2,5-diaminopyrrole | 29212-51-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 吡咯
• 英文名称: 2,5-diaminopyrrole
• 英文别名: 1H-Pyrrole-2,5-diamine
• CAS: 29212-51-9
• 化学式: C₄H₇N₃
• 分子量: 97.1197
• InChiKey: HBHBLOXMPLUXQU-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0
• 重原子数：
  7
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  67.8
• 氢给体数：
  3
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  对羟基苯甲酰氯 、 2,5-diaminopyrrole 在 三乙胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 生成
  参考文献：
  名称：

  一种咪唑类化合物的制备方法及应用

  摘要：

  本发明提供了一种咪唑类化合物及其衍生物的合成方法及应用，即如图1所示的化合物，该方法是一种有机缓蚀剂制备方法。缓蚀剂是以噻吩，吡咯，呋喃等杂原子环为起始原料，首先合成中间产物二氨基化合物，然后使其与酰氯反应生成酰胺化合物，在硝化，还原，环合反应，通过分离、提纯和干燥后，得纯度较高的有机缓蚀剂。本发明有以下优点：原料易得价格低廉；合成路线简单，合成条件温和，本发明的缓蚀剂主要用于碳钢在酸性条件下的缓蚀，可有效抑制金属基体在酸性条件下的腐蚀，缓蚀效率高，用量少。该有机缓蚀剂包含如下结构的化合物，其中取代基R是具有1至20个碳原子的任选取代的直链，支化或者环状烷基链，芳香环，烷氧基，氨基，酰氨基，甲硅烷基或烯基，Z独立地为S,O,Se,NR`,其中R`为H或者取代基。

  公开号：

  CN111635416A
• 作为产物：
  描述：

  2,5-dinitropyrrole 在 盐酸 、 锌 作用下， 以 水 为溶剂， 生成 2,5-diaminopyrrole
  参考文献：
  名称：

  一种咪唑类化合物的制备方法及应用

  摘要：

  本发明提供了一种咪唑类化合物及其衍生物的合成方法及应用，即如图1所示的化合物，该方法是一种有机缓蚀剂制备方法。缓蚀剂是以噻吩，吡咯，呋喃等杂原子环为起始原料，首先合成中间产物二氨基化合物，然后使其与酰氯反应生成酰胺化合物，在硝化，还原，环合反应，通过分离、提纯和干燥后，得纯度较高的有机缓蚀剂。本发明有以下优点：原料易得价格低廉；合成路线简单，合成条件温和，本发明的缓蚀剂主要用于碳钢在酸性条件下的缓蚀，可有效抑制金属基体在酸性条件下的腐蚀，缓蚀效率高，用量少。该有机缓蚀剂包含如下结构的化合物，其中取代基R是具有1至20个碳原子的任选取代的直链，支化或者环状烷基链，芳香环，烷氧基，氨基，酰氨基，甲硅烷基或烯基，Z独立地为S,O,Se,NR`,其中R`为H或者取代基。

  公开号：

  CN111635416A

文献信息

• 一种二吡嗪稠环化合物的制备方法及应用
  申请人：哈尔滨工业大学（威海）

  公开号：CN110105369A

  公开（公告）日：2019-08-09

  本发明提供了一种二吡嗪稠环化合物及其衍生物的合成方法及应用，即通式为图1的化合物，该有机半导体器件包含如下结构的半导体化合物，其中R1和R2,可以相同也可以不同，并选自取代基R,该取代基R是（i）具有1至20个碳原子的任选取代的直链，支化或者环状烷基链，烷氧基，氨基，酰氨基，甲硅烷基或烯基，或者（ii）可聚合或反应性基团，该基团选自卤素、硼酸、二硼酸以及硼酸和二硼酸的酯、亚烷基和甲锡烷基。Z独立地为S,O,Se,NR`,其中R`为H或者取代基。该有机半导体化合物在有机半导体器件例如薄膜晶体管中用作活性层。
• 一种咪唑类化合物的制备方法及应用
  申请人：哈尔滨工业大学（威海）

  公开号：CN111635416A

  公开（公告）日：2020-09-08

  本发明提供了一种咪唑类化合物及其衍生物的合成方法及应用，即如图1所示的化合物，该方法是一种有机缓蚀剂制备方法。缓蚀剂是以噻吩，吡咯，呋喃等杂原子环为起始原料，首先合成中间产物二氨基化合物，然后使其与酰氯反应生成酰胺化合物，在硝化，还原，环合反应，通过分离、提纯和干燥后，得纯度较高的有机缓蚀剂。本发明有以下优点：原料易得价格低廉；合成路线简单，合成条件温和，本发明的缓蚀剂主要用于碳钢在酸性条件下的缓蚀，可有效抑制金属基体在酸性条件下的腐蚀，缓蚀效率高，用量少。该有机缓蚀剂包含如下结构的化合物，其中取代基R是具有1至20个碳原子的任选取代的直链，支化或者环状烷基链，芳香环，烷氧基，氨基，酰氨基，甲硅烷基或烯基，Z独立地为S,O,Se,NR`,其中R`为H或者取代基。