Cyclopenten-2-carbonsaeure | 123589-23-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: Cyclopenten-2-carbonsaeure
• 英文别名: Cyclopenta-1,4-diene-1-carboxylic acid
• CAS: 123589-23-1
• 化学式: C₆H₆O₂
• mdl: MFCD19229091
• 分子量: 110.112
• InChiKey: SSQJVWMCDAVRGW-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  210 °C(Solv: methanol, 50% (67-56-1))
• 沸点：
  244.8±29.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.287±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.1
• 重原子数：
  8
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.166
• 拓扑面积：
  37.3
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Cyclopenten-2-carbonsaeure 在 氯化亚砜 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 生成 cyclopenta-1,4-diene-1-carbonyl chloride
  参考文献：
  名称：

  作为 PPAR-α 配体激动剂的新型 1,2,4-恶二唑化合物：抗肿瘤化合物设计的新策略

  摘要：

  通过天然配体调节 PPAR-α 是开发抗癌疗法的新策略。基于3-(吡啶-3-基)-5-(噻吩-3-基)-1,2,4-恶二唑（天然化合物）结构，设计并合成了一系列具有抗肿瘤潜力的16种化合物。在 A-498 和 DU 145 肿瘤细胞系中评估了这些合成 1,2,4-恶二唑的细胞毒性和 PPAR 激动剂活性。初步生物学评估表明，大多数这些合成 1,2,4-恶二唑的细胞毒性（磺胺罗丹明 B 测定）低于阳性对照 WY-14643。关于 PPAR-α 调节，化合物16的活性最强，EC 50 = 0.23–0.83 μM (PPAR-α)。此外，化合物16与天然化合物具有相似的活性 (EC 50 = 0.18–0.77 μM)，并且在 RPTEC 和 WPMY-1 细胞系（非肿瘤细胞）中的毒性 (CC 50 = 81.66–92.67 μM) 低于天然化合物。天然化合物。通过观察化学结构和活性之间的联

  DOI：

  10.1039/d3md00063j
• 作为产物：
  描述：

  甲醇 、 2,4-环戊二烯-1-亚基甲酮 生成 Cyclopenten-2-carbonsaeure
  参考文献：
  名称：

  激光闪光光解法对六元环邻重氮酮进行沃尔夫重排的动力学

  摘要：

  DOI：

  10.1021/j100348a028

文献信息

• AROMATIC IMIDE COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING SAME
  申请人：AZ ELECTRONIC MATERIALS (LUXEMBOURG) S.A.R.L.

  公开号：US20150299132A1

  公开（公告）日：2015-10-22

  [Problem] to provide an aromatic imide compound wherein the sensitivity for visible light such as g-line, h-line etc. is increased and solubility is also improved. [Means for solving problem] The aromatic imide compound of the invention is a compound represented by the formula (1) below (in the formula, R 1 represents a haloalkyl group having 1 to 7 carbon atoms or a haloaryl group, R 2 represents a group containing a substituted or unsubstituted, aliphatic or aromatic group which may have a heteroatom, and adjacent R 2 s may form an imido group by connecting each other, R 3 represent a halogen atom or a hydrocarbon group, m is zero or an integer of 1 or more, n is zero or an integer of 1 or more, and a sum of n and m is 1 to 6). These compounds are obtained by following processes. A halogenated naphtharic anhydride is reacted with an aromatic group-containing hydrocarbon such as ethynylbenzene to prepare a naphthalic anhydride substituted by an aromatic group-containing group. The obtained compound is then reacted with hydroxylamine hydrochloride to be made N-hydoxyimidization. Finally, the resultant compound is reacted with a sulfonyl halide such as trifluoromethylsulfonyl chloride to obtain the objective compound.

  [问题] 提供一种芳香酰亚胺化合物，其中对于可见光如g线、h线等的敏感性增加，溶解度也得到改善。 [解决问题的方法] 本发明的芳香酰亚胺化合物是以下式(1)所表示的化合物(在该式中，R1表示具有1至7个碳原子的卤代烷基或卤代芳基，R2表示含有取代或未取代的脂肪族或芳香族基团，该基团可能具有杂原子，相邻的R2可以通过连接形成亚胺基团，R3表示卤素原子或碳氢基团，m为0或1或更多的整数，n为0或1或更多的整数，n和m的总和为1至6)。这些化合物是通过以下过程获得的。将卤代萘酐与含芳香族基团的烃类化合物如乙炔基苯反应，制备出被芳香族基团取代的萘酐。然后将获得的化合物与盐酸羟胺反应，得到N-羟基亚胺。最后，将所得化合物与三氟甲磺酰卤如三氟甲磺酰氯反应，得到目标化合物。
• Mechanism of 2-iodophenol photolysis in aqueous solution
  作者：Florent Bonnichon、Gottfried Grabner、Claire Richard、Bernadette Lavédrine

