4-ethyl-2,6-bis(hydroxymethyl)phenol | 36461-81-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4-ethyl-2,6-bis(hydroxymethyl)phenol
• 英文别名: 4-ethyl-2,6-bis-hydroxymethyl-phenol；2-Hydroxy-1.3-bis-hydroxymethyl-5-aethyl-benzol；4-Aethyl-2,6-bis-hydroxymethyl-phenol；2,6-Dimethylol-4-ethylphenol
• CAS: 36461-81-1
• 化学式: C₁₀H₁₄O₃
• 分子量: 182.219
• InChiKey: UIBRZPKYAKGQQZ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  85.8-86.6 °C
• 沸点：
  343.6±11.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.228±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.1
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  60.7
• 氢给体数：
  3
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-ethyl-2,6-bis(hydroxymethyl)phenol 在 manganese(IV) oxide 作用下， 以 氯仿 为溶剂， 反应 24.0h， 以53%的产率得到4-ethyl-2,6-diformylphenol
  参考文献：
  名称：

  一种新型卟啉衍生物及其金属配合物：电化学、光致发光、热、DNA 结合和超氧化物歧化酶活性研究

  摘要：

  摘要 本研究合成了一种新型卟啉-席夫碱配体(L)及其金属配合物(Cu(II)、Fe(III)、Mn(III)、Pt(II)和Zn(II))。在碱性介质中由 4-乙基苯酚和甲醛合成原料 4-乙基-2,6-双(羟甲基)苯酚 (A)。然后将化合物(A)氧化成4-乙基-2，6-二甲酰基苯酚(B)。起始化合物(A)和(B)以单晶形式获得。化合物(A)和(B)的结构通过X射线晶体学技术确定。卟啉配体（L）及其金属配合物通过分析和光谱方法进行了表征。研究了合成化合物的电子、电化学和热性能。研究了卟啉席夫碱复合物的超氧化物歧化酶活性 (SOD) 并讨论了结果。此外，复合物的 DNA（鱼精子 FSdsDNA）结合研究是使用 UV-vis 光谱进行的。与溴化乙锭 (EB) 的竞争研究表明，这些化合物通过嵌入方式与 DNA 有效相互作用。

  DOI：

  10.1016/j.molstruc.2015.10.013
• 作为产物：
  描述：

  聚合甲醛 、 4-乙基苯酚 在 sodium hydroxide 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 48.0h， 以67%的产率得到4-ethyl-2,6-bis(hydroxymethyl)phenol
  参考文献：
  名称：

  一种新型卟啉衍生物及其金属配合物：电化学、光致发光、热、DNA 结合和超氧化物歧化酶活性研究

  摘要：

  摘要 本研究合成了一种新型卟啉-席夫碱配体(L)及其金属配合物(Cu(II)、Fe(III)、Mn(III)、Pt(II)和Zn(II))。在碱性介质中由 4-乙基苯酚和甲醛合成原料 4-乙基-2,6-双(羟甲基)苯酚 (A)。然后将化合物(A)氧化成4-乙基-2，6-二甲酰基苯酚(B)。起始化合物(A)和(B)以单晶形式获得。化合物(A)和(B)的结构通过X射线晶体学技术确定。卟啉配体（L）及其金属配合物通过分析和光谱方法进行了表征。研究了合成化合物的电子、电化学和热性能。研究了卟啉席夫碱复合物的超氧化物歧化酶活性 (SOD) 并讨论了结果。此外，复合物的 DNA（鱼精子 FSdsDNA）结合研究是使用 UV-vis 光谱进行的。与溴化乙锭 (EB) 的竞争研究表明，这些化合物通过嵌入方式与 DNA 有效相互作用。

  DOI：

  10.1016/j.molstruc.2015.10.013

文献信息

• Novolac resin-containing resist underlayer film-forming composition using bisphenol aldehyde
  申请人：NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.

  公开号：US10017664B2

  公开（公告）日：2018-07-10

  Resist underlayer film-forming composition for forming resist underlayer film with high dry etching resistance, wiggling resistance and exerts good flattening property and embedding property for uneven parts, including resin obtained by reacting organic compound A including aromatic ring and aldehyde B having at least two aromatic hydrocarbon ring groups having phenolic hydroxy group and having structure wherein the aromatic hydrocarbon ring groups are bonded through tertiary carbon atom. The aldehyde B may be compound of Formula (1): The obtained resin may have a unit structure of Formula (2): Ar1 and Ar2 each are C6-40 aryl group. The organic compound A including aromatic ring may be aromatic amine or phenolic hydroxy group-containing compound. The composition may contain further solvent, acid and/or acid generator, or crosslinking agent. Forming resist pattern used for semiconductor production, including forming resist underlayer film by applying the resist underlayer film-forming composition onto semiconductor substrate and baking it.

