4,4''-Bis-(α-hydroxy-isopropyl)-p-terphenyl | 17788-97-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4,4''-Bis-(α-hydroxy-isopropyl)-p-terphenyl
• 英文别名: [1,1a(2):4a(2),1a(2)a(2)-Terphenyl]-4,4a(2)a(2)-dimethanol, I+/-,I+/-,I+/-a(2),I+/-a(2)-tetramethyl-；2-[4-[4-[4-(2-hydroxypropan-2-yl)phenyl]phenyl]phenyl]propan-2-ol
• CAS: 17788-97-5
• 化学式: C₂₄H₂₆O₂
• 分子量: 346.469
• InChiKey: KGUWBQVMKXHQKD-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.6
• 重原子数：
  26
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.25
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4,4''-Bis-(α-hydroxy-isopropyl)-p-terphenyl 在 乙酸酐 作用下， 生成 4,4''-Diisopropenyl-p-terphenyl
  参考文献：
  名称：

  Patai et al., Bulletin of the Research Council of Israel, 1956, vol. 5, p. 257

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  对三联苯 在 溴 作用下， 生成 4,4''-Bis-(α-hydroxy-isopropyl)-p-terphenyl
  参考文献：
  名称：

  Colonge,J. et al., Bulletin de la Societe Chimique de France, 1967, p. 4370 - 4374

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Patai et al., Bulletin of the Research Council of Israel, 1955, vol. <A> 5, p. 257
  作者：Patai et al.

  DOI：——

  日期：——
• PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, ELECTRONIC DEVICE, ACTIVE-LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM AND MASK BLANK
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US20170121437A1

  公开（公告）日：2017-05-04

  A pattern forming method includes forming a film using an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, exposing the film with active light or radiation, and developing the exposed film using a developer including an organic solvent, in which the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains a compound having a partial structure represented by General Formula (I).
• Colonge,J. et al., Bulletin de la Societe Chimique de France, 1967, p. 4370 - 4374
  作者：Colonge,J. et al.

  DOI：——

  日期：——
• Patai et al., Bulletin of the Research Council of Israel, 1956, vol. <A> 5, p. 257
  作者：Patai et al.

  DOI：——

  日期：——