  DOI：10.1039/b208423f

  日期：2003.2.27

  The photolysis of 2-iodophenol (2-IPhOH) was investigated by means of laser flash photolysis and product studies. Two major heterolytic dehalogenation pathways could be evidenced upon irradiation of anionic 2-IPhO−: ring contraction leading to cyclopentadienic acids via a Wolff rearrangement (ϕa=0.11±0.02), and α-ketocarbene formation (ϕc=0.03±0.01) yielding products characteristic for triplet carbene

  的光解 2-碘苯酚 （2-IPhOH）通过 激光闪光光解和产品研究。两种主要的杂化脱卤通路可以在阴离子2-国际物理奥林匹克的照射来证明- ：环收缩导致cyclopentadienic酸经由一个沃尔夫重排反应（φ一个= 0.11 ± 0.02），和α-ketocarbene形成（φ c ^ = 0.03 ± 0.01），得到的产品为三重态特性卡宾反应性。相反，中性2-IPhOH的辐照主要导致碳-卤素键（ϕ = 0.08 ± 0.01），随后形成联苯在脱氧溶液中。这种特定的反应是其他卤化反应所没有的酚类，由C–I键的低能量解释。根据所涉及的激发态的多样性和内部重原子效应，对卤代苯酚系列中杂化途径的相对效率进行了讨论。
• PATTERN FORMING METHOD, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST FILM
  申请人：Enomoto Yuichiro

  公开号：US20120282548A1

  公开（公告）日：2012-11-08

  Provided is a pattern forming method comprising (i) a step of forming a film from an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, (ii) a step of exposing the film, and (iii) a step of developing the exposed film by using an organic solvent-containing developer, wherein the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises (A) a resin capable of decreasing the solubility for an organic solvent-containing developer by the action of an acid, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (D) a solvent, and (G) a compound having at least either one of a fluorine atom and a silicon atom and having basicity or being capable of increasing the basicity by the action of an acid.

  提供的是一种形成图案的方法，包括(i)使用光致或辐射敏感树脂组成物形成薄膜的步骤，(ii)曝光薄膜的步骤，以及(iii)使用有机溶剂含有的显影剂显影曝光后的薄膜的步骤，其中光致或辐射敏感树脂组成物包括(A)一种能够通过酸的作用降低有机溶剂含有的显影剂的溶解度的树脂，(B)一种能够在光致或辐射照射下生成酸的化合物，(D)一种溶剂，以及(G)一种具有氟原子和硅原子中的至少一种，并具有碱性或能够通过酸的作用增加碱性的化合物。
• NOVEL HETEROCYCLIC AROMATIC COMPOUND AND POLYMER
  申请人：Kita Yasuyuki

  公开号：US20110190461A1

  公开（公告）日：2011-08-04

  A heterocycle-containing aromatic compound represented by the formula: A-B, and an electrically conductive polymer obtained by oxidative polymerization of the heterocycle-containing aromatic compound as a monomer are provided. In the above formula, A represents a substituted or unsubstituted thiophene ring group, or a substituted or unsubstituted pyrrole ring group; B represents a substituted or unsubstituted hydrocarbon aromatic ring group, a substituted or unsubstituted thiophene ring group, or a substituted or unsubstituted pyrrole ring group; the ring represented by A and the ring represented by B are directly linked; however, A and B represent structures that are different from each other. The compound can be produced by a coupling reaction using a hypervalent iodine reactant.

  提供一种含杂环芳香化合物的分子，其化学式为A-B，以及通过将含杂环芳香化合物氧化聚合得到的电导性高分子作为单体。在上述化学式中，A代表取代或未取代的噻吩环基团或取代或未取代的吡咯环基团；B代表取代或未取代的碳氢芳香环基团、取代或未取代的噻吩环基团或取代或未取代的吡咯环基团。由A和B代表的环直接连接；但是，A和B代表的结构不同。该化合物可以通过使用高价碘试剂进行偶联反应来制备。
• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME, PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE, ELECTRONIC DEVICE AND RESIN
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US20150132688A1

  公开（公告）日：2015-05-14

  There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising (P) a resin having (a) a repeating unit represented by the specific formula; a resist film formed using the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition; a pattern forming method comprising (i) a step of forming a film by using the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, (ii) a step of exposing the film, and (iii) a step of developing the exposed film by using a developer to form a pattern; a method for manufacturing an electronic device, comprising the pattern forming method; and an electronic device manufactured by the manufacturing method of an electronic device.

  提供了一种光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物，其中包括（P）具有（a）由特定公式表示的重复单元的树脂；使用该光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物形成的抗蚀膜；包括（i）使用该光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物形成膜的步骤，（ii）曝光膜的步骤，以及（iii）使用显影剂显影曝光的膜以形成图案的图案形成方法；一种制造电子设备的方法，包括图案形成方法；以及通过电子设备的制造方法制造的电子设备。