  用于形成具有高干法蚀刻抗性、抗扭曲性并具有良好的平整性和嵌入性能的抗蚀底层膜形成组合物，包括通过使含有芳香环的有机化合物A和至少具有两个含酚羟基的芳香烃环团的醛B反应而获得的树脂，并具有芳香烃环团通过三级碳原子键合的结构。醛B可以是化合物的化学式（1）： 所得的树脂可能具有化学式（2）的单元结构： Ar1和Ar2各自是C6-40芳基团。含有芳香环的有机化合物A可能是芳香胺或含酚羟基的化合物。该组合物可能进一步含有溶剂、酸和/或酸发生剂，或交联剂。用于半导体生产的形成抗蚀图案，包括通过将抗蚀底层膜形成组合物涂覆在半导体衬底上并对其进行烘烤来形成抗蚀底层膜。
• 一种4-取代-2，6-二甲基苯酚的工艺制备方法
  申请人：成都泰蓉生物科技有限公司

  公开号：CN109942376A

  公开（公告）日：2019-06-28

  本发明公开了一种4‑取代‑2，6‑二甲基苯酚的工艺制备方法，本发明制备方法通过优化改进制备路线方法，优化反应条件，改善后处理及纯化方法，降低了操作危险等级和生产成本；对反应用容器设备的抗腐蚀等级要求低，操作安全性好，后处理绿色环保，得到的4‑取代‑2，6‑二甲基苯酚杂质含量低，在提高收率的同时大大提高了中间体产品的纯度和质量，改善后续原料药产品生产过程中工艺控制的难度和提高后续原料药产品质量和合格率；此制备方法各步骤操作简单，溶剂及工艺条件安全易得，可实现了环保绿色生产，具有广阔的应用前景。
• ALLYLOXY DERIVATIVE, RESIST UNDERLAYER FORMING COMPOSITION USING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING RESIST UNDERLAYER AND SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME
  申请人：Merck Patent GmbH

  公开号：US20210181636A1

  公开（公告）日：2021-06-17

  The present invention provides a resist underlayer forming composition, which is well in heat resistance and gap filling. Further, the present invention provides methods of manufacturing a resist underlayer and semiconductor device using it. [Means for Solution] A composition comprising a allyloxy derivative having a specific group and a solvent, and methods of manufacturing a resist underlayer and semiconductor device using it.

  本发明提供了一种具有良好耐热性和填隙性的抗阻层形成组合物。此外，本发明还提供了使用该组合物制造抗阻层和半导体器件的方法。[解决方案手段] 包括具有特定基团的烯丙氧衍生物和溶剂的组合物，以及使用该组合物制造抗阻层和半导体器件的方法。
• The '2+1' Construction of Homooxacalix[3]arenes Possessing Different Substituents on Their Upper Rims.
  作者：Kazunori TSUBAKI、Koichiro MUKOYOSHI、Tadamune OTSUBO、Kaoru FUJI

  DOI：10.1248/cpb.48.882

  日期：——

  Several homoxacalix[3]arenes possessing different substituents on their upper rims were synthesized in yields of 7-20% by a condensation reaction between the p-substituted phenol dimer and monomer under acidic high-dilution conditions.

  在酸性高稀释条件下，通过对取代苯酚二聚体和单体之间的缩合反应，合成了几种上缘具有不同取代基的均二十碳六[3]烷，收率为 7-20%。
• Novolak compounds useful as adhesion promoters for epoxy resins
  申请人：Minnesota Mining and Manufacturing Company

  公开号：US05859153A1

  公开（公告）日：1999-01-12

  A composition useful as a powder coating comprises an epoxy resin and a novolak compound or resin having a structure obtained from the reaction of a substituted phenol such as cresol and an aldehyde to form a substituted bis(hydroxymethyl) phenol intermediate which is then reacted with a polyhydroxyphenol containing adjacent hydroxyl groups such as catechol to yield a polyhydroxyphenol-endcapped novolak compound or resin.

  一种用作粉末涂料的组合物包括环氧树脂和诺伍拉克化合物或树脂，其结构是从取代酚（如甲酚）和醛反应得到的取代双(羟甲基)酚中间体，然后与含有相邻羟基的多羟基酚（如邻苯二酚）反应，形成多羟基酚端基的诺伍拉克化合物或树脂。