dichlorosilicium bis(trifluoromethanesulfonate) | 27607-73-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机磺酸及其衍生物
• 英文名称: dichlorosilicium bis(trifluoromethanesulfonate)
• 英文别名: dichlorobis(trifluoromethylsulfonyloxy)silane；Dichlorsilandiylbis(trifluormethansulfonat)；Siliciumdichlorid-bis(trifluormethansulfonat)；[Dichloro(trifluoromethylsulfonyloxy)silyl] trifluoromethanesulfonate
• CAS: 27607-73-4
• 化学式: C₂Cl₂F₆O₆S₂Si
• 分子量: 397.132
• InChiKey: BJTWCZBKYZNMNE-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  235.1±50.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.912±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.63
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  104
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  12

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  dichlorosilicium bis(trifluoromethanesulfonate) 、 silver trifluoromethanesulfonate 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 3.0h， 生成 Silantetrayltetrakis(trifluormethansulfonat)
  参考文献：
  名称：

  Uhlig, Wolfram, Chemische Berichte, 1992, vol. 125, # 1, p. 47 - 54

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  Chlorine(I) trifluoromethanesulfonate 在 四氯化硅 作用下， 生成 dichlorosilicium bis(trifluoromethanesulfonate)
  参考文献：
  名称：

  氯（I）和溴（I）三氟甲磺酸盐和溴（I）氟硫酸盐的进一步反应

  摘要：

  据报道，CF 3 SO 2 OX（X = Cl，Br）与某些共价无机氯化物的取代亲电脱卤反应。这些反应导致以极高的收率形成XX'（X，X'Cl，Br）和几种新的三氟甲磺酸酯衍生物。氯（I）三氟甲磺酸盐也氧化添加到不饱和无机基质（如CO，SO 2和SF 4）中，形成新化合物。CF 3 SO 2 OCl的反应性与FSO 2 OBr相当，并且给出了两者之间的一些比较。

  DOI：

  10.1016/s0022-1139(00)83128-0
• 作为试剂：
  描述：

  2-deoxy-1-O-acetyl-3-O-benzyl-5-O-diethylthiocarbamoyl-D-ribofuranoside 、 O,O-二(三甲基甲硅烷基)胸苷 在 dichlorosilicium bis(trifluoromethanesulfonate) 作用下， 以 四氯化碳 、 甲苯 为溶剂， 反应 27.0h， 生成 O-[[(2R,3S,5S)-5-(5-methyl-2,4-dioxopyrimidin-1-yl)-3-phenylmethoxyoxolan-2-yl]methyl] N,N-diethylcarbamothioate 、 O-[[(2R,3S,5R)-5-(5-methyl-2,4-dioxopyrimidin-1-yl)-3-phenylmethoxyoxolan-2-yl]methyl] N,N-diethylcarbamothioate
  参考文献：
  名称：

  Highly Stereoselective Synthesis of 2′-Deoxy-α-ribonucleosides and 2-Deoxy-α-C-ribofuranosides by Remote Stereocontrolled Glycosylation

  摘要：

  通过利用 5-O-diethylthio carbamoyl 指导基团进行有效的远程立体控制，成功地开发了一种新的高效方法，用于催化 2-脱氧核糖衍生物与各种三甲基硅烷化亲核物进行高 α 选择性 N-和 C-糖基化反应。制备出了几种 2′-脱氧-α-核苷及其 C-类似物的前体，产量高，立体选择性强。

  DOI：

  10.1246/cl.1997.389

文献信息

• Synthesis and Fundamental Studies of (H₃Ge)<i>_x</i>SiH₄_-<i>_x</i> Molecules:  Precursors to Semiconductor Hetero- and Nanostructures on Si
  作者：Cole J. Ritter、Changwu Hu、Andrew V. G. Chizmeshya、John Tolle、Douglas Klewer、Ignatius S. T. Tsong、John Kouvetakis

  DOI：10.1021/ja051411o

  日期：2005.7.13

  epitaxial layers and coherent islands (quantum dots), with Ge-rich stoichiometries SiGe, SiGe(2), SiGe(3), and SiGe(4) reflecting the Si/Ge content of the corresponding precursor. The layers grow directly on Si(100) at unprecedented low temperatures of 300-450 degrees C and display homogeneous compositional and strain profiles, low threading defect densities, and atomically planar surfaces circumventing entirely

  已证明分子 (H(3)Ge)(x)SiH(4)(-)(x) (x = 1-4) 的整个 silyl-germyl 序列的合成。这些包括以前未知的 (H(3)Ge)(2)SiH(2)、(H(3)Ge)(3)SiH 和 (H(3)Ge)(4)Si 物种以及 H (3) GeSiH(3) 类似物，它以实际高纯度产率获得，作为半导体应用中乙硅烷和二锗烷的可行替代品。这些分子的特征在于 FTIR、多核 NMR、质谱和卢瑟福背向散射。使用密度泛函理论研究结构、热化学和振动特性。实验和理论数据的详细比较用于证实特定分子结构的合成。此处描述的 (H(3)Ge)(x)SiH(4)(-)(x) 化合物家族不仅具有内在的分子意义，而且还提供了一种独特的途径，用于开发一类新的硅基半导体，包括外延层和相干岛（量子点），富含 Ge 的化学计量比 SiGe、SiGe(2)、SiGe(3) 和 SiGe(4) 反映了相应前驱体的
• Zur synthese und reaktivität aminofunktioneller silyltriflate
  作者：Wolfram Uhlig、Carola Tretner

  DOI：10.1016/0022-328x(94)88004-2

  日期：1994.3

  The highly reactive silyltriflates are valuable silylating reagents. Aminosubstituted silyltriflates R(Et2N)3-nSiOTfn (n = 1, 2) are obtained by treatment of di-, tri- and tetraaminosilanes with trifluoromethanesulfonic acid. The title compounds show a versatile reactivity towards nucleophiles. Reactions with a stoichiometric ratio of 1:1 proceed exclusively under substitution of the triflate group

  高反应性的甲硅烷基三氟甲磺酸盐是有价值的甲硅烷基化试剂。通过用三氟甲磺酸处理二，三和四氨基硅烷，获得氨基取代的甲硅烷基三氟甲磺酸盐R（Et 2 N）3- n SiOTf n（n = 1，2）。标题化合物显示出对亲核试剂的通用反应性。化学计量比为1：1的反应仅在三氟甲磺酸酯基团的取代下进行。氨基显示出惰性行为。因此，标题化合物是氨基甲硅烷基的理想递质。它们已通过NMR光谱（29 Si，1 H）进行了表征。
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: F: PerFHalOrg.2, 1.3.1, page 76 - 99
  作者：

  DOI：——

  日期：——
• Schmeisser, M.; Sartori, P.; Lippsmeier, B., Chemische Berichte, 1970, vol. 103, p. 868 - 879
  作者：Schmeisser, M.、Sartori, P.、Lippsmeier, B.

  DOI：——

  日期：——
• Schmeisser,M. et al., Chemische Berichte, 1970, vol. 103, p. 868 - 879
  作者：Schmeisser,M. et al.

  DOI：——

  日期：——