(3-Chloro-5-trifluoromethylpyridin-2-yl)-hydrazomethylenemalononitrile | 94038-89-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 吡啶及其衍生物
• 英文名称: (3-Chloro-5-trifluoromethylpyridin-2-yl)-hydrazomethylenemalononitrile
• 英文别名: 2-[[2-[3-Chloro-5-(trifluoromethyl)pyridin-2-yl]hydrazinyl]methylidene]propanedinitrile
• CAS: 94038-89-8
• 化学式: C₁₀H₅ClF₃N₅
• 分子量: 287.631
• InChiKey: UZWPOYWDYFFLLK-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  306.9±52.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.46±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.8
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.1
• 拓扑面积：
  84.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  8

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (3-Chloro-5-trifluoromethylpyridin-2-yl)-hydrazomethylenemalononitrile 以 乙二醇乙醚 、 水 为溶剂， 生成 5-amino-4-cyano-1-(3-chloro-5-trifluoromethylpyridin-2-yl)-1H-pyrazole
  参考文献：
  名称：

  Herbicidal 5-amino-1-phenyl pyrazole compounds

  摘要：

  该应用程序披露了除草的1-芳基吡唑，包含它们的组合物，制备它们的方法，以及通过预出苗或出苗后在需要控制的地点施用除草组合物来控制不良植物生长的方法。除草化合物具有以下通用结构：##STR1## 其中Ar为##STR2## R为氯，氰或硝基；R.sup.1为--C（O）CR.sup.11R.sup.12--O--R.sup.13的基团，其中R.sup.11和R.sup.12独立地为氢或烷基；R.sup.13为氢，烷基羰基，苯基羰基，苯甲基或烷基氨基磺酰；R.sup.2为氢，烷基，烷基羰基，烷氧基羰基，或--C（O）CR.sup.11R.sup.12--O--R.sup.13的基团；R.sup.3，R.sup.4，R.sup.6，R.sup.7独立地为氢或卤素；R.sup.5为卤素或卤代烷基；R.sup.8为卤素；R.sup.9为卤代烷基；R.sup.10为氢，卤素，或--NR.sup.14R.sup.15的基团，其中R.sup.14为氢或烷基；R.sub.15为烷基，炔基，或--CHR.sup.16--Ar.sup.1的基团，其中R.sup.16为氢或烷基；Ar.sup.1为四氢呋喃-2-基，呋喃-2-基，噻吩-2-基，苯基，或被卤素或烷氧基取代的苯基。当R.sup.10为--NR.sup.14R.sup.15的基团时，除上述取代基外，R.sup.1可以是烷基羰基，卤代烷基羰基，或环烷基羰基；R.sup.2可以是氢，烷基羰基，或环烷基羰基。

  公开号：

  US05167691A1
• 作为产物：
  描述：

  3-氯-5-(三氟甲基)吡啶-2-基肼 、 乙氧基亚甲基丙二腈 以 水 、 溶剂黄146 为溶剂， 生成 (3-Chloro-5-trifluoromethylpyridin-2-yl)-hydrazomethylenemalononitrile
  参考文献：
  名称：

  Herbicidal 5-amino-1-phenyl pyrazole compounds

  摘要：

  该应用程序披露了除草的1-芳基吡唑，包含它们的组合物，制备它们的方法，以及通过预出苗或出苗后在需要控制的地点施用除草组合物来控制不良植物生长的方法。除草化合物具有以下通用结构：##STR1## 其中Ar为##STR2## R为氯，氰或硝基；R.sup.1为--C（O）CR.sup.11R.sup.12--O--R.sup.13的基团，其中R.sup.11和R.sup.12独立地为氢或烷基；R.sup.13为氢，烷基羰基，苯基羰基，苯甲基或烷基氨基磺酰；R.sup.2为氢，烷基，烷基羰基，烷氧基羰基，或--C（O）CR.sup.11R.sup.12--O--R.sup.13的基团；R.sup.3，R.sup.4，R.sup.6，R.sup.7独立地为氢或卤素；R.sup.5为卤素或卤代烷基；R.sup.8为卤素；R.sup.9为卤代烷基；R.sup.10为氢，卤素，或--NR.sup.14R.sup.15的基团，其中R.sup.14为氢或烷基；R.sub.15为烷基，炔基，或--CHR.sup.16--Ar.sup.1的基团，其中R.sup.16为氢或烷基；Ar.sup.1为四氢呋喃-2-基，呋喃-2-基，噻吩-2-基，苯基，或被卤素或烷氧基取代的苯基。当R.sup.10为--NR.sup.14R.sup.15的基团时，除上述取代基外，R.sup.1可以是烷基羰基，卤代烷基羰基，或环烷基羰基；R.sup.2可以是氢，烷基羰基，或环烷基羰基。

  公开号：

  US05167691A1

文献信息

• HATTON, L. R.;ROBERTS, D. A.;PARNELL, E. W.
  作者：HATTON, L. R.、ROBERTS, D. A.、PARNELL, E. W.

  DOI：——

  日期：——
• US5167691A
  申请人：——

  公开号：US5167691A

  公开（公告）日：1992-12-01
• US5262382A
  申请人：——

  公开号：US5262382A

  公开（公告）日：1993-11-16