【課題】良好なラインエッジラフネス(LER)でレジストパターンを製造できる化合物、該化合物に由来する構造単位を有する樹脂及び該樹脂を含むレジスト組成物の提供。【解決手段】式(I)で表される化合物。[R1、R2はOH又は式(R−1)〜(R−3)で表される基。*はAr1又はAr2との結合位。Ar1は、置換基を有していてもよい炭素数6〜36の芳香族炭化水素環。Ar2は、置換基を有していてもよい炭素数6〜36の芳香族炭化水素環。]【選択図】なし
题目:提供能够制造具有良好线边粗糙度(LER)的光阻图案的化合物,具有来自该化合物的结构单元的
树脂以及包含该
树脂的光阻组成物。
解决方案:化合物由式(I)表示。[R1,R2是OH或由基式(R-1)〜(R-3)表示的基团。 *是与Ar1或Ar2结合的位。 Ar1是具有取代基的芳香族
碳环,其
碳数为6〜36。 Ar2是具有取代基的芳香族
碳环,其
碳数为6〜36。]
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