trimethyl-(4-trimethylsilanyloxy-phenyl)-silane | 18036-81-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: trimethyl-(4-trimethylsilanyloxy-phenyl)-silane
• 英文别名: Trimethyl-(4-trimethylsilyl-phenoxy)-silan；Trimethyl{4-[(trimethylsilyl)oxy]phenyl}silane；trimethyl-(4-trimethylsilyloxyphenyl)silane
• CAS: 18036-81-2
• 化学式: C₁₂H₂₂OSi₂
• 分子量: 238.477
• InChiKey: DJGHSVVFQCJHIP-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  114-115 °C(Press: 20 Torr)
• 密度：
  0.9000

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.45
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  trimethyl-(4-trimethylsilanyloxy-phenyl)-silane 在 水 作用下， 反应 15.0h， 生成 4-羟基苯磺酸
  参考文献：
  名称：

  Babin, P.; Bennetau, B.; Bourgeois, P., Bulletin de la Societe Chimique de France, 1992, # 1, p. 25 - 28

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  4-溴苯酚 在 sodium 作用下， 生成 trimethyl-(4-trimethylsilanyloxy-phenyl)-silane
  参考文献：
  名称：

  The Preparation and Properties of (Hydroxyorgano)-silanes and Related Compounds

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja01124a039

文献信息

• Use of trimethylsilyl derivatives in simple syntheses of deuteriated anilines, phenols, and benzenethiols
  作者：A. R. Bassindale、C. Eaborn、D. R. M. Walton

  DOI：10.1039/j39700001577

  日期：——

  Deuteriated anilines, XC6H4·ND2, phenols, XC6H4·OD, and benzenethiols, XC6H4·SD, of high isotopic purity have been obtained in excellent yield from deuteriomethanol, MeOD, and the appropriate trimethylsilyl derivatives, XC6H4·N(SiMe3)2, XC6H4·O·SiMe3, and XC6H4·S·SiMe3.

  从氘代甲醇，MeOD和适当的三甲基甲硅烷基衍生物获得了高同位素纯度的氘代苯胺XC 6 H 4 ·ND 2，酚类，XC 6 H 4 ·OD和苯硫酚XC 6 H 4 ·SD。 ，XC 6 H 4 ·N（SiMe 3）2，XC 6 H 4 ·O·SiMe 3和XC 6 H 4 ·S·SiMe 3。
• Sila-Pharmaka, 17. Mitt. Sila-Analogon des Rythmols
  作者：Reinhold Tacke、Erich Heeg、Brigitte Berndt

  DOI：10.1002/ardp.19803130207

  日期：——

  Sila‐Rythmol (11b), ein Sila‐Analogon des Antiarrhythmicums Rythmol (11a), wurde erstmalig dargestellt. 11b sowie die Vorstufen und Nebenprodukte 4, 5, 6, 7, 9b und 10b wurden in ihren physikalischen und chemischen Eigenschaften charakterisiert und in ihrer Struktur sichergestellt. Die pharmakologischen und toxikologischen Eigenschaften der Analoga 11a und 11b wurden vergleichend untersucht.

  Sila-Rythmol (11b) 是抗心律失常 Rythmol (11a) 的 Sila 类似物，首次出现。对11b以及前体和副产物4、5、6、7、9b和10b的物理和化学性质进行了表征，并验证了它们的结构。比较地检查了类似物11a和11b的药理学和毒理学特性。
• Solid state devices produced by organometallic plasma developed resists
  申请人：Bell Telephone Laboratories, Incorporated

  公开号：US04396704A1

  公开（公告）日：1983-08-02

  Solid state devices are produced by dry etching of a resist film to produce a negative resist pattern. The film comprises a polymer typically containing a halogen, and at least one type of silicon-containing or nonsilicon-containing organometallic monomer. The radiation, typically X-ray radiation, locks the monomer or monomers into the polymer, with a subsequent fixing step removing the unlocked monomer or monomers in the unirradiated portion of the resist. The film is then exposed to a plasma comprising oxygen, which removes the unirradiated portion at a faster rate than the radiated portion, producing a negative resist pattern. The plasma development is typically accomplished by reactive ion etching. Sensitizers can be used to extend the wavelength response of the films, typically into the ultraviolet or visible regions.

  固态器件是通过干法蚀刻抗蚀膜来制造负性抗蚀图案的。该膜包括通常含有卤素的聚合物，以及至少一种含硅或不含硅的有机金属单体。辐射，通常是X射线辐射，将单体或单体锁定到聚合物中，随后的固定步骤将未锁定的单体或单体从抗蚀剂未辐射部分中去除。然后将膜暴露于包含氧气的等离子体中，后者以比辐射部分更快的速度去除未辐射部分，从而产生负性抗蚀图案。等离子体开发通常通过反应性离子刻蚀实现。可以使用增敏剂来扩展膜的波长响应，通常扩展到紫外或可见区域。
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Si: MVol.C, 80, page 222 - 225
  作者：

  DOI：——

  日期：——
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: Si: MVol.C, 22, page 68 - 71
  作者：

  DOI：——

  日期：——

表征谱图