2,4-Dihydroxy-3,5,5'-trimethyldiphenylmethan | 60211-21-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2,4-Dihydroxy-3,5,5'-trimethyldiphenylmethan
• 英文别名: 4-(2-Hydroxy-5-methylbenzyl)-2,6-dimethylphenol；4,2',6'-trimethyl-2,4'-methanediyl-di-phenol；4,2',6'-Trimethyl-2,4'-methandiyl-di-phenol；4-[(2-Hydroxy-5-methylphenyl)methyl]-2,6-dimethylphenol
• CAS: 60211-21-4
• 化学式: C₁₆H₁₈O₂
• 分子量: 242.318
• InChiKey: JUARNURQPJWTAZ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.2
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.25
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  聚合甲醛 、 2,6-二甲基苯酚 在 二乙胺 作用下， 生成 2,4-Dihydroxy-3,5,5'-trimethyldiphenylmethan
  参考文献：
  名称：

  Mannich base synthesis of bisphenols

  摘要：

  公开号：

  US02839586A1

文献信息

• Positive photoresist composition
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20020001769A1

  公开（公告）日：2002-01-03

  A positive photoresist composition includes (A) an alkali-soluble resin, in which part of phenolic hydroxyl groups is protected by an acid-decomposable group; (B) a quinonediazide ester; and (C) a compound which generates an acid upon irradiation of light with a wavelength of 365 nm. This positive photoresist composition can form a fine pattern of about 0.35 &mgr;m in the photolithographic process using i-ray (365 nm), is excellent in focal depth range properties in such an ultrafine region, and has a high sensitivity.

  一种正性光刻胶组合物包括：(A)碱溶性树脂，其中部分酚羟基被可分解酸的基团所保护；(B)醌噻嗪酯；以及(C)在波长为 365 纳米的光照射下产生酸的化合物。这种正性光刻胶组合物在使用 i-射线（365 纳米）的光刻工艺中可以形成约 0.35 &mgr;m 的精细图案，在这种超精细区域的焦深范围特性极佳，而且灵敏度高。
• US6475694B2
  申请人：——

  公开号：US6475694B2

  公开（公告）日：2002-11-05
• [EN] NOVEL ONIUM COMPOUND<br/>[FR] NOUVEAU COMPOSÉ D'ONIUM<br/>[JA] 新規オニウム化合物
  申请人：HOKKO CHEM IND CO

  公开号：WO2020032102A1

  公开（公告）日：2020-02-13

  硬化性が良好となる熱硬化性樹脂系組成物、および接着性、耐熱性が良好となる熱硬化性樹脂系硬化物を提供することを課題とする。解決手段として、下記の一般式（２'－２）等で表される、オニウムカチオンとフェノール誘導体からなる群から選ばれる少なくとも１種のフェノール誘導体のアニオン残基からなるオニウム塩、および当該オニウム塩を含有する硬化促進剤、並びに当該オニウム塩を含有する熱硬化性樹脂系組成物、および熱硬化性樹脂系硬化物を提供する。