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1,3-diamino-2,4-bis(trifluoromethyl)benzene | 106877-23-0

中文名称
——
中文别名
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英文名称
1,3-diamino-2,4-bis(trifluoromethyl)benzene
英文别名
1,3-Bis(trifluoromethyl)-2,4-diaminobenzene;2,4-bis(trifluoromethyl)benzene-1,3-diamine
1,3-diamino-2,4-bis(trifluoromethyl)benzene化学式
CAS
106877-23-0
化学式
C8H6F6N2
mdl
——
分子量
244.139
InChiKey
HTIHDDCJOHQDPI-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    243.1±40.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1.516±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.3
  • 重原子数:
    16
  • 可旋转键数:
    0
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.25
  • 拓扑面积:
    52
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    8

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    三氟溴甲烷间苯二胺碳酸甲丙酯 、 sodium metabisulfite 、 二氧化硫 作用下, 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂, 65.0 ℃ 、500.0 kPa 条件下, 反应 2.0h, 以7%的产率得到1,3-diamino-2,4-bis(trifluoromethyl)benzene
    参考文献:
    名称:
    Tordeux, Marc; Langlois, Bernard; Wakselman, Claude, Journal of the Chemical Society. Perkin transactions I, 1990, # 8, p. 2293 - 2299
    摘要:
    DOI:
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文献信息

  • Procédé de perfluoroalkylation de dérivés aromatiques
    申请人:RHONE-POULENC CHIMIE
    公开号:EP0206951A2
    公开(公告)日:1986-12-30
    La présente invention concerne un procédé de perfluoroalkylation de dérivés aromatiques par réaction, dans une première étape, dudit dérivé aromatique du dioxyde de soufre et d'un métal choisi parmi le zinc, l'aluminium, le manganèse, le cadmium, le magnésium, l'étain, le fer, le nickel et le cobalt dans un solvant aprotique polaire suivie, dans une deuxième étape, par l'addition d'un bromure ou d'un iodure de perfluoroalkyle.
    本发明涉及一种芳香族衍生物的全氟烷基化工艺,其方法是第一步将上述芳香族衍生物与二氧化硫和一种选自锌、铝、锰、镉、镁、锡、铁、镍和钴的金属在极性非烷基溶剂中反应,然后在第二步中加入全氟烷基溴化物或碘化物。
  • Photosensitive heat resistant resin precursor composition
    申请人:TORAY INDUSTRIES, INC.
    公开号:EP1388758A1
    公开(公告)日:2004-02-11
    A photosensitive resin precursor composition exhibiting an excellent film thickness uniformity contains: a heat resistant resin precursor polymer; a radiation sensitive compound; and a solvent expressed by formula (1): R1 represents an alkyl group having a carbon number in the range of 1 to 3. R2, R3, R4, and R5 each represent hydrogen or an alkyl group having a carbon number in the range of 1 to 3, and 1 represents an integer in the range of 0 to 3.
    一种具有优异膜厚均匀性的光敏树脂前体组合物包含:一种耐热树脂前体聚合物;一种辐射敏感化合物;以及一种由式(1)表示的溶剂: R1 代表碳数在 1 至 3 之间的烷基。R2、R3、R4 和 R5 分别代表氢或碳原子数在 1 至 3 之间的烷基,1 代表 0 至 3 之间的整数。
  • Photosensitive resin precursor composition
    申请人:Toray Industries, Inc.
    公开号:US20040053156A1
    公开(公告)日:2004-03-18
    A photosensitive resin precursor composition exhibiting an excellent film thickness uniformity contains: a heat resistant resin precursor polymer; a radiation sensitive compound; and a solvent expressed by formula (1): 1 R 1 represents an alkyl group having a carbon number in the range of 1 to 3. R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 each represent hydrogen or an alkyl group having a carbon number in the range of 1 to 3, and l represents an integer in the range of 0 to 3.
    一种具有优异膜厚均匀性的光敏树脂前体组合物包含:耐热树脂前体聚合物;辐射敏感化合物;以及由式(1)表示的溶剂: 1 R 1 代表碳原子数在 1 至 3 之间的烷基。R 2 , R 3 , R 4 和 R 5 各自代表氢或碳原子数在 1 至 3 之间的烷基,l 代表 0 至 3 之间的整数。
  • US4731450A
    申请人:——
    公开号:US4731450A
    公开(公告)日:1988-03-15
  • US6696112B2
    申请人:——
    公开号:US6696112B2
    公开(公告)日:2004-02-24
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