8-methyl-2-nonanol | 14779-92-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 脂肪酰基
• 英文名称: 8-methyl-2-nonanol
• 英文别名: 8-methylnonan-2-ol
• CAS: 14779-92-1
• 化学式: C₁₀H₂₂O
• 分子量: 158.284
• InChiKey: ZVZKLBCGIYWGOU-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  206.4±8.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.824±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.7
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  8-methyl-2-nonanol 在 sodium methylate 作用下， 以 甲醇 、 乙醚 为溶剂， 反应 17.0h， 生成 (R)-8-methylnonan-2-ol
  参考文献：
  名称：

  挥发性两栖类信息素：来自马达加斯加的山tell类蛙的大环内酯类

  摘要：

  两栖动物喜欢水，但是他们也注意到空气中的挥发性化合物吗？是的，他们有。大环内酯类化合物，例如磷酰胺J（见图；右上图结构）或新发现的天然产物gephyromantolide A（左图结构），被马达加斯加的曼陀罗蛙用来交流。

  DOI：

  10.1002/anie.201106592
• 作为产物：
  描述：

  8-methyl-2-nonanone 在 lithium aluminium tetrahydride 作用下， 以 乙醚 为溶剂， 反应 1.0h， 以69%的产率得到8-methyl-2-nonanol
  参考文献：
  名称：

  挥发性两栖类信息素：来自马达加斯加的山tell类蛙的大环内酯类

  摘要：

  两栖动物喜欢水，但是他们也注意到空气中的挥发性化合物吗？是的，他们有。大环内酯类化合物，例如磷酰胺J（见图；右上图结构）或新发现的天然产物gephyromantolide A（左图结构），被马达加斯加的曼陀罗蛙用来交流。

  DOI：

  10.1002/anie.201106592

文献信息

• [EN] PROCESS<br/>[FR] PROCÉDÉ
  申请人：PHOSPHAGENICS LTD

  公开号：WO2018112512A1

  公开（公告）日：2018-06-28

  An efficient and commercial phosphorylation process of a complex alcohol, such as secondary and tertiary alcohols, with P4O10 at high temperatures, and a product obtained by the process.

  一种高效商业化的磷酸酯化过程，用于复杂醇类（如二级和三级醇），在高温下使用P4O10，以及该过程得到的产品。
• COOLING SENSATION AGENT COMPOSITION, SENSORY STIMULATION AGENT COMPOSITION AND USE OF THE SAME
  申请人：Komatsuki Yasuhiro

  公开号：US20110081393A1

  公开（公告）日：2011-04-07

  Disclosed is a cooling sensation agent composition or sensory stimulation agent composition which contains at least one of diester compounds of dicarboxylic acid represented by the formula (1) wherein A represents CH 2 or CH═CH, n represents an integer of 0 to 4 when A is CH 2 , or 1 when A is CH═CH, B is an alcohol residue having 10 to 18 carbon atoms and containing a para-menthane skeleton, which may have a substituent, and C is an alcohol residue having 6 to 18 carbon atoms, which may have a substituent as well as a flavor or fragrance composition, a beverage, a food product, a perfume or cosmetic product, a toiletry product, daily utensil products or groceries, a fiber, a fiber product, clothes, clothing or a medicine, wherein the cooling sensation agent composition or the sensory stimulation agent composition is compounded.

  本文披露了一种包含以下化学式（1）所代表的二羧酸双酯化合物之一的冷却感剂组合物或感官刺激剂组合物，其中A代表CH2或CH═CH，n代表整数0至4（当A为CH2时）或1（当A为CH═CH时），B是含有10至18个碳原子并含有对蒎烷骨架的醇残基，可能有取代基，C是含有6至18个碳原子的醇残基，可能也有取代基，以及香料或香精组合物、饮料、食品产品、香水或化妆品产品、洗涤用品、日用品或杂货、纤维、纤维制品、衣服、服装或药品，其中复合了冷却感剂组合物或感官刺激剂组合物。
• Developer, pattern forming method, and electronic device manufacturing method
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US10562991B2

  公开（公告）日：2020-02-18

  Provided is a pattern forming method including the successive steps of: a resist film forming step of forming a resist film using an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition; an exposure step of exposing the resist film; a step of developing the exposed resist film using a developer, and a step of rinsing the developed resist film using a rinsing liquid containing an organic solvent. The developer includes a ketone-based or ether-based solvent having a branched alkyl group. The organic solvent contained in the rinsing liquid includes an ether-based solvent having a branched alkyl group.

  本发明提供了一种图案形成方法，包括以下连续步骤：使用对放热射线或辐射敏感的组合物形成抗蚀剂薄膜的抗蚀剂薄膜形成步骤；曝光抗蚀剂薄膜的曝光步骤；使用显影剂显影曝光的抗蚀剂薄膜的步骤，以及使用含有有机溶剂的漂洗液漂洗显影的抗蚀剂薄膜的步骤。显影剂包括具有支链烷基的酮基或醚基溶剂。漂洗液中的有机溶剂包括具有支链烷基的醚基溶剂。
• Rinsing liquid, pattern forming method, and electronic device manufacturing method
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US10599038B2

  公开（公告）日：2020-03-24

  Provided are a rinsing liquid which is used for rinsing a resist film obtained from an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition and includes a hydrocarbon-based solvent having a branched alkyl group. The hydrocarbon-based solvent having a branched alkyl group contains at least one of isodecane or isododecane.

  本发明提供了一种漂洗液，它用于漂洗从对放 射线敏感或对辐射敏感的组合物中获得的抗蚀剂薄膜，其中包括一种具有支链烷基的烃基溶 剂。具有支链烷基的烃基溶剂至少包含异癸烷或异十二烷中的一种。
• Treatment liquid and pattern forming method
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US10962884B2

  公开（公告）日：2021-03-30

  An object of the present invention is to provide a treatment liquid for patterning a resist film and a pattern forming method, each of which can simultaneously suppress the occurrence of pattern collapse in a resist L/S pattern and the occurrence of omission failure in a resist C/H pattern. The treatment liquid of the present invention is a treatment liquid for patterning a resist film, which is used for subjecting a resist film obtained from an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition to at least one of development or washing, and contains an organic solvent, in which the treatment liquid contains a first organic solvent having an SP value of 16.3 MPa1/2 or less and a second organic solvent having an SP value of 17.1 MPa1/2 or more.

  本发明的目的是提供一种用于抗蚀剂薄膜图案化的处理液和一种图案形成方法，每种处理液和方法都能同时抑制抗蚀剂 L/S 图案崩溃和抗蚀剂 C/H 图案遗漏故障的发生。 本发明的处理液是一种用于抗蚀剂薄膜图案化的处理液，它用于将从对放 射线敏感或对辐射敏感的树脂组合物中获得的抗蚀剂薄膜进行显影或洗涤中的 至少一种处理，并含有一种有机溶剂，其中处理液含有 SP 值为 16.3 MPa1/2 或以下 的第一种有机溶剂和 SP 值为 17.1 MPa1/2 或以上的第二种有机溶剂。