6-acetoxybenzo[1,3]oxathiol-2-one | 74039-92-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物
• 英文名称: 6-acetoxybenzo[1,3]oxathiol-2-one
• 英文别名: 2-oxobenzo[d][1,3]oxathiol-6-yl acetate；6-acetoxy-benz[1,3]oxathiol-2-one；6-Acetoxy-benz[1,3]oxathiol-2-on；2-Oxo-1,3-benzoxathiol-6-yl acetate；(2-oxo-1,3-benzoxathiol-6-yl) acetate
• CAS: 74039-92-2
• 化学式: C₉H₆O₄S
• 分子量: 210.21
• InChiKey: GUSNSNUVUJEOOX-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  365.4±44.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.468±0.06 g/cm3(Temp: 20 °C; Press: 760 Torr)(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.11
• 拓扑面积：
  77.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  6-acetoxybenzo[1,3]oxathiol-2-one 在 三氯化铝 、 potassium carbonate 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 7.0h， 生成 5-acetyl-6-methoxybenzo[1,3]oxathiol-2-one
  参考文献：
  名称：

  Synthesis of Isomeric, Oxathiolone Fused Chalcones, and Comparison of Their Activity toward Various Microorganisms and Human Cancer Cells Line

  摘要：

  在酸性条件下，通过将适当的乙酰苯并[1,3]氧硫杂环戊-2-酮与苯甲醛缩合，制备了同分异构的氧硫杂环戊酮融合查耳酮。利用 HeLa 细胞对合成的化合物进行了细胞毒性活性筛选，并对黄体微球菌、金黄色葡萄球菌、伤寒沙门氏菌、大肠杆菌、普通变形杆菌进行了抗菌活性筛选，对白色念珠菌进行了抗真菌活性筛选，对结核分枝杆菌 H37Rv 和堪萨斯分枝杆菌菌株进行了抗结核活性筛选。

  DOI：

  10.1248/cpb.55.817
• 作为产物：
  描述：

  噻克索酮 、 乙酸酐 在 硫酸 作用下， 反应 0.5h， 以80%的产率得到6-acetoxybenzo[1,3]oxathiol-2-one
  参考文献：
  名称：

  1,3-苯并恶硫醇-2-酮衍生物作为潜在抗真菌剂的评价。

  摘要：

  背景技术在过去的几年中，真菌感染已经成为令人担忧的全球公共卫生问题。念珠菌病是由念珠菌属物种引起的疾病，并且已成为全世界主要针对免疫抑制患者的问题。最近，已经报道了耐药菌株和副作用是治疗念珠菌病的重要问题，必须通过鉴定新药来解决。目的这项工作的目的是合成一系列的1,3-苯并恶硫醇-2-酮衍生物XY苯并[d] [1,3]草硫醇-2-酮，并评估其对5种念珠菌的抗真菌活性。方法按照体外抗真菌筛选试验和最低抑菌浓度的测定，以酮康唑为参比药物，按照CLSI方案进行。通过溶血和MTT（Vero细胞）分析评估了活性最高的化合物的细胞毒性。结果化合物2（XY = 6-羟基-5-硝基，MIC = 4-32 µg / mL）和7（XY = 6-乙酰氧基-5-硝基，MIC = 16-64 µg / mL）显示出较好的结果目前的抗真菌剂的CLSI值（MIC = 0.04-250 µg / mL）。与酮康唑相比，这

  DOI：

  10.2174/1573406413666170704095113

文献信息

• RESIST COMPOSITION, PATTERNING PROCESS, AND BARIUM, CESIUM AND CERIUM SALTS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20170115566A1

  公开（公告）日：2017-04-27

  A resist composition comprising a base resin comprising acid labile group-containing recurring units and preferably acid generator-containing recurring units, and a sodium, magnesium, potassium, calcium, rubidium, strontium, yttrium, cesium, barium or cerium salt of α-fluorinated sulfonic acid bonded to an alkyl, alkenyl, alkynyl or aryl group exhibits a high resolution and sensitivity and forms a pattern of satisfactory profile with minimal LWR after exposure and development.

