nonafluoro-tert-butyl methacrylate | 17526-97-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: nonafluoro-tert-butyl methacrylate
• 英文别名: NFTBMA；Perfluor-tert.-butyl methacrylat；Perfluor-tert-butyl-methacrylat；Perfluoro-t-butyl-methacrylat；1,1,1,3,3,3-Hexafluoro-2-(trifluoromethyl)propan-2-yl 2-methylprop-2-enoate；[1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-(trifluoromethyl)propan-2-yl] 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 17526-97-5
• 化学式: C₈H₅F₉O₂
• 分子量: 304.112
• InChiKey: JXVINEGBEPHVPO-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  30 °C(Press: 0.5 Torr)
• 密度：
  1.460±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.8
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.62
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  11

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  高氟叔丁醇 、 甲基丙烯酰氯 在 三乙胺 作用下， 以 乙醚 为溶剂， 以30.1%的产率得到nonafluoro-tert-butyl methacrylate
  参考文献：
  名称：

  三氟甲基取代的甲基丙烯酸甲酯的自由基聚合及其在压敏涂料中的应用

  摘要：

  三种CF 3取代的甲基丙烯酸甲酯（MMA），2,2,2-甲基丙烯酸三氟乙酯（TFEMA），1,1,1,3,3,3-甲基丙烯酸六氟异丙酯（HFIPMA）和九氟甲基丙烯酸叔丁基酯（NFTBMA）通过常规自由基聚合反应聚合，得到可透氧的聚合物，用于压敏涂料（PSP）。进行了苯乙烯与TFEMA，HFIPMA或NFTBMA的自由基共聚反应，以研究CF 3基团对可聚合性的影响。该Ë值按MMA（0.40） PHFIPMA> PNFTBMA = PMMA的顺序降低，这与玻璃化转变温度（T g）的顺序相对应。然而，发现通过氧的发光猝灭的整个过程的活化能为16.8（PMMA），13.0（PTFEMA），6.8（PHFIPMA）和4.3kJ mol -1（PNFTBMA）。因此，PNFTBMA的低温敏感性归因于其被CF 3基团取代的程度高以及其相对较高的T g值。©2013 Wiley Periodicals，Inc

  DOI：

  10.1002/pola.27076

文献信息

• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST PATTERN-FORMING METHOD, POLYMER, AND METHOD FOR PRODUCING COMPOUND
  申请人：JSR CORPORATION

  公开号：US20150323866A1

  公开（公告）日：2015-11-12

  A radiation-sensitive resin composition contains: a polymer having a structural unit that includes a group represented by formula (1); a radiation-sensitive acid generator; and an organic solvent. In the formula (1), R P represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and * denotes a binding site to a rest of the structural unit other than the group represented by the formula (1). It is preferred that R P in the formula (1) represents a monovalent organic group, and the monovalent organic group is an acid-nonlabile group. It is also preferred that R P in the formula (1) represents a monovalent organic group, and the monovalent organic group is an acid-labile group.

  一种辐射敏感的树脂组合物包含：具有结构单元的聚合物，该结构单元包括由公式（1）表示的基团；辐射敏感的酸发生剂；和有机溶剂。在公式（1）中，RP表示氢原子或一价有机基团，*表示与公式（1）中表示的基团以外的结构单元的其余部分的结合位点。优选的是，在公式（1）中，RP表示一价有机基团，该一价有机基团是不可酸解的基团。还优选在公式（1）中，RP表示一价有机基团，该一价有机基团是可酸解的基团。
• Perfluorotertiaryalkyl ethers
  申请人：Minnesota Mining and Manufacturing Company

  公开号：US03981928A1

  公开（公告）日：1976-09-21

  A monohydroxyalkyl, perfluorotertiaryalkyl ether, said monohydroxylalkyl group having no more than 16 carbon atoms and said perfluorotertiary alkyl group having the structure ##EQU1## where R.sub.f is a perfluoroalkyl group of less than 10 carbon atoms.

