tosyloxy bornane | 75277-37-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: tosyloxy bornane
• 英文别名: Isobornyl-toluol-4-sulfonat；Borneoltoluolsulfonat；Bornyl-tosylat；Bornyl tosylate；(1,7,7-trimethyl-2-bicyclo[2.2.1]heptanyl) 4-methylbenzenesulfonate
• CAS: 75277-37-1
• 化学式: C₁₇H₂₄O₃S
• 分子量: 308.442
• InChiKey: POEHXTIXLPAOGL-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  67 °C
• 沸点：
  405.4±14.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.18±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.5
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.65
• 拓扑面积：
  51.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  tosyloxy bornane 、 lithium diphenyl cuprate 以60%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  POSNER G. H.; BABIAK K. A., J. ORGANOMETAL. CHEM., 1979, 177, NO 1, 299-307

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  borneol 、 对甲苯磺酰氯 在 吡啶 作用下， 生成 tosyloxy bornane
  参考文献：
  名称：

  Pete, Jean-Pierre; Portella, Charles, Bulletin de la Societe Chimique de France, 1980, vol. 2, # 5-6, p. 275 - 282

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Hydroxy-amino thermally cured undercoat for 193 MN lithography
  申请人：Fujifilm Electronic Materials USA, Inc.

  公开号：EP1634917A1

  公开（公告）日：2006-03-15

  A photolithographic sensitive coated substrate comprising a thermally cured undercoat on the substrate, and a radiation-sensitive resist topcoat on the thermally cured undercoat.

  一种光刻敏感涂层基底，包括基底上的热固化底涂层和热固化底涂层上的辐射敏感抗蚀剂面涂层。
• Hydroxy-amino thermally cured undercoat for 193 nm lithography
  申请人：Arch Specialty Chemicals, Inc.

  公开号：US20020007018A1

  公开（公告）日：2002-01-17

  The present invention is directed to a thermally curable polymer composition, and a photolithographic substrate coated therewith, the composition comprising a hydroxyl-containing polymer, an amino cross-linking agent and a thermal acid generator. The thermally curable polymer composition may be dissolved in a solvent and used as an undercoat layer in deep UV lithography.

  本发明涉及一种热固化聚合物组合物以及涂有该组合物的照相平版印刷基底，该组合物包括一种含羟基聚合物、一种氨基交联剂和一种热酸发生剂。热固化聚合物组合物可以溶解在溶剂中，用作深紫外光刻的底层。
• Hydroxy-amino thermally cured undercoat for 193 NM lithography
  申请人：ARCH SPECIALTY CHEMICALS, INC.

  公开号：US20040219454A1

  公开（公告）日：2004-11-04

  The present invention is directed to a thermally curable polymer composition, and a photolithographic substrate coated therewith, the composition comprising a hydroxyl-containing polymer, an amino cross-linking agent and a thermal acid generator. The thermally curable polymer composition may be dissolved in a solvent and used as an undercoat layer in deep UV lithography.

  本发明涉及一种热固化聚合物组合物以及涂有该组合物的照相平版印刷基底，该组合物包括一种含羟基聚合物、一种氨基交联剂和一种热酸发生剂。热固化聚合物组合物可以溶解在溶剂中，用作深紫外光刻的底层。
• EP1163550A4
  申请人：——

  公开号：EP1163550A4

  公开（公告）日：2004-05-26
• HYDROXY-AMINO THERMALLY CURED UNDERCOAT FOR 193 NM LITHOGRAPHY
  申请人：FujiFilm Electronic Materials USA, Inc.

  公开号：EP1163550B1

  公开（公告）日：2007-05-30