Thermal stability of carbonyl radicals Part I. Straight-chain and branched C4 and C5 acyl radicals
作者:S. Jagiella、H. G. Libuda、F. Zabel
DOI:10.1039/a909557h
日期:——
The competition between thermal decomposition (kdis) and O2 addition (kO2) of linear and branched C4 and C5 alkanoyl (R-C(•)O, R=alkyl) radicals has been studied in a photochemical reaction chamber made from stainless steel (v=12 L). RCO radicals were prepared by continuous photolysis of Br2–RC(O)H–O2–NO2–N2 mixtures at wavelengths 420 nm. The products CO and RC(O)O2NO2 were analyzed by long-path IR
已在不锈钢 (v=12 L)。RCO 自由基通过 Br2–RC(O)H–O2–NO2–N2 混合物在 420 nm 波长下的连续光解制备。使用 FT-IR 光谱仪通过长程 IR 吸收分析产物 CO 和 RC(O)O2NO2。速率常数比 kdis/kO2 在 317 K 下测定正丁酰基、正戊酰基、3-甲基丁酰基、2-甲基丙酰基和 2-甲基丁酰基,以及 2,2-二甲基丙酰基(=新戊酰基,叔丁基-CO)自由基。总压力为 1 bar (M=N2+O2)。采用乙酰化 kO2 的文献值,单分子分解速率常数 kdis 由测量的 kdis/kO2 比率得出。在 298 K、1 bar、M=O2+N2 下,对于 CH3CO 中的每个 H 原子连续被甲基取代(对应于 R 的支化增加),kdis 增加 35、54 和 24 倍。对于 2,2-二甲基丙酰基自由基的单分子分解,在温度范围内推导出 Arrhenius