7-methyl-5-phenyltetrazolo[1,5-a]pyrimidine | 113392-38-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 二嗪类
• 英文名称: 7-methyl-5-phenyltetrazolo[1,5-a]pyrimidine
• 英文别名: 7-Methyl-5-phenyl-tetrazolo[1,5-a]pyrimidin；7-Methyl-5-phenyl-[1,2,3,4]tetrazolo[1,5-a]pyrimidine
• CAS: 113392-38-4
• 化学式: C₁₁H₉N₅
• mdl: MFCD00522538
• 分子量: 211.226
• InChiKey: BGHJBNXSXOFICP-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.7
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.09
• 拓扑面积：
  56
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2-hydrazino-4-methyl-6-phenylpyrimidine 在 溶剂黄146 、 sodium nitrite 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 1.5h， 以71%的产率得到7-methyl-5-phenyltetrazolo[1,5-a]pyrimidine
  参考文献：
  名称：

  2-azido-4-(trifluoromethyl)-6-R-pyrimidines (R = H, 4-ClC6H4) 中叠氮化物-四唑互变异构的合成与研究

  摘要：

  以2-叠氮嘧啶为例，研究了带有三氟甲基的叠氮嘧啶中的叠氮-四唑平衡。后者是通过 2-肼基-4-三氟甲基嘧啶的亚硝化和 NaN3 与 4-三氟甲基-2-氯-6-(4-氯苯基)嘧啶的反应合成的。互变异构平衡 5-三氟甲基四唑并[1,5-a]嘧啶⇆ 2-叠氮基-4-三氟甲基嘧啶在无溶剂和DMSO-d6溶液中观察到，而在CDCl3中仅存在叠氮化物形式。对于2-叠氮基-4-三氟甲基-6-(4-氯苯基)嘧啶，在CDCl3溶液中仅检测到叠氮化物异构体，而在DMSO-d6溶液中与5-(三氟甲基)-7-(4-氯苯基）四唑并[1,5-a]嘧啶（互变异构体比例为99:1）。5-三氟甲基四唑的热力学和动力学参数[1,

  DOI：

  10.1007/s11172-018-2154-z

文献信息

• Use of a chemical mechanical polishing (CMP) composition for polishing of cobalt comprising substrates
  申请人：BASF SE

  公开号：US10899945B2

  公开（公告）日：2021-01-26

  Use of a chemical mechanical polishing (CMP) composition (Q) for chemical mechanical polishing of a substrate (S) comprising (i) cobalt and/or (ii) a cobalt alloy and (iii) Ti N and/or TaN, wherein the CMP composition (Q) comprises (E) Inorganic particles (F) at least one organic compound comprising an amino-group and an acid group (Y), wherein said compound comprises n amino groups and at least n+1 acidic protons, wherein n is a integer≥1. (G) at least one oxidizer in an amount of from 0.2 to 2.5 wt.-% based on the total weight of the respective CMP composition, (H) an aqueous medium wherein the CMP composition (Q) has a pH of more than 6 and less than 9.

  一种化学机械抛光(CMP)组合物(Q)，用于对包含(i)钴和/或(ii)钴合金和(iii)Ti N和/或TaN的基体(S)进行化学机械抛光，其中所述CMP组合物(Q)包含 (E) 无机颗粒 (F) 至少一种包含氨基和酸基(Y)的有机化合物，其中所述化合物包含n个氨基和至少n+1个酸性质子，其中n为整数≥1。(G) 至少一种氧化剂，其用量为 0.2 至 2.5 wt.- %，以混合物总重量为基准。(H) 一种水介质，其中 CMP 组合物 (Q) 的 pH 值大于 6 但小于 9。
• Buelow, Chemische Berichte, 1909, vol. 42, p. 4434
  作者：Buelow

  DOI：——

  日期：——
• Buelow, Privatmitt.
  作者：Buelow

  DOI：——

  日期：——
• USE OF A CHEMICAL MECHANICAL POLISHING (CMP) COMPOSITION FOR POLISHING OF COBALT COMPRISING SUBSTRATES
  申请人：BASF SE

  公开号：EP3334794B1

  公开（公告）日：2020-02-19
• CHEMICAL MECHANICAL POLISHING COMPOSITION
  申请人：BASF SE

  公开号：EP3714012A1

  公开（公告）日：2020-09-30