4-bromo-3,3,4,4-tetrafluorobutyl benzoate | 1000185-37-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4-bromo-3,3,4,4-tetrafluorobutyl benzoate
• 英文别名: 4-Bromo-3,3,4,4-tetrafluorobutyl benzoate；(4-bromo-3,3,4,4-tetrafluorobutyl) benzoate
• CAS: 1000185-37-4
• 化学式: C₁₁H₉BrF₄O₂
• 分子量: 329.089
• InChiKey: VIPOKRIYOGYHRJ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  287.4±40.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.552±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.7
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.36
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-bromo-3,3,4,4-tetrafluorobutyl benzoate 在 sodium dithionite 、 碳酸氢钠 作用下， 以 水 、 乙腈 为溶剂， 反应 3.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  NOVEL SULFONATE SALTS AND DERIVATIVES, PHOTOACID GENERATORS, RESIST COMPOSITIONS, AND PATTERNING PROCESS

  摘要：

  磺酸盐的化学式为：HOCH2CH2CF2CF2SO3−M+，其中M+是Li、Na、K、铵或四甲基铵离子。从这些盐中衍生的烷基盐、肟磺酸盐和磺酰氧亚胺在化学增强型抗蚀剂组合物中是有效的光酸发生剂。

  公开号：

  US20070298352A1
• 作为产物：
  描述：

  sodium benzoate 、 1,4-二溴-1,1,2,2-四氟丁烷 以 二甲基亚砜 为溶剂， 反应 3.5h， 生成 4-bromo-3,3,4,4-tetrafluorobutyl benzoate
  参考文献：
  名称：

  NOVEL SULFONATE SALTS AND DERIVATIVES, PHOTOACID GENERATORS, RESIST COMPOSITIONS, AND PATTERNING PROCESS

  摘要：

  磺酸盐的化学式为：HOCH2CH2CF2CF2SO3−M+，其中M+是Li、Na、K、铵或四甲基铵离子。从这些盐中衍生的烷基盐、肟磺酸盐和磺酰氧亚胺在化学增强型抗蚀剂组合物中是有效的光酸发生剂。

  公开号：

  US20070298352A1

文献信息

• Sulfonate salts and derivatives, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US07928262B2

  公开（公告）日：2011-04-19

  Sulfonate salts have the formula: HOCH2CH2CF2CF2SO3−M+ wherein M+ is a Li, Na, K, ammonium or tetramethylammonium ion. Onium salts, oxime sulfonates and sulfonyloxyimides derived from these salts are effective photoacid generators in chemically amplified resist compositions.

  磺酸盐的化学式为：HOCH2CH2CF2CF2SO3−M+，其中M+代表锂离子、钠离子、钾离子、铵离子或四甲基铵离子。由这些盐衍生的Onium盐、肟磺酸盐和磺酰氧肟盐在化学增感抗蚀剂组合物中是有效的光酸发生剂。
• US7928262B2
  申请人：——

  公开号：US7928262B2

  公开（公告）日：2011-04-19
• US8030515B2
  申请人：——

  公开号：US8030515B2

  公开（公告）日：2011-10-04
• NOVEL SULFONATE SALTS AND DERIVATIVES, PHOTOACID GENERATORS, RESIST COMPOSITIONS, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：KOBAYASHI Katsuhiro

  公开号：US20070298352A1

  公开（公告）日：2007-12-27

  Sulfonate salts have the formula: HOCH 2 CH 2 CF 2 CF 2 SO 3 − M + wherein M + is a Li, Na, K, ammonium or tetramethylammonium ion. Onium salts, oxime sulfonates and sulfonyloxyimides derived from these salts are effective photoacid generators in chemically amplified resist compositions.

  磺酸盐的化学式为：HOCH2CH2CF2CF2SO3−M+，其中M+是Li、Na、K、铵或四甲基铵离子。从这些盐中衍生的烷基盐、肟磺酸盐和磺酰氧亚胺在化学增强型抗蚀剂组合物中是有效的光酸发生剂。