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cyclohexanemethyl propanoate | 2890-67-7

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
cyclohexanemethyl propanoate
英文别名
cyclohexylmethyl propanoate
cyclohexanemethyl propanoate化学式
CAS
2890-67-7
化学式
C10H18O2
mdl
——
分子量
170.252
InChiKey
ITMPLGUNZXHMGM-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
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  • 表征谱图
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计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3
  • 重原子数:
    12
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.9
  • 拓扑面积:
    26.3
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    cyclohexanemethyl propanoate异丁醛三乙胺双环己基(三氟甲烷磺酰氧基)硼烷 作用下, 以 正己烷二氯甲烷 为溶剂, 反应 3.0h, 生成 (2R,3S)-3-Hydroxy-2,4-dimethyl-pentanoic acid cyclohexylmethyl ester 、 (2R,3R)-3-Hydroxy-2,4-dimethyl-pentanoic acid cyclohexylmethyl ester
    参考文献:
    名称:
    硼介导的羧酸酯的羟醛反应:互补的反对称和顺选择性的不对称羟醛反应。
    摘要:
    详细描述了硼介导的羧酸酯的羟醛反应。与通常认为羧酸酯在烯醇硼形成的条件下是惰性的一般看法相反,丙酸酯被三氟甲磺酸硼和胺的某些组合烯醇化。更重要的是,可以通过明智地选择烯醇化试剂来控制羟醛反应的立体化学过程。用c-Hex2BOTf和三乙胺处理丙酸酯可制得抗醛醇缩合产物,而用Bu2BOTf和二异丙基乙胺处理丙酸酯可在与醛反应后选择性地生成顺醛醇缩合产物。已经开发了具有结构相关的,容易获得的手性去甲麻黄碱衍生的丙酸酯的互补抗和顺选择性不对称醛醇缩合反应。
    DOI:
    10.1021/jo0257896
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文献信息

  • SULFAMIDE AND SULFAMATE DERIVATIVES AS HISTONE DEACETYLASE INHIBITORS
    申请人:Smil David
    公开号:US20070293530A1
    公开(公告)日:2007-12-20
    This invention relates to compounds for the inhibition of histone deacetylase. More particularly, the invention provides for compounds of formula (I), and racemic and scalemic mixtures, diastereomers and enantiomers thereof: or an N-oxide, hydrate, solvate, pharmaceutically acceptable salt, prodrug or complex thereof, wherein Y, L, Z, W, M, R a , R b and R c are as defined in the specification.
    这项发明涉及用于抑制组蛋白去乙酰化酶的化合物。更具体地,该发明提供了符合式(I)的化合物,以及它们的外消旋和内消旋混合物、非对映体和对映体: 或其N-氧化物、合物、溶剂合物、药学上可接受的盐、前药或其复合物,其中Y、L、Z、W、M、R a 、R b 和R c 如规范中所定义。
  • Concerning the Boron-Mediated Aldol Reaction of Carboxylic Esters
    作者:Atsushi Abiko、Ji-Feng Liu、Satoru Masamune
    DOI:10.1021/jo960252b
    日期:1996.1.1
  • PHOTORESIST COMPOSITION
    申请人:MASUYAMA Tatsuro
    公开号:US20110065047A1
    公开(公告)日:2011-03-17
    The present invention provides a photoresist composition comprising a resin, an acid generator and a compound represented by the formula (I): wherein R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a C1-C4 alkyl group, A 1 represents a single bond or a C1-C2 alkylene group, R 4 and R 5 each independently represent a hydrogen atom or a C1-C2 alkyl group, R 6 and R 7 each independently represent a hydrogen atom etc.
  • US8530137B2
    申请人:——
    公开号:US8530137B2
    公开(公告)日:2013-09-10
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