(2-phenoxyphenyl)(phenyl)sulfane | 92050-37-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: (2-phenoxyphenyl)(phenyl)sulfane
• 英文别名: 2-Phenoxy-diphenylsulfid；2-Phenoxyphenyl(phenyl)sulfane；1-phenoxy-2-phenylsulfanylbenzene
• CAS: 92050-37-8
• 化学式: C₁₈H₁₄OS
• 分子量: 278.375
• InChiKey: YUDPDPSBLSRFNW-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  43-44 °C
• 沸点：
  169.5-172 °C(Press: 0.6 Torr)
• 密度：
  1.20±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.5
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  34.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2-(三甲基硅)苯基三氟甲烷磺酸盐 在 硫代环己酮 、 cesium fluoride 作用下， 以 乙二醇二甲醚 为溶剂， 反应 16.0h， 以17%的产率得到(2-phenoxyphenyl)(phenyl)sulfane
  参考文献：
  名称：

  芳烃与亚砜的反应

  摘要：

  据报道亚砜与芳烃的AS-O键插入反应。该反应代表了芳烃化学中半极性单键插入的罕见情况。机理研究表明，芳烃引发的硫叶立德是关键中间体，它通过一个连续的过程进一步将其亚甲基转移至羰基化合物，从而生成环氧化物和硫醚。

  DOI：

  10.1021/ol5036326

文献信息

• AlCl3-Mediated Aromatic Phenylthiation with N-Phenylthiophthalimide.
  作者：Satoshi SUWA、Takeshi SAKAMOTO、Yasuo KIKUGAWA

  DOI：10.1248/cpb.47.980

  日期：——

  N-Phenylthiophthalimide reacts with AlCl3 or TiCl4 in areanes to give phenylthiated arenes alone via a phenylsulfenium ion intermediate, modified neglect of diatomic overlap (MNDO) molecular orbital calculations of which revealed that the positive charge preferentially populates the sulfur atom rather than the phenyl group in the phenylsulfenium ion.

  N-苯硫基邻苯二甲酰亚胺与烷烃中的 AlCl3 或 TiCl4 反应，通过苯硫离子中间体生成苯硫基烷烃，其修正的忽略二原子重叠（MNDO）分子轨道计算显示，正电荷优先填充苯硫离子中的硫原子而不是苯基。
• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND RESIST FILM, RESIST-COATED MASK BLANKS, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND PHOTOMASK EACH USING THE COMPOSITION
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US20150010855A1

  公开（公告）日：2015-01-08

  There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition containing (α) a compound represented by the formula (αI) capable of generating an acid having a size of 200 Å 3 or more in volume and (β) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and the formula (αI) is defined as herein, and a resist film formed using the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, a resist-coated mask blanks coated with the resist film, a resist pattern forming method comprising exposing the resist film and developing the exposed film, a photomask obtained by exposing and developing the resist-coated mask blanks, a method for manufacturing an electronic device, comprising the resist pattern forming method and an electronic device manufactured by the manufacturing method of an electronic device.

  提供一种感光或辐射敏感的组合物，其中包含(α)一种化合物，其由公式(αI)表示，能够产生大小为200Å3或更大的体积的酸，以及(β)一种化合物，能够在受到光辐射或辐射时产生酸，公式(αI)的定义如本文所述。还提供了使用该感光或辐射敏感组合物形成的光阻膜，涂有光阻膜的光阻涂层掩模坯料，包括曝光光阻膜和显影曝光后膜的光阻图案形成方法，通过曝光和显影涂有光阻涂层的掩模坯料获得的光掩模，以及一种电子器件的制造方法，包括光阻图案形成方法和制造电子器件的电子器件制造方法，以及通过该电子器件制造方法制造的电子器件。
• Polyimide precursor, polyimide, varnish, polyimide film, and substrate
  申请人：Ube Industries, Ltd.

  公开号：US10174166B2

  公开（公告）日：2019-01-08

  A polyimide precursor comprising a repeating unit represented by the following chemical formula (1): in which A is a divalent group of an aromatic diamine or an aliphatic diamine, from which amino groups have been removed; and X1 and X2 are each independently hydrogen, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkylsilyl group having 3 to 9 carbon atoms, wherein the polyimide precursor comprises at least one type of repeating unit represented by the chemical formula (1) in which A is a group represented by chemical formula (2) or (3): in which m independently represents 0 to 3 and n independently represents 0 to 3; Y1, Y2 and Y3 each independently represent at least one selected from the group consisting of hydrogen atom, methyl group and trifluoromethyl group; and Q and R each independently represent direct bond, or at least one of —NHCO—, —CONH—, —COO— and —OCO—, in which Z and W each independently represent a divalent aromatic group having 6 to 18 carbon atoms; and Y4 represents hydrogen atom, or a monovalent organic group.

  一种聚酰亚胺前体，包含由以下化学式（1）表示的重复单元： 其中，A 是芳香族二胺或脂肪族二胺的二价基团，其中的氨基已被去除；X1 和 X2 各自独立地是氢、具有 1 至 6 个碳原子的烷基或具有 3 至 9 个碳原子的烷基硅基、 其中聚酰亚胺前体包括至少一种由化学式（1）表示的重复单元，其中 A 是由化学式（2）或（3）表示的基团： 其中 m 独立地代表 0 至 3，n 独立地代表 0 至 3；Y1、Y2 和 Y3 各自独立地代表至少一个选自氢原子、甲基和三氟甲基的基团；以及 Q 和 R 各自独立地代表直接键或 -NHCO-、-CONH-、-COO- 和 -OCO- 中的至少一种、 其中 Z 和 W 各自独立地代表具有 6 至 18 个碳原子的二价芳香基团；Y4 代表氢原子或一价有机基团。
• SMITH, P. A. S.;MUNAVU, R. M.;GILBERTSON, S. R., TETRAHEDRON LETT., 1984, 25, N 28, 2949-2952
  作者：SMITH, P. A. S.、MUNAVU, R. M.、GILBERTSON, S. R.

  DOI：——

  日期：——
• US20140272692A1
  申请人：——

  公开号：US20140272692A1

  公开（公告）日：2014-09-18