申请人:HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
公开号:EP0022571A1
公开(公告)日:1981-01-21
Es wird ein strahlungsempfindliches Gemisch beschrieben, das (a) eine durch Einwirkung von aktinischer Strahlung eine Säure bildende Verbindung und (b) eine polymere Verbindung mit wiederkehrenden Orthocarbonsäureestergruppierungen enthält, dadurch gekennzeichnet, daß die polymere Verbindung aus wiederkehrenden Einheiten der Formel I aufgebaut ist:
worin
R1 ein Wasserstoffatom, ein Alkyl-, Cycloalkyl- oder Arylrest ist,
! R2, R3 gleich oder verschieden sind und Wasser-
und R5 stoffatome, Alkyl- oder Arylreste bedeuten,
R4 eine Alkylengruppe oder - wenn a1 = a2 = 1 ist - auch eine Alkylenoxygruppe, wobei die Alkylengruppen durch Heteroatome oder ungesättigte oder ringförmige Gruppen unterbrochen sein können,
R6 ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe,
a1 und a2 jeweils 0,1 oder 2,
a1 + a2 1 oder 2 und
m eine Zahl von 3 bis 200
bedeuten. Die Gemische sind zur Herstellung reprographischer Materialien, insbesondere Druckplatten, hoher Lichtempfindlichkeit geeignet.
描述了一种辐射敏感混合物,该混合物包含 (a) 一种在光辐射作用下形成酸的化合物和 (b) 一种具有循环正羧酸酯基团的聚合物化合物,其特征在于该聚合物化合物由式 I 的循环单元组成
其中
R1 是氢原子、烷基、环烷基或芳基、
!R2、R3 相同或不同,均为氢原子
和 R5 是氢原子、烷基或芳基、
R4 是亚烷基或(如果 a1 = a2 = 1)亚烷氧基,其中亚烷基可被杂原子或不饱和基团或环状基团打断、
R6 是氢原子或甲基、
a1 和 a2 分别为 0、1 或 2、
a1 + a2 1 或 2,以及
m 是 3 至 200 之间的数字
.这些混合物适用于生产具有高光敏度的复印材料,特别是印刷版。