iodoethanoic acid nonyl ester | 5345-62-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: iodoethanoic acid nonyl ester
• 英文别名: iodoacetic acid nonyl ester；nonyl iodoacetate；nonyl 2-iodoacetate
• CAS: 5345-62-0
• 化学式: C₁₁H₂₁IO₂
• 分子量: 312.191
• InChiKey: IKPAMRQMGGQHLX-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.6
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  10
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.91
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  ethyl diethylphosphinite 、 iodoethanoic acid nonyl ester 以 乙醚 为溶剂， 生成 Diethyl-nonyloxycarbonylmethyl-phosphinoxid
  参考文献：
  名称：

  Razumov,A.I.; Zabusova,N.G., Journal of general chemistry of the USSR, 1962, vol. 32, # 8, p. 2646 - 2648

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Novel Radical Reaction of Phenylsulfonyl Oxime Ethers. A Free Radical Acylation Approach
  作者：Sunggak Kim、Ill Young Lee、Joo-Yong Yoon、Dong Hyun Oh

  DOI：10.1021/ja9600993

  日期：1996.1.1
• [EN] PHOTOPOLYMERIZATION SENSITIZER<br/>[FR] SENSIBILISATEUR DE PHOTOPOLYMÉRISATION<br/>[JA] 光重合増感剤
  申请人：KAWASAKI KASEI CHEMICALS

  公开号：WO2020054874A1

  公开（公告）日：2020-03-19

  ［課題］光硬化時あるいは硬化物の保存中にブルーミング等により、光重合増感剤等の添加物が表面ににじみ出し、硬化物の粉吹きや着色の問題を引き起こすことがなく、かつ実用上十分な光硬化速度を与える光重合増感剤を提供すること。 ［解決手段］一般式（１）で表されるエステル基を有する９，１０－ビス（アルコキシカルボニルアルキレンオキシ）アントラセン化合物又は一般式（１０）で表されるエステル基を有する９，１０－ビス（アルコキシカルボニルアルキレンオキシ）アントラセン化合物のオリゴマー。 （一般式において、Ａは炭素数１から２０のアルキレン基を表し、該アルキレン基はアルキル基によって分岐していてもよい。）
• [EN] PHOTOPOLYMERIZATION SENSITIZER HAVING MIGRATION RESISTANCE<br/>[FR] SENSIBILISATEUR DE PHOTOPOLYMÉRISATION AYANT UNE RÉSISTANCE À LA MIGRATION<br/>[JA] 耐マイグレーション性を有する光重合増感剤
  申请人：KAWASAKI KASEI CHEMICALS

  公开号：WO2020121384A1

  公开（公告）日：2020-06-18

  ［課題］光硬化時あるいは硬化物の保存中にブルーミング等により、光重合増感剤等の添加物が表面ににじみ出し、硬化物の粉吹きや着色の問題を引き起こすことがなく、かつ実用上十分な光硬化速度を与える光重合増感剤を提供すること。 ［解決手段］下記一般式（１）で表されるエステル基を有する９，１０－ビス（アルコキシカルボニルアルキレンオキシ）アントラセン化合物。　（一般式（１）において、Ａは炭素数１から２０のアルキレン基を表し、該アルキレン基はアルキル基によって分岐していてもよい。Ｒは炭素数１から２０のアルキル基を表し、該アルキル基は、アルキル基によって分岐していてもよく、ヒドロキシ基で置換されていてもよく、炭素原子の一部が酸素原子によって置き換わっていてもよい（但し、過酸化物を形成する場合は除く）。Ｘ、Ｙは同一であっても異なってもよく、水素原子、炭素数１から８のアルキル基又はハロゲン原子を表す。）
• [EN] MIGRATION-RESISTANT PHOTOPOLYMERIZATION SENSITIZER<br/>[FR] SENSIBILISATEUR DE PHOTOPOLYMÉRISATION RÉSISTANT À LA MIGRATION<br/>[JA] 耐マイグレーション性を有する光重合増感剤
  申请人：KAWASAKI KASEI CHEMICALS

  公开号：WO2020121544A1

  公开（公告）日：2020-06-18

  ［課題］光硬化時あるいは硬化物の保存中にブルーミング等により、光重合増感剤等の添加物が表面ににじみ出し、硬化物の粉吹きや着色の問題を引き起こすことがなく、かつ実用上十分な光硬化速度を与える光重合増感剤を提供すること。 ［解決手段］下記一般式（１）で表されるエステル基を有する９，１０－ビス（アルコキシカルボニルアルキレンオキシ）アントラセン化合物。（一般式（１）において、Ａは炭素数１から２０のアルキレン基を表し、該アルキレン基はアルキル基によって分岐していてもよい。Ｒは炭素数１から２０のアルキル基を表し、該アルキル基は、アルキル基によって分岐していてもよく、シクロアルキル基でもシクロアルキルアルキル基でもよい。Ｘ、Ｙは同一であっても異なってもよく、水素原子、炭素数１から８のアルキル基又はハロゲン原子を表す。）
• [EN] RADICAL PHOTOCURING OXYGEN INHIBITION REDUCER, RADICAL PHOTOPOLYMERIZABLE COMPOSITION CONTAINING RADICAL PHOTOCURING OXYGEN INHIBITION REDUCER, COATING CONTAINING RADICAL PHOTOCURING OXYGEN INHIBITION REDUCER, AND METHOD FOR CURING SAME<br/>[FR] RÉDUCTEUR DE L'INHIBITION DE L'OXYGÈNE POUR PHOTOPOLYMÉRISATION RADICALAIRE, COMPOSITION PHOTOPOLYMÉRISABLE PAR VOIE RADICALAIRE CONTENANT UN RÉDUCTEUR DE L'INHIBITION DE L'OXYGÈNE POUR PHOTOPOLYMÉRISATION RADICALAIRE, REVÊTEMENT CONTENANT UN RÉDUCTEUR DE L'INHIBITION DE L'OXYGÈNE POUR PHOTOPOLYMÉRISATION RADICALAIRE ET PROCÉDÉ DE DURCISSEMENT ASSOCIÉ<br/>[JA] 光ラジカル硬化酸素阻害低減剤、光ラジカル硬化酸素阻害低減剤を含有する光ラジカル重合性組成物及び光ラジカル硬化酸素阻害低減剤を含有する塗膜並びにその硬化方法
  申请人：KAWASAKI KASEI CHEMICALS

  公开号：WO2020209209A1

  公开（公告）日：2020-10-15

  ［課題］酸素阻害の影響が顕著な光ラジカル重合開始剤を用いた光ラジカル性組成物を、塗膜表面での酸素阻害を低減し、酸素存在下でも問題なく硬化できる塗膜組成物を提供することを目的とするものである。 ［解決手段］少なくともラジカル重合性化合物と光ラジカル重合開始剤と下記一般式（１）で表されるエステル基を有する９，１０－ビス（アルコキシカルボニルアルキレンオキシ）アントラセン化合物を含有することを特徴とする、光ラジカル重合性組成物。（一般式（１）において、Ａは炭素数１から２０のアルキレン基を表し、該アルキレン基はアルキル基によって分岐していてもよい。Ｒは炭素数１から２０のアルキル基を表し、該アルキル基は、アルキル基によって分岐していてもよく、シクロアルキル基でもよく、ヒドロキシ基で置換されていてもよく、炭素原子の一部が酸素原子によって置き換わっていてもよい。）