difluorosulfoacetic acid sodium salt | 912289-98-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机磺酸及其衍生物
• 英文名称: difluorosulfoacetic acid sodium salt
• 英文别名: sodium carboxydifluoromethanesulfonate；sodium difluorosulfoacetate；Sodium difluorosulfoacetate；sodium;2,2-difluoro-2-sulfoacetate
• CAS: 912289-98-6
• 化学式: C₂HF₂O₅S*Na
• 分子量: 198.08
• InChiKey: XSQIGJCTPAJWQT-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -3.79
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  103
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  difluorosulfoacetic acid sodium salt 在 氯化亚砜 作用下， 反应 3.0h， 以80%的产率得到chlorocarbonyldifluoromethanesulofnic acid sodium salt
  参考文献：
  名称：

  SULFONIUM COMPOUND, PHOTOACID GENERATOR, AND RESIST COMPOSITION

  摘要：

  提供以下式（1）所表示的磺化物化合物，含有该磺化物化合物的光酸发生剂，以及含有该光酸发生剂的抗蚀组合物：其中X代表一个电子给体基团；R1和R2各自独立地代表一个烷基基团或类似物；R4至R6各自独立地代表一个烷基基团或类似物；R3代表一个环烯二基基团或类似物；以及−A代表一个阴离子。该磺化物化合物具有通过在一个分子的阳离子区引入不同吸收剂来控制的光子产量，可解决当该磺化物化合物被应用为光酸发生剂时使用不同光酸发生剂混合物的不便，具有在抗蚀剂中优异的溶解性，并具有增强的分辨率和线边粗糙度。

  公开号：

  US20130035503A1
• 作为产物：
  描述：

  氟磺酰基二氟乙酸甲酯 在 sodium hydroxide 、 水 、 盐酸 作用下， 反应 25.0h， 生成 difluorosulfoacetic acid sodium salt
  参考文献：
  名称：

  Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified resist composition containing the same

  摘要：

  本发明提供了一种具有公式(I)的盐：其中，X代表含3至30个碳原子的单环或双环烃基团，并且环X中的一个或多个氢原子可被选地取代为含1至6个碳原子的烷基、含2至6个碳原子的烯基、含2至6个碳原子的烷氧基或含1至4个碳原子的过氟烷基；Q1和Q2各自独立地代表氟原子或含1至6个碳原子的过氟烷基；A+代表有机反离子；n表示1至12的整数。本发明还提供了一种包含公式(I)的盐的化学放大抗蚀剂组合物。

  公开号：

  US20070100159A1

文献信息

• SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
  申请人：ICHIKAWA Koji

  公开号：US20100304293A1

  公开（公告）日：2010-12-02

  A salt represented by the formula (a): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom etc., X 1 represents a single bond etc., X 2 represents a single bond etc., Y 1 represents a C3-C6 alicyclic hydrocarbon group etc., with the proviso that —X 2 —Y 1 group has one or more fluorine atoms, and Z + represents an organic counter cation, and a photoresist composition comprising the salt represented by the formula (a) and a resin comprising a structural unit having an acid-labile group and being insoluble or poorly soluble in an aqueous alkali solution but becoming soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid.

  由公式(a)表示的盐：其中Q1和Q2各自独立代表氟原子等，X1代表单键等，X2代表单键等，Y1代表C3-C6的脂环烃基等，但条件是—X2—Y1基团具有一个或多个氟原子，以及Z+代表有机反离子，以及包含由公式(a)表示的盐的光阻剂组合物和包含具有酸不稳定的基团并且在水性碱液中不溶或微溶于但在酸性作用下水性碱液中变得可溶的树脂的结构单元。
• SALT AND PROCESS FOR PRODUCING ACID GENERATOR
  申请人：YOSHIDA Isao

  公开号：US20110201823A1

  公开（公告）日：2011-08-18

  A salt represented by the formula (I0): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, L 1 represents a divalent C1-C17 hydrocarbon group in which one or more —CH 2 — can be replaced by —O— or —CO—, m represents 1 or 2, and Z m+ represents m-valent organic or inorganic cation.

