4-iodobenzyl trifluoroacetate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4-iodobenzyl trifluoroacetate
• 英文别名: 4-Iodobenzyl alcohol, trifluoroacetate；(4-iodophenyl)methyl 2,2,2-trifluoroacetate
• 化学式: C₉H₆F₃IO₂
• 分子量: 330.045
• InChiKey: MGHWQMIKCTWZEC-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.4
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.22
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-iodobenzyl trifluoroacetate 在 Oxone 、 四甲基氢氧化铵 作用下， 以 氯仿 、 水 为溶剂， 反应 15.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  カルボン酸塩、カルボン酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

  摘要：

  【问题】提供能够制造具有良好线边粗糙度的光刻胶图案的羧酸盐、羧酸发生剂和光刻胶组成物。 【解决方案】由式（I）表示的羧酸盐及其含有的光刻胶组成物。 [其中，R1a是氢或酸不稳定基; R2是卤素原子，取代/非取代的氟化烷基或取代/非取代的烷基; R3是卤素原子，取代/非取代的氟化烷基，取代/非取代的烷基或L11'-O-R1b; R1b是氢或酸不稳定基; L11和L11'分别是取代/非取代的烷基; m2是0〜4，m3是0〜5的整数; X0表示取代/非取代的烷基。] 【选择图】无

  公开号：

  JP2021008459A
• 作为产物：
  描述：

  4-碘甲苯 、 三氟乙酸酐 在 tris(2,2-bipyridine)ruthenium(II) hexafluorophosphate 、 quinuclidine N-oxide 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 以65 %的产率得到4-iodobenzyl trifluoroacetate
  参考文献：
  名称：

  在 Photoredox 催化下使用 N-三氟乙酰氧基奎宁盐对 1°、2° 和 3° 苄基 C(sp3)–H 键供体进行氧化三氟乙酰氧基化

  摘要：

  N-三氟乙酰氧基奎宁环三氟乙酸盐由奎宁环N-氧化物和 (CF 3 CO) 2 O原位制备。除了一些缺电子底物外，该试剂允许 1°、2° 和 3° 的高产率氧化三氟乙酰氧基化光催化条件下的苄基 C-H 键。布洛芬甲酯的三氟乙酰氧基化允许 2° 苄基 C-H 键的选择性官能化。对于烷基苯，氢原子从苄基 C-H 键转移到奎宁环阳离子自由基被认为是决定反应产物的步骤。

  DOI：

  10.1021/acs.orglett.2c02946

文献信息

• Chemoselective Cleavage of Si–C(sp³) Bonds in Unactivated Tetraalkylsilanes Using Iodine Tris(trifluoroacetate)
  作者：Keitaro Matsuoka、Narumi Komami、Masahiro Kojima、Tsuyoshi Mita、Kimichi Suzuki、Satoshi Maeda、Tatsuhiko Yoshino、Shigeki Matsunaga

  DOI：10.1021/jacs.0c11645

  日期：2021.1.13

  However, the typical inertness of unactivated Si-C(sp3) bonds under conventional reaction conditions has hampered the application of simple tetraalkylsilanes in organic synthesis. Herein we report the chemoselective cleavage of Si-C(sp3) bonds of unactivated tetraalkylsilanes using iodine tris(trifluoroacetate). The reaction proceeds smoothly under mild conditions (-50 °C to room temperature) and tolerates

  有机硅烷是有机化学中合成有用的试剂和前体。然而，未活化的 Si-C(sp3) 键在常规反应条件下的典型惰性阻碍了简单的四烷基硅烷在有机合成中的应用。在此，我们报告了使用三（三氟乙酸）碘对未活化四烷基硅烷的 Si-C(sp3) 键进行化学选择性裂解。该反应在温和条件下（-50°C 至室温）顺利进行，并耐受各种极性官能团，从而使随后的 Tamao-Fleming 氧化能够提供相应的醇。该反应的核磁共振实验和密度泛函理论计算表明，烷基从 Si 转移到 I(III) 中心和 Si-O 键的形成协同进行，得到烷基-λ3-碘烷和三氟乙酸甲硅烷基酯。开发的方法能够使用未活化的四烷基硅烷作为高度稳定的合成前体。
• 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2021008456A

  公开（公告）日：2021-01-28

  【課題】良好なマスクエラーファクター（ＭＥＦ）のレジストパターンを製造することができる塩、酸発生剤及びこれを含むレジスト組成物の提供。【解決手段】式（Ｉ）で表される塩、酸発生剤及びレジスト組成物。［Ｒ１及びＲ２は、夫々独立に、Ｈ、Ｆ又はフッ化アルキル基；Ｒ３は、Ｆ原子又はフッ化アルキル基；Ｌ11は、置換／非置換のアルカンジイル基；Ｒ４及びＲ５は、夫々独立に、ハロゲン原子、置換／非置換のフッ化アルキル基又は置換／非置換のアルキル基；ｍ４は０〜４の整数、ｍ５は０〜５のいずれかの整数；ＡＩ−は、有機アニオンを表す。］【選択図】なし

  【问题】提供能够制造良好的掩模误差因子（MEF）的盐、酸发生剂和含有它们的掩模组成物的方法。 【解决方案】公式（I）中所示的盐、酸发生剂和掩模组成物。 [R1和R2分别独立地表示H，F或氟化烷基；R3表示F原子或氟化烷基；L11表示取代/非取代的脂肪基；R4和R5各自独立地表示卤素原子，取代/非取代的氟化烷基或取代/非取代的烷基；m4是0〜4的整数，m5是0〜5的任何一个整数；AI-表示有机阴离子。]【选择图】无