9-(4-hydroxybenzyl)-10-(4-hydroxyphenyl)anthracene | 1291058-46-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 木脂素、新木脂素和相关化合物 - 芳基萘木脂素
• 英文名称: 9-(4-hydroxybenzyl)-10-(4-hydroxyphenyl)anthracene
• 英文别名: 4-[[10-(4-Hydroxyphenyl)anthracen-9-yl]methyl]phenol
• CAS: 1291058-46-2
• 化学式: C₂₇H₂₀O₂
• 分子量: 376.455
• InChiKey: YEKWCXNXBLQUTF-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  591.7±45.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.258±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  7.3
• 重原子数：
  29
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  5.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.04
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  乙二醇乙醚 、 9-(4-hydroxybenzyl)-10-(4-hydroxyphenyl)anthracene 在 碳酸乙烯酯 、 sodium hydroxide 作用下， 反应 6.0h， 以62.8 g的产率得到
  参考文献：
  名称：

  JP5778462

  摘要：

  公开号：
• 作为产物：
  描述：

  9-蒽甲醛 、 苯酚 在 硫酸 作用下， 以 甲醇 为溶剂， 反应 24.0h， 以53.3%的产率得到9-(4-hydroxybenzyl)-10-(4-hydroxyphenyl)anthracene
  参考文献：
  名称：

  ANTHRACENE DERIVATIVE, COMPOUND OBTAINED THEREFROM, COMPOSITION,CURED PRODUCT, AND PROCESS FOR PRODUCING SAME

  摘要：

  本发明的目的是提供一种具有蒽特性的蒽衍生物，例如高碳密度、高熔点、高折射率和对紫外线具有荧光性质等，并具有来自双酚结构的反应多样性，以及其制备方法。本发明揭示了以下一般式（1）所表示的蒽衍生物：在式（1）中，X和Y分别独立地表示羟基芳基基团。上述的X和Y优选为羟基苯基基团。此外，该蒽衍生物可以通过以下过程制备：在含氧惰性有机溶剂和酸性催化剂的存在下，使来自酚和蒽-9-甲醛中至少一种化合物发生反应。

  公开号：

  US20120232240A1

文献信息

• ALLYLOXY DERIVATIVE, RESIST UNDERLAYER FORMING COMPOSITION USING THE SAME, AND METHOD OF MANUFACTURING RESIST UNDERLAYER AND SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME
  申请人：Merck Patent GmbH

  公开号：US20210181636A1

  公开（公告）日：2021-06-17

  The present invention provides a resist underlayer forming composition, which is well in heat resistance and gap filling. Further, the present invention provides methods of manufacturing a resist underlayer and semiconductor device using it. [Means for Solution] A composition comprising a allyloxy derivative having a specific group and a solvent, and methods of manufacturing a resist underlayer and semiconductor device using it.

  本发明提供了一种具有良好耐热性和填隙性的抗阻层形成组合物。此外，本发明还提供了使用该组合物制造抗阻层和半导体器件的方法。[解决方案手段] 包括具有特定基团的烯丙氧衍生物和溶剂的组合物，以及使用该组合物制造抗阻层和半导体器件的方法。
• POLYELECTROLYTE FILM
  申请人：Kuraray Co., Ltd.

  公开号：EP2889940A1

  公开（公告）日：2015-07-01

  Provided is a polymer electrolyte membrane that is formed of a fluorine free material, is soft and hardly cracks, and is excellent in hot water resistance. The polymer electrolyte membrane is obtained by crosslinking a block copolymer (Z) containing a polymer block (A) containing a structural unit derived from an aromatic vinyl compound and having an ion-conducting group; and an amorphous polymer block (B) containing a structural unit derived from an unsaturated aliphatic hydrocarbon and free of any ion-conducting group, the block copolymer (Z) being crosslinked with a crosslinking agent (X) having, in a molecule thereof, two or more aromatic rings of which one or more hydrogen atoms are substituted with hydroxy groups.

  本发明提供了一种聚合物电解质膜，该膜由无氟材料制成，质地柔软，不易开裂，并且具有优异的耐热水性。该聚合物电解质膜是通过交联嵌段共聚物（Z）而获得的，嵌段共聚物（Z）包含一个聚合物嵌段（A），该聚合物嵌段（A）的结构单元来自芳香族乙烯基化合物，并具有一个离子导电基团；以及一个无定形聚合物嵌段（B），该无定形聚合物嵌段（B）的结构单元来自不饱和脂肪烃，且不含任何离子导电基团，嵌段共聚物（Z）与交联剂（X）交联，交联剂（X）的分子中具有两个或多个芳香环，其中一个或多个氢原子被羟基取代。
• Allyloxy derivative, resist underlayer forming composition using the same, and method of manufacturing resist underlayer and semiconductor device using the same
  申请人：Merck Patent GmbH

  公开号：US11366389B2

  公开（公告）日：2022-06-21

  The present invention provides a resist underlayer forming composition, which is well in heat resistance and gap filling. Further, the present invention provides methods of manufacturing a resist underlayer and semiconductor device using it. [Means for Solution] A composition comprising a allyloxy derivative having a specific group and a solvent, and methods of manufacturing a resist underlayer and semiconductor device using it.

  本发明提供了一种具有良好热稳定性和填充性能的抗蚀剂底层组合物。此外，本发明还提供了使用该组合物制造抗蚀剂底层和半导体器件的方法。 【技术方案】本发明提供了一种包含特定基团的丙烯酰氧基衍生物和溶剂的组合物，以及使用该组合物制造抗蚀剂底层和半导体器件的方法。
• JP5731818
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——
• US8895632B2
  申请人：——

  公开号：US8895632B2

  公开（公告）日：2014-11-25