1-(2-Hydroxypropyl)-benzotriazol | 82131-97-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 苯并三唑类
• 英文名称: 1-(2-Hydroxypropyl)-benzotriazol
• 英文别名: (benzotriazol-1-yl)-propan-2-ol；1-benzotriazol-1-yl-propan-2-ol；1-(2-Hydroxy-propyl)-benztriazol；1-(Benzotriazol-1-yl)propan-2-ol
• CAS: 82131-97-3
• 化学式: C₉H₁₁N₃O
• 分子量: 177.206
• InChiKey: VGIQZFVQVQAEAZ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  50.9
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-(2-Hydroxypropyl)-benzotriazol 在 4-二甲氨基吡啶 、 Pseudomonas fluorescens Amano AK lipase 、 N,N'-二环己基碳二亚胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 42.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  制备各种对映体纯的（苯并三唑-1-基）-和（苯并三唑-2-基）-烷-2-醇

  摘要：

  （S）-（-）-（Benzotriazol-1-yl）-和（S）-（-）-（benzotriazol-2-yl）-alkan-2-ols 7a - 9a，7b - 9b及其（R） -（+）-乙酸盐10a – 12a和10b – 12b通过荧光假单胞菌（Amano AK）的脂肪酶以高对映体过量的形式制备，其中乙酸叔丁酯催化外消旋醇4a – 6a和4b – 6b的对映选择性乙酰化。-丁基甲基醚或甲苯，在23°C下。该转化的对映选择性取决于E值为30至57的烷基链的长度。由1 H-苯并三唑和相应的卤代酮合成了数个苯并三唑取代的酮1a – 3a和1b – 3b。在水中或含有5％v / v的水的有机溶剂中，在30°C下用贝克酵母将这些化合物进行立体选择性还原，得到（S）-（-）-醇。在外消旋醇4a - 6a和4b - 6b的动力学拆分中观察到更好的立体选择性（ee = 69–92％，转化率为44–5

  DOI：

  10.1016/j.tetasy.2006.08.019
• 作为产物：
  描述：

  1-(1H-1,2,3-苯并噻唑-1-基)乙酮 在 sodium tetrahydroborate 作用下， 以 甲醇 为溶剂， 反应 0.67h， 以92%的产率得到1-(2-Hydroxypropyl)-benzotriazol
  参考文献：
  名称：

  制备各种对映体纯的（苯并三唑-1-基）-和（苯并三唑-2-基）-烷-2-醇

  摘要：

  （S）-（-）-（Benzotriazol-1-yl）-和（S）-（-）-（benzotriazol-2-yl）-alkan-2-ols 7a - 9a，7b - 9b及其（R） -（+）-乙酸盐10a – 12a和10b – 12b通过荧光假单胞菌（Amano AK）的脂肪酶以高对映体过量的形式制备，其中乙酸叔丁酯催化外消旋醇4a – 6a和4b – 6b的对映选择性乙酰化。-丁基甲基醚或甲苯，在23°C下。该转化的对映选择性取决于E值为30至57的烷基链的长度。由1 H-苯并三唑和相应的卤代酮合成了数个苯并三唑取代的酮1a – 3a和1b – 3b。在水中或含有5％v / v的水的有机溶剂中，在30°C下用贝克酵母将这些化合物进行立体选择性还原，得到（S）-（-）-醇。在外消旋醇4a - 6a和4b - 6b的动力学拆分中观察到更好的立体选择性（ee = 69–92％，转化率为44–5

  DOI：

  10.1016/j.tetasy.2006.08.019

文献信息

• Biotransformation von 1H-Benzotriazol undN-1-Alkylbenzotriazolen in vitro
  作者：Hermann Hoffmann、Rainer Pooth

  DOI：10.1002/ardp.19823150507

  日期：——

  1H‐Benzotriazol (1) wird durch Rattenlebermikrosomen zu 4‐ und 5‐Hydroxybenzotriazol (1a, 1b) oxidiert. N‐Alkylbenzotriazole 2–5 werden entalkyliert und am C‐Atom (ω‐1) hydroxyliert zu 4,5. Eine Bildung phenolischer Metabolite erfolgt nur in geringem Ausmaß.

  1H-苯并三唑 (1) 被大鼠肝微粒体氧化为 4- 和 5- 羟基苯并三唑 (1a, 1b)。N-烷基苯并三唑2-5在碳原子(ω-1)处脱烷基化和羟基化得到4,5。酚类代谢物的形成仅在很小的程度上发生。
• Photosensitive resin composition, photosensitive dry film, and pattern forming process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US11460774B2

  公开（公告）日：2022-10-04

  A photosensitive resin composition comprising a polymer containing a silphenylene skeleton and a fluorene skeleton and having a crosslinkable site in the molecule, a phenol compound having a Mw of 300-10,000, a photoacid generator, and a benzotriazole or imidazole compound has improved film properties. Even from a thick film, a fine size pattern can be formed.

  一种光敏树脂组合物具有更好的薄膜性能，该组合物由含有硅亚苯基骨架和芴骨架并在分子中具有可交联位点的聚合物、Mw 为 300-10,000 的苯酚化合物、光酸发生器和苯并三唑或咪唑化合物组成。即使是厚膜，也能形成细小的图案。
• PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE DRY FILM, AND PATTERN FORMING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP3671345B1

  公开（公告）日：2022-02-02
• Polishing composition and polishing method
  申请人：Matsuda Tsuyoshi

  公开号：US20070176140A1

  公开（公告）日：2007-08-02

  A first polishing composition is used in chemical mechanical polishing for removing one part of the portion of a conductive layer positioned outside a trench. A second polishing composition is used in chemical mechanical polishing for removing the remaining part of the portion of a conductive layer positioned outside the trench and the portion of a barrier layer positioned outside the trench. The first polishing composition contains a specific surfactant, a silicon oxide, a carboxylic acid, an anticorrosive, an oxidizing agent, and water. The second polishing composition contains colloidal silica, an acid, an anticorrosive, and a completely saponified polyvinyl alcohol.
• US4212754A
  申请人：——

  公开号：US4212754A

  公开（公告）日：1980-07-15