申请人:住友化学株式会社
公开号:JP2018135321A
公开(公告)日:2018-08-30
【課題】良好なマスクエラーファクター(MEF)でレジストパターンを製造することができる塩及びレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式(aa1)で表される基を有する塩。[式中、Xa及びXbは、それぞれ酸素原子又は硫黄原子を表す。環W1は、炭素数3〜36の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、のアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせた基で置換されていてもよい。L1は、置換基を有してもよい炭素数1〜12の炭化水素基を表す。R1は、水素原子又は炭素数1〜18の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる−CH2−は、−O−、−S−、−CO−又は−S(O)2−に置き換わっていてもよい。【選択図】なし
本发明旨在提供可以制造出具有良好的掩膜误差因子(MEF)的光刻胶图案的盐和光刻胶组合物。其解决方案是具有式(aaa1)所表示基团的盐。[其中,Xa和Xb分别表示氧原子或硫原子。环W1表示具有3-36个碳原子的脂环式烃基,该脂环式烃基中的氢原子可以被羟基、烷基、烷氧基、烷氧羰基、烷基羰基、烷基羰氧基、脂环式烃基、芳香族烃基或这些基的组合所替换。L1表示具有1-12个碳原子的烃基,其中可以带有取代基。R1表示氢原子或具有1-18个碳原子的烃基,其中包含的-CH2-可以被-O-、-S-、-CO-或-S(O)2-所替换。]【选择图】无。