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5-bromo-7-nitroindoline-1-carbonyl chloride | 959794-48-0

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
5-bromo-7-nitroindoline-1-carbonyl chloride
英文别名
5-Bromo-7-nitro-2,3-dihydroindole-1-carbonyl chloride;5-bromo-7-nitro-2,3-dihydroindole-1-carbonyl chloride
5-bromo-7-nitroindoline-1-carbonyl chloride化学式
CAS
959794-48-0
化学式
C9H6BrClN2O3
mdl
——
分子量
305.515
InChiKey
HRAMDJVYQADQBR-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.9
  • 重原子数:
    16
  • 可旋转键数:
    0
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.22
  • 拓扑面积:
    66.1
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    3

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    5-bromo-7-nitroindoline-1-carbonyl chloride4-叔丁基苯胺正丁基锂 作用下, 以 二氯甲烷 为溶剂, 以63%的产率得到
    参考文献:
    名称:
    胺和醇的光敏保护基团:N-取代的 7-硝基二氢吲哚的光解
    摘要:
    伯胺和仲胺的代表性例子被保护为 5-溴-7-硝基二氢吲哚的脲衍生物 4,甚至更有效地作为衍生自 5,7-二硝基二氢吲哚的脲 8,通过与氨基甲酰氯 3 和7、分别。4 或 8 的脱保护是通过在室温下在 Pyrex 容器中在中性条件下和排除空气中进行紫外线照射来实现的。以类似的方式,二硝基二氢吲哚用作醇类和酚类的保护基团;衍生的氨基甲酸酯5和9同样可以以高产率光化学脱保护。
    DOI:
    10.1055/s-2007-985580
  • 作为产物:
    描述:
    5-溴-7-硝基二氢吲哚三光气吡啶 作用下, 以 二氯甲烷 为溶剂, 反应 0.5h, 以94%的产率得到5-bromo-7-nitroindoline-1-carbonyl chloride
    参考文献:
    名称:
    胺和醇的光敏保护基团:N-取代的 7-硝基二氢吲哚的光解
    摘要:
    伯胺和仲胺的代表性例子被保护为 5-溴-7-硝基二氢吲哚的脲衍生物 4,甚至更有效地作为衍生自 5,7-二硝基二氢吲哚的脲 8,通过与氨基甲酰氯 3 和7、分别。4 或 8 的脱保护是通过在室温下在 Pyrex 容器中在中性条件下和排除空气中进行紫外线照射来实现的。以类似的方式,二硝基二氢吲哚用作醇类和酚类的保护基团;衍生的氨基甲酸酯5和9同样可以以高产率光化学脱保护。
    DOI:
    10.1055/s-2007-985580
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文献信息

  • Wavelength-Selective Caged Surfaces: How Many Functional Levels Are Possible?
    作者:Verónica San Miguel、Christian G. Bochet、Aránzazu del Campo
    DOI:10.1021/ja110572j
    日期:2011.4.13
    The possibility of wavelength-selective cleavage of seven photolabile caging groups from different families has been studied. Amine-, thiol-, and carboxylic-terminated organosilanes were caged with o-nitrobenzyl (NVOC, NPPOC), benzoin (BNZ), (coumarin-4-yl)methyl (DEACM), 7-nitroindoline (DNI, BNI), and p-hydroxyphenacyl (pHP) derivatives. Caged surfaces modified with the different chromophores were prepared, and their photosensitivity at selected wavelengths was quantified. Different pairs, trios, and quartets of chromophore combinations with wavelength-selective photoresponse were identified. Our results show, for the first time, the possibility of generating surfaces with up to four different and independently addressable functional levels. In addition, this manuscript presents the first systematic comparison of the photolytic properties of different photolabile groups under different irradiation conditions.
  • Photocleavable Protecting Groups
    申请人:Barone Anthony D.
    公开号:US20100324266A1
    公开(公告)日:2010-12-23
    Novel compounds are provided, which are useful as linking groups in chemical synthesis, preferably in the solid phase synthesis of oligonucleotides and polypeptides. These compounds are generally photolabile and comprise protecting groups which can be removed by photolysis to unmask a reactive group. The protecting group has the general formula Y, wherein Y is a chemical structure as shown in FIG. 1 . Also provided is a method of forming, from component molecules, a plurality of compounds on a support, each compound occupying a separate predefined region of the support, using the protected compounds described above.
  • Light-Sensitive Protecting Groups for Amines and Alcohols: The Photosolvolysis of N-Substituted 7-Nitroindolines
    作者:Alfred Hassner、Diana Yagudayev、Tarun Pradhan、Abraham Nudelman、Boaz Amit
    DOI:10.1055/s-2007-985580
    日期:2007.9
    Representative examples of primary and secondary amines were protected as urea derivatives 4 of 5-bromo-7-nitro-indoline and even more efficiently as ureas 8 derived from 5,7-di-nitroindoline, via high-yield reactions with carbamoyl chlorides 3 and 7, respectively. Deprotection of 4 or 8 was achieved in high yields by UV irradiation at room temperature in Pyrex vessels under neutral conditions and
    伯胺和仲胺的代表性例子被保护为 5-溴-7-硝基二氢吲哚的脲衍生物 4,甚至更有效地作为衍生自 5,7-二硝基二氢吲哚的脲 8,通过与氨基甲酰氯 3 和7、分别。4 或 8 的脱保护是通过在室温下在 Pyrex 容器中在中性条件下和排除空气中进行紫外线照射来实现的。以类似的方式,二硝基二氢吲哚用作醇类和酚类的保护基团;衍生的氨基甲酸酯5和9同样可以以高产率光化学脱保护。
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