1-phenyl-7-trimethylsilylmethyl-7,8,8-trimethyl-7,8-disilabicyclo<2.2.2>octa-2,5-diene | 208718-20-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 1-phenyl-7-trimethylsilylmethyl-7,8,8-trimethyl-7,8-disilabicyclo<2.2.2>octa-2,5-diene
• 英文别名: Trimethyl-[(2,3,3-trimethyl-1-phenyl-2,3-disilabicyclo[2.2.2]octa-5,7-dien-2-yl)methyl]silane；trimethyl-[(2,3,3-trimethyl-1-phenyl-2,3-disilabicyclo[2.2.2]octa-5,7-dien-2-yl)methyl]silane
• CAS: 208718-20-1
• 化学式: C₁₉H₃₀Si₃
• 分子量: 342.704
• InChiKey: SKCWIKZVJSKKQC-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.72
• 重原子数：
  22
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.47
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-phenyl-7-trimethylsilylmethyl-7,8,8-trimethyl-7,8-disilabicyclo<2.2.2>octa-2,5-diene 、 苯酚 以 环己烷 为溶剂， 生成 Dimethylsilyl-methyl-phenoxy-(trimethylsilylmethyl)silane 、 Dimethyl-[methyl(trimethylsilylmethyl)silyl]-phenoxysilane
  参考文献：
  名称：

  三甲基甲硅烷基甲基取代的掩蔽二硅烷的分子结构和光化学反应

  摘要：

  (Trimethylsilylmethyl)trimethyldisilene 是从 1-phenyl-7-trimethylsilylmethyl-7,8,8-trimethyl-7,8-disilabicyclo[2.2.2]octa-2,5-diene（掩蔽二硅烯）光化学生成的。讨论了酚类与二硅烷的加成反应的紫外光谱和区域选择性。掩蔽二硅烷的分子结构也通过单晶 X 射线衍射确定。

  DOI：

  10.1246/cl.1998.427
• 作为产物：
  描述：

  Chloro-[chloro(dimethyl)silyl]-methyl-(trimethylsilylmethyl)silane 、 lithium biphenyl 以 四氢呋喃 为溶剂， 以28%的产率得到1-phenyl-7-trimethylsilylmethyl-7,8,8-trimethyl-7,8-disilabicyclo<2.2.2>octa-2,5-diene
  参考文献：
  名称：

  三甲基甲硅烷基甲基取代的掩蔽二硅烷的分子结构和光化学反应

  摘要：

  (Trimethylsilylmethyl)trimethyldisilene 是从 1-phenyl-7-trimethylsilylmethyl-7,8,8-trimethyl-7,8-disilabicyclo[2.2.2]octa-2,5-diene（掩蔽二硅烯）光化学生成的。讨论了酚类与二硅烷的加成反应的紫外光谱和区域选择性。掩蔽二硅烷的分子结构也通过单晶 X 射线衍射确定。

  DOI：

  10.1246/cl.1998.427

文献信息

• Molecular Structure and Photochemical Reactions of Trimethylsilylmethyl-Substituted Masked Disilene
  作者：Takashi Hoshi、Ryusaku Shimada、Chizuko Kabuto、Takanobu Sanji、Hideki Sakurai

  DOI：10.1246/cl.1998.427

  日期：1998.5

  (Trimethylsilylmethyl)trimethyldisilene was generated photochemically from 1-phenyl-7-trimethylsilylmethyl-7,8,8-trimethyl-7,8-disilabicyclo[2.2.2]octa-2,5-diene (masked disilene). UV spectrum and regioselectivity of the addition reaction of phenols to the disilene were discussed. The molecular structure of the masked disilene was also determined by single-crystal X-ray diffraction.

  (Trimethylsilylmethyl)trimethyldisilene 是从 1-phenyl-7-trimethylsilylmethyl-7,8,8-trimethyl-7,8-disilabicyclo[2.2.2]octa-2,5-diene（掩蔽二硅烯）光化学生成的。讨论了酚类与二硅烷的加成反应的紫外光谱和区域选择性。掩蔽二硅烷的分子结构也通过单晶 X 射线衍射确定。