  一种单羟基烷基，全氟三级烷基醚，所述单羟基烷基基团具有不超过16个碳原子，所述全氟三级烷基基团具有结构##EQU1##其中R.sub.f是不超过10个碳原子的全氟烷基。
• PATTERN-FORMING METHOD, AND RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION
  申请人：JSR CORPORATION

  公开号：US20130230804A1

  公开（公告）日：2013-09-05

  A pattern-forming method includes providing a resist film on a substrate using a radiation-sensitive composition. The resist film is exposed. The exposed resist film is developed using a developer solution. The developer solution includes no less than 80% by mass of an organic solvent. The radiation-sensitive composition includes at least two components including a first polymer and a radiation-sensitive acid generator. The first polymer includes a structural unit having an acid-labile group. One or more components of the radiation-sensitive composition have a group represented by a formula (1). A − represents —N − —SO 2 —R D , —COO − , —O − or —SO 3 − . —SO 3 − does not directly bond to a carbon atom having a fluorine atom. R D represents a linear or branched monovalent hydrocarbon group, or the like. X + represents an onium cation. -A − X + (1)

  一种图案形成方法，包括使用辐射敏感组合物在基板上提供抗蚀膜。曝光抗蚀膜。使用显影剂溶液显影曝光的抗蚀膜。显影剂溶液包括不少于80％的有机溶剂。辐射敏感组合物包括至少两种组分，包括第一聚合物和辐射敏感酸发生剂。第一聚合物包括具有酸不稳定基团的结构单元。辐射敏感组合物的一个或多个组分具有由公式（1）表示的基团。A−表示—N−—SO2—RD，—COO−，—O−或—SO3−。—SO3−不直接与具有氟原子的碳原子结合。RD表示线性或支链的一价碳氢基团等。X+表示离子上阳离子。-A−X+（1）
• RESIN COMPOSITION, RESIST PATTERN-FORMING METHOD AND POLYMER
  申请人：JSR CORPORATION

  公开号：US20160185999A1

  公开（公告）日：2016-06-30

  A resin composition comprises a polymer comprising a structural unit that comprises a group represented by formula (1), and a solvent. In the formula (1), R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom or a monovalent organic group having 1 to 20 carbon atoms, wherein at least one of R 1 to R 4 has the fluorine atom or a group including the fluorine atom. R 5 represents a substituted or unsubstituted trivalent chain hydrocarbon group having 1 to 7 carbon atoms. * denotes a binding site to other moiety of the structural unit. The structural unit is preferably represented by any one of formulae (2-1) to (2-3). In the formulae (2-1) to (2-3), Z represents a group represented by formula (1).

  一种树脂组合物，包括聚合物和溶剂。该聚合物包括一个结构单元，该结构单元包括由公式（1）表示的基团，其中在公式（1）中，R1至R4分别独立地表示氢原子、氟原子或具有1至20个碳原子的单价有机基团，其中至少有一个R1至R4包括氟原子或包括氟原子的基团。R5表示具有1至7个碳原子的取代或未取代的三价链烃基团。*表示与结构单元的其他部分结合的位点。该结构单元最好由公式（2-1）至（2-3）中的任何一个表示。在公式（2-1）至（2-3）中，Z表示由公式（1）表示的基团。
• HEXAFLUORONEOPENTYL ALCOHOL, ITS DERIVATIVES, FLUORINATED POLYMERS AND THEIR USE
  申请人：DAIKIN INDUSTRIES, LIMITED

  公开号：EP0364587A1

  公开（公告）日：1990-04-25

  This invention provides (i) novel hexafluoroneopentyl alcohol, (ii) its derivatives, i.e., hexafluoroneopentyl (meth)acrylate, (iii) fluorinated polymers comprising said acrylate as the monomer component, and (iv) optical materials comprising said fluorinated polymers.

  本发明提供(i)新型六氟酮戊醇，(ii)其衍生物，即六氟酮戊基（甲基）丙烯酸酯，(iii)包含上述丙烯酸酯作为单体成分的含氟聚合物，以及(iv)包含上述含氟聚合物的光学材料。