  一种抗蚀组合物包括基树脂，其中包含含酸敏感基团的重复单元，最好包含含酸发生剂的重复单元，以及与烷基、烯基、炔基或芳基结合的α-氟磺酸的钠、镁、钾、钙、铷、锶、钇、铯、钡或铈盐，表现出高分辨率和灵敏度，并在曝光和显影后形成具有最小LWR的满意轮廓图案。
• MONOMER, POLYMER, CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Hatakeyama Jun

  公开号：US20110294070A1

  公开（公告）日：2011-12-01

  A polymer is obtained from a hydroxyphenyl methacrylate monomer having an acid labile group substituted thereon. A positive resist composition comprising the polymer as a base resin has a very high contrast of alkaline dissolution rate before and after exposure, a high resolution, a good profile and minimal line edge roughness of a pattern after exposure, a retarded acid diffusion rate, and good etching resistance.

  一种聚合物是由一种具有酸敏感基团的羟基苯甲酸甲酯单体合成得到的。该聚合物作为基础树脂的正性光阻组合物具有极高的曝光前后碱溶解速率对比度、高分辨率、曝光后图案的良好轮廓和极小的线边粗糙度、缓慢的酸扩散速率和良好的蚀刻抗性。
• MONOMER, POLYMER, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20170008982A1

  公开（公告）日：2017-01-12

  A polymer comprising recurring units derived from a polymerizable monomer having two structures of hydroxyphenyl methacrylate having a hydroxy group substituted with an acid labile group is used as base resin in a positive resist composition, especially chemically amplified positive resist composition. The resist composition forms a resist film which is processed by lithography into a pattern of good profile having a high resolution, minimal edge roughness, and etch resistance.

  一种聚合物，包含由可聚合单体衍生的重复单元，该单体具有两种羟基苯甲酸甲酯结构，羟基上取代有酸不稳定基团，作为正性光刻胶组成中的基础树脂，尤其是化学放大正性光刻胶组成中。该光刻胶组成形成一种光刻胶膜，通过光刻技术加工成具有高分辨率、最小边缘粗糙度和蚀刻抗性的良好轮廓图案。
• NITROGEN-CONTAINING MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Sagehashi Masayoshi

  公开号：US20120183904A1

  公开（公告）日：2012-07-19

  A chemically amplified positive resist composition of better performance can be formulated using a polymer having a quencher incorporated therein, specifically a polymer comprising recurring units having a carbamate structure which is decomposed with an acid to generate an amino group and optionally recurring units having an acid labile group capable of generating a carboxyl and/or hydroxyl group under the action of an acid. The polymer is highly effective for suppressing diffusion of acid and diffuses little itself, and the composition forms a pattern of rectangular profile at a high resolution.

  一种化学增感正向光阻组合物可以使用具有淬灭剂的聚合物制备，具体来说，该聚合物包含具有碳酸酯结构的重复单元，该碳酸酯结构在酸的作用下分解生成氨基团，并且可以包含具有酸敏感基团的重复单元，该酸敏感基团在酸的作用下能够生成羧基和/或羟基团。该聚合物对于抑制酸的扩散非常有效，并且本身扩散很少，组合物形成高分辨率的矩形剖面图案。
• POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：HATAKEYAMA Jun

  公开号：US20110171580A1

  公开（公告）日：2011-07-14

  A positive resist composition comprising a polymer having a tetrahydrobenzocycloheptane-substituted secondary or tertiary carboxyl group ester as an acid labile group exhibits a high contrast of alkaline dissolution rate before and after exposure, a high resolution, a good pattern profile and minimal edge roughness after exposure, a significant effect of suppressing acid diffusion rate, and improved etching resistance.

  一种正性光刻胶组合物，包括具有四氢苯并环庚烷取代的次级或三级羧酸酯作为酸敏基团的聚合物，表现出高对比度的碱溶解速率，在曝光前后具有高分辨率，曝光后具有良好的图案轮廓和最小的边缘粗糙度，具有抑制酸扩散速率的显著效果，并提高了蚀刻抗性。