PhNHCH2CH2CH2CO2tBu | 1182827-51-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: PhNHCH2CH2CH2CO2tBu
• 英文别名: Tert-butyl 4-(phenylamino)butanoate；tert-butyl 4-anilinobutanoate
• CAS: 1182827-51-5
• 化学式: C₁₄H₂₁NO₂
• 分子量: 235.326
• InChiKey: PYPAWTJIERMJEF-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.1
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  38.3
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  PhNHCH2CH2CH2CO2tBu 、 3-氯-1,2-苯并异噻唑-1,1-二氧化物 在 N,N-二异丙基乙胺 作用下， 以 1,4-二氧六环 为溶剂， 生成 PhNHCH2CH2CH2CO2tBu
  参考文献：
  名称：

  N-{3-[(1,1-dioxido-1,2-benzothiazol-3-yl)(phenyl)amino]propyl}benzamide analogs as potent Kv1.3 inhibitors. Part 1

  摘要：

  We report the synthesis and in vitro activity of a series of novel N-{3-[(1,1-dioxido-1,2-benzothiazol-3-yl)(phenyl)amino]propyl}benzamide analogs. These analogs showed potent inhibitory activity against Kv1.3. Several compounds, including compound 8b, showed similar potency to the known Kv1.3 inhibitor PAP-1 when tested under the IonWorks patch clamp assay conditions. (C) 2010 Published by Elsevier Ltd.

  DOI：

  10.1016/j.bmcl.2010.09.132

文献信息

• BASIC COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Hatakeyama Jun

  公开号：US20120141938A1

  公开（公告）日：2012-06-07

  A chemically amplified resist composition comprising a base polymer, an acid generator, and an amine quencher in the form of a β-alanine, γ-aminobutyric acid or 5-aminovaleric acid derivative having an acid labile group-substituted carboxyl group has a high contrast of alkaline dissolution rate before and after exposure and forms a pattern of good profile at a high resolution, minimal roughness and wide focus margin.

  一种化学放大型光刻胶组合物，包括基础聚合物、酸发生剂和胺淬灭剂，后者为β-丙氨酸、γ-氨基丁酸或5-氨基戊酸的衍生物，具有一个被酸不稳定基团所取代的羧基，这种组合物在曝光前后具有高对比度的碱性溶解速率，并且能够形成高分辨率、最小粗糙度和宽焦深度的良好图案轮廓。
• Basic compound, chemically amplified resist composition and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP2463714A1

  公开（公告）日：2012-06-13

  A chemically amplified resist composition comprising a base polymer, an acid generator, and an amine quencher in the form of a β-alanine, γ-aminobutyric acid or 5-aminovaleric acid derivative having an acid labile group-substituted carboxyl group has a high contrast of alkaline dissolution rate before and after exposure and forms a pattern of good profile at a high resolution, minimal roughness and wide focus margin.

  一种化学放大抗蚀剂组合物由碱聚合物、酸发生器和胺淬灭剂组成，其形式为具有酸易变基团取代的羧基的β-丙氨酸、γ-氨基丁酸或 5-氨基戊酸衍生物，曝光前后的碱性溶解率对比度高，形成的图案轮廓清晰，分辨率高，粗糙度小，焦距宽。
• US8921026B2
  申请人：——

  公开号：US8921026B2

  公开（公告）日：2014-12-30
• US9017922B2
  申请人：——

  公开号：US9017922B2

  公开（公告）日：2015-04-28