N-(N-benzyloxycarbonyl-DL-γ-glutamyl)-glycine | 97261-93-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: N-(N-benzyloxycarbonyl-DL-γ-glutamyl)-glycine
• 英文别名: N-(N-Benzyloxycarbonyl-DL-γ-glutamyl)-glycin；5-(carboxymethylamino)-5-oxo-2-(phenylmethoxycarbonylamino)pentanoic acid
• CAS: 97261-93-3
• 化学式: C₁₅H₁₈N₂O₇
• 分子量: 338.317
• InChiKey: MYSHIGXNUIEEMK-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  159-161 °C
• 沸点：
  713.6±60.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.377±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.35
• 重原子数：
  24.0
• 可旋转键数：
  9.0
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  142.03
• 氢给体数：
  4.0
• 氢受体数：
  5.0

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  gamm-glutamylglycine 在 水 、 magnesium oxide 、 氯甲酸苄酯 作用下， 生成 N-(N-benzyloxycarbonyl-DL-γ-glutamyl)-glycine
  参考文献：
  名称：

  Processing of highly oriented lithium tantalate films by chemical solution deposition

  摘要：

  研究了用化学溶液沉积法合成钽酸锂薄膜的方法。前驱体溶液由乙醇溶解乙醇锂和五氧化二钽制备而成。在该前驱体溶液中加入甲酸能非常有效地通过旋涂法在基底上制备出均匀透明的前驱体薄膜。钽酸锂薄膜在蓝宝石（001）基底上结晶，在 450 °C 以上的温度下进行热处理时，沿 c 轴的取向非常优选。550 °C 时制备的薄膜折射率为 2.049，接近钽酸锂单晶体的折射率（2.176）。

  DOI：

  10.1557/jmr.2002.0368

文献信息

• Processing of highly oriented lithium tantalate films by chemical solution deposition
  作者：Satomi Ono、Shin-ichi Hirano

  DOI：10.1557/jmr.2002.0368

  日期：2002.10

  The synthesis of lithium tantalate films by a chemical solution deposition method was studied. A precursor solution was prepared by dissolving lithium ethoxide and tantalum pentaethoxide in ethanol. The addition of formic acid to this precursor solution was very effective in the preparation of homogeneous and transparent precursor films on substrates by spin coating. Lithium tantalate films crystallized on sapphire (001) substrates with a highly preferred orientation along the c axis with heat-treating at temperatures above 450 °C. The refractive index of the film prepared at 550 °C was 2.049, which is close to the value for single crystals of lithium tantalate (2.176).

  研究了用化学溶液沉积法合成钽酸锂薄膜的方法。前驱体溶液由乙醇溶解乙醇锂和五氧化二钽制备而成。在该前驱体溶液中加入甲酸能非常有效地通过旋涂法在基底上制备出均匀透明的前驱体薄膜。钽酸锂薄膜在蓝宝石（001）基底上结晶，在 450 °C 以上的温度下进行热处理时，沿 c 轴的取向非常优选。550 °C 时制备的薄膜折射率为 2.049，接近钽酸锂单晶体的折射率（2.176）。