triphenylsulfonium 1,1,3,3,3-pentafluoro-2-(4-methacryloyloxy-butyryloxy)-propane-1-sulfonate | 1213754-75-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 脂肪酰基
• 英文名称: triphenylsulfonium 1,1,3,3,3-pentafluoro-2-(4-methacryloyloxy-butyryloxy)-propane-1-sulfonate
• 英文别名: Triphenylsulfonium 1,1,3,3,3-pentafluoro-2-(4-methacryloyloxy-butyryloxy)-propane-1-sulfonate；1,1,3,3,3-pentafluoro-2-[4-(2-methylprop-2-enoyloxy)butanoyloxy]propane-1-sulfonate;triphenylsulfanium
• CAS: 1213754-75-6
• 化学式: C₁₁H₁₂F₅O₇S*C₁₈H₁₅S
• 分子量: 646.653
• InChiKey: MXLCXTIOKUGCPS-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.28
• 重原子数：
  43
• 可旋转键数：
  12
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.24
• 拓扑面积：
  119
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  12

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  triphenylsulfonium 2-(4-chlorobutyryloxy)-1,1,3,3,3-pentafluoropropane-1-sulfonate 、 2,2'-亚甲基双-(4-甲基-6-叔丁基苯酚) 、 sodium methacrylate 、 4-甲基-2-戊酮 在 sodium iodide 作用下， 以 N-甲基乙酰胺 、 二氯甲烷 、 水 为溶剂， 以72%的产率得到triphenylsulfonium 1,1,3,3,3-pentafluoro-2-(4-methacryloyloxy-butyryloxy)-propane-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  POLYMERIZABLE ANION-CONTAINING SULFONIUM SALT AND POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS

  摘要：

  提供具有式（1）的可聚合含阴离子的亚砜盐，其中R1为H、F、甲基或三氟甲基，R2、R3和R4为C1-C10烷基、烯基或氧代烷基或C6-C18芳基、芳基烷基或芳氧代烷基，或R2、R3和R4中的两个可以结合在一起形成与S的环，A为C1-C10有机基团，n为0或1。该亚砜盐在暴露于高能辐射时生成非常强的磺酸。还提供了包含从该亚砜盐衍生的聚合物的抗蚀组合物。

  公开号：

  US20100055608A1

文献信息

• Polymerizable anion-containing sulfonium salt and polymer, resist composition, and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US08057985B2

  公开（公告）日：2011-11-15

  A polymerizable anion-containing sulfonium salt having formula (1) is provided wherein R1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R2, R3 and R4 are C1-C10 alkyl, alkenyl or oxoalkyl or C6-C18 aryl, aralkyl or aryloxoalkyl, or two of R2, R3 and R4 may bond together to form a ring with S, A is a C1-C20 organic group, and n is 0 or 1. The sulfonium salt generates a very strong sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation. A resist composition comprising a polymer derived from the sulfonium salt is also provided.

  提供了一种具有公式（1）的可聚合阴离子含硫鎓盐，其中R1为H、F、甲基或三氟甲基，R2、R3和R4为C1-C10烷基、烯基或氧代烷基或C6-C18芳基、芳基烷基或芳基氧代烷基，或者R2、R3和R4中的两个可以结合在一起形成一个环，其中S，A为C1-C20有机基团，n为0或1。该硫鎓盐在高能辐射下产生非常强的磺酸。还提供了一种包含从硫鎓盐衍生的聚合物的抗蚀剂组合物。
• US8057985B2
  申请人：——

  公开号：US8057985B2

  公开（公告）日：2011-11-15
• POLYMERIZABLE ANION-CONTAINING SULFONIUM SALT AND POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Ohashi Masaki

  公开号：US20100055608A1

  公开（公告）日：2010-03-04

  A polymerizable anion-containing sulfonium salt having formula (1) is provided wherein R 1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R 2 , R 3 and R 4 are C 1 -C 10 alkyl, alkenyl or oxoalkyl or C 6 -C 18 aryl, aralkyl or aryloxoalkyl, or two of R 2 , R 3 and R 4 may bond together to form a ring with S, A is a C 1 -C 10 organic group, and n is 0 or 1. The sulfonium salt generates a very strong sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation. A resist composition comprising a polymer derived from the sulfonium salt is also provided.

  提供具有式（1）的可聚合含阴离子的亚砜盐，其中R1为H、F、甲基或三氟甲基，R2、R3和R4为C1-C10烷基、烯基或氧代烷基或C6-C18芳基、芳基烷基或芳氧代烷基，或R2、R3和R4中的两个可以结合在一起形成与S的环，A为C1-C10有机基团，n为0或1。该亚砜盐在暴露于高能辐射时生成非常强的磺酸。还提供了包含从该亚砜盐衍生的聚合物的抗蚀组合物。