  根据您提供的化学公式(I0)，其翻译成中文为： 其中Q1和Q2各自独立代表一个氟原子或一个C1-C6全氟烷基团，L1代表一个二价的C1-C17碳氢化合物基团，在该基团中，一个或多个—CH2—可以被—O—或—CO—所替换，m代表1或2，而Zm+代表m价有机或无机阳离子。
• 由愈创木醇合成的磺酸锍盐类光酸产生剂及其合成方法
  申请人：上海博栋化学科技有限公司

  公开号：CN111138406A

  公开（公告）日：2020-05-12

  本发明公开了一种由愈创木醇合成的磺酸锍盐类光酸产生剂及其合成方法，属于化学合成及光刻材料领域。该光酸产生剂的结构通式为：式中，R1为和中的一种；R2为共价键、烷基、环烷基、含酯基的烷基和含氟烷基中的一种。该光酸产生剂的合成方法为：将愈创木醇与磺酸盐类化合物进行反应，得到中间体；将所述中间体与(环己‑1,5‑二烯基氧基)‑三甲基‑硅烷、四亚甲基亚砜、三氟乙酸酐进行反应，得到所述磺酸锍盐类光酸产生剂。本发明所采用的原料愈创木醇具有较大分子量，其形成的光酸产生剂也具有较大分子量，可降低光酸产生剂的扩散，有利于改善边缘粗糙度，减小线宽粗糙度，提高分辨率。
• 由喇叭茶醇合成的磺酸锍盐类光酸产生剂及其合成方法
  申请人：上海博栋化学科技有限公司

  公开号：CN111138407A

  公开（公告）日：2020-05-12

  本发明公开了一种由喇叭茶醇合成的磺酸锍盐类光酸产生剂及其合成方法，属于化学合成及光刻材料领域。该光酸产生剂的结构通式为：式中，R1为和中的一种；R2为共价键、烷基、环烷基、含酯基的烷基和含氟烷基中的一种。该光酸产生剂的合成方法为：将喇叭茶醇与磺酸盐类化合物进行反应，得到中间体；将所述中间体与(环己‑1,5‑二烯基氧基)‑三甲基‑硅烷、四亚甲基亚砜、三氟乙酸酐进行反应，得到所述磺酸锍盐类光酸产生剂。本发明所采用的原料喇叭茶醇具有较大分子量，其形成的光酸产生剂也具有较大分子量，可降低光酸产生剂的扩散，有利于改善边缘粗糙度，减小线宽粗糙度，提高分辨率。
• Chemically amplified photoresist composition and method for forming resist pattern
  申请人：Ichikawa Koji

  公开号：US08883394B2

  公开（公告）日：2014-11-11

  The present invention provides a resist composition giving a resist pattern excellent in CD uniformity and focus margin. A chemically amplified photoresist composition comprises a resin (A) and an acid generator (B), and the resin (A) contains, as a part or an entirety thereof, a copolymer (A1) which is obtained by polymerizing at least: a (meth)acrylic monomer (a1) having C5-20 alicyclic hydrocarbon group which becomes soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid; a (meth)acrylic monomer (a2) having a hydroxy group-containing adamantyl group; and a (meth)acrylic monomer (a3) having a lactone ring, and the copolymer (A1) has a weight-average molecular weight of 2500 or more and 5000 or less, and a content of the copolymer (A1) is not less than 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin (A).

  本发明提供了一种能够提供具有优异的线宽均匀性和焦深余量的光刻胶图案的防蚀组合物。所述化学放大型光刻胶组合物包括树脂（A）和酸发生剂（B），其中树脂（A）含有作为其部分或全部的共聚物（A1），该共聚物（A1）是通过聚合至少以下物质获得的：(甲基)丙烯酸单体（a1），具有C5-20脂环烃基团，在酸性作用下能溶解于水碱性溶液中；(甲基)丙烯酸单体（a2），具有含羟基的金刚烷基团；和(甲基)丙烯酸单体（a3），具有内酯环，且共聚物（A1）的重量平均分子量为2500或更多但不超过5000，共聚物（A1）的含量不少于相对于100部分质量的树脂（A）的50部分质量。