded 3-methylcoumarins in up to 94% yield in the final step. Subsequent microwave-assisted selenium dioxide oxidation of selected 3-methylcoumarins has provided convenient access to the corresponding coumarin-3-carbaldehydes and permitted a significant improvement over the yield obtained using conventional heating.
• Neue Sulfonsäureester von Hydroxycumarinen, ihre Herstellung und sie enthaltende Arzneimittel
  申请人：BASF Aktiengesellschaft

  公开号：EP0111746B1

  公开（公告）日：1987-09-16
• UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION AND PATTERN FORMING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20140363956A1

  公开（公告）日：2014-12-11

  In lithography, a composition comprising a novolak resin comprising recurring units of hydroxycoumarin is used to form a photoresist underlayer film. The underlayer film is strippable in alkaline water, without causing damage to ion-implanted Si substrates or SiO 2 substrates.
• US4618622A
  申请人：——

  公开号：US4618622A

  公开（公告）日：1986-10-21