4-(phenylcarbamoyl)benzenesulfonyl chloride | 26933-74-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4-(phenylcarbamoyl)benzenesulfonyl chloride
• CAS: 26933-74-4
• 化学式: C₁₃H₁₀ClNO₃S
• 分子量: 295.746
• InChiKey: JSCZEUFXVUQUPK-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.6
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  71.6
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-(phenylcarbamoyl)benzenesulfonyl chloride 在 水 作用下， 反应 18.0h， 以100%的产率得到4-phenylcarbamoyl-benzenesulfonic acid
  参考文献：
  名称：

  An ‘inside-out’ approach to suramin analogues

  摘要：

  An approach to the synthesis of suramin analogues has been realised, which avoids synthetic problems associated with conventional routes. The use of isobutyl ester protecting groups for sulfonic acids was crucial to the success of the strategy, because these were able to be cleanly deprotected with sodium iodide, yielding the sodium salts of the corresponding sulfonic acids. (C) 2009 Elsevier Ltd. All rights reserved.

  DOI：

  10.1016/j.tet.2009.03.033
• 作为产物：
  描述：

  4-(氯磺酰)苯甲酸 在 氯化亚砜 、 三乙胺 、 N,N-二甲基甲酰胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 19.0h， 生成 4-(phenylcarbamoyl)benzenesulfonyl chloride
  参考文献：
  名称：

  FLUORINATED SULFONATE ESTERS OF ARYL KETONES FOR NON-IONIC PHOTO-ACID GENERATORS

  摘要：

  非离子型光生酸(PAG)化合物被制备出来，它们含有一个含有全氟取代基的芳酮基团，该取代基位于酮羰基的α位置。这些非聚合PAGs在暴露于高能辐射，如深紫外或极紫外光时，会释放出磺酸。在100°C至150°C的后曝光烘烤(PEB)下，光生成的磺酸在暴露的抵抗层中具有较低的扩散速率，从而在开发后形成良好的线条图案。在较高温度下，PAGs也可以通过热反应形成磺酸。全氟取代基提供了改善的热稳定性和水解/亲核稳定性。

  公开号：

  US20180046077A1

文献信息

• US9983475B2
  申请人：——

  公开号：US9983475B2

  公开（公告）日：2018-05-29
• FLUORINATED SULFONATE ESTERS OF ARYL KETONES FOR NON-IONIC PHOTO-ACID GENERATORS
  申请人：International Business Machines Corporation

  公开号：US20180046077A1

  公开（公告）日：2018-02-15

  Non-ionic photo-acid generating (PAG) compounds were prepared that contain an aryl ketone group having a perfluorinated substituent alpha to the ketone carbonyl. The non-polymeric PAGs release a sulfonic acid when exposed to high energy radiation such as deep UV or extreme UV light. The photo-generated sulfonic acid has a low diffusion rate in an exposed resist layer subjected to a post-exposure bake (PEB) at 100° C. to 150° C., resulting in formation of good line patterns after development. At higher temperatures, the PAGs can also undergo a thermal reaction to form a sulfonic acid. The perfluorinated substituent provides improved thermal stability and hydrolytic/nucleophilic stability.

  非离子型光生酸(PAG)化合物被制备出来，它们含有一个含有全氟取代基的芳酮基团，该取代基位于酮羰基的α位置。这些非聚合PAGs在暴露于高能辐射，如深紫外或极紫外光时，会释放出磺酸。在100°C至150°C的后曝光烘烤(PEB)下，光生成的磺酸在暴露的抵抗层中具有较低的扩散速率，从而在开发后形成良好的线条图案。在较高温度下，PAGs也可以通过热反应形成磺酸。全氟取代基提供了改善的热稳定性和水解/亲核稳定性。
• An ‘inside-out’ approach to suramin analogues
  作者：Ross P. McGeary、Andrew J. Bennett、Quoc B. Tran、Johannes Prins、Benjamin P. Ross

  DOI：10.1016/j.tet.2009.03.033

  日期：2009.5

  An approach to the synthesis of suramin analogues has been realised, which avoids synthetic problems associated with conventional routes. The use of isobutyl ester protecting groups for sulfonic acids was crucial to the success of the strategy, because these were able to be cleanly deprotected with sodium iodide, yielding the sodium salts of the corresponding sulfonic acids. (C) 2009 Elsevier Ltd. All rights reserved.