合成设计用于结合平面与半导体表面的带状
卟啉作为模型
染料,以研究在金属氧化物半导体纳米颗粒表面上的敏化过程。添加表带以限制
卟啉-
卟啉的堆积和与半导体的接触,同时限制了锚定基团的方向。二酯ZnPorOMe 2(2b)由Zn(II)5,10,15,20-
四苯基卟啉(Zn
TPP)制成,其中5和15个内消旋苯基由1,4-亚苯基双(丁基-4-氧基)束缚单元(表带)并在间位带有甲基
苯甲酸酯(锚定基团)。合成过程涉及有用的中间体二
溴化物ZnPorOBr 2(2a)。相应的不含
金属的H 2 PorOBr 2的X射线结构表明,在晶体中,条带位于大环上方,并相对于
卟啉平面倾斜。表征包括1 H- 1 H COSY,1 H- 13 C HMQC和
DEPT。与Zn
TPP相比,2b的光谱和电
化学性质变化不大,表明该性质不受系链或锚定基团的很大影响。2b的HOMO-LUMO间隙在2.14 V时是Zn
TPP衍
生物的典型特征。化合物2b与TiO