3,3'-diphenylbenzhydrol | 98586-20-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯丙烷和聚酮 - 二芳基庚烷
• 英文名称: 3,3'-diphenylbenzhydrol
• 英文别名: di(1,1'-biphenyl-3-yl)methanol；Bis(3-phenylphenyl)methanol
• CAS: 98586-20-0
• 化学式: C₂₅H₂₀O
• 分子量: 336.433
• InChiKey: IEHOWNKQVNAICQ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6
• 重原子数：
  26
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.04
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3,3'-diphenylbenzhydrol 在 乙酰溴 作用下， 以 甲苯 、 苯 为溶剂， 反应 12.0h， 生成 (di(1,1'-biphenyl-3-yl)methyl)triphenylphosphonium bromide
  参考文献：
  名称：

  新型神经酰胺衍生物的合成及光致发光性能

  摘要：

  一系列新的神经酰胺衍生物 8a-f 已通过 4-5 步合成，涉及神经酰胺与各种三苯基溴化鏻的 Wittig 反应。报告了它们的紫外线和光致发光 (PL) 特性。在 1 × 10-5 M CH2Cl2 的浓度下，这些化合物在 502 和 522 nm 之间显示出中等至强的 PL。© 2011 Wiley Periodicals, Inc. 杂原子化学 23:66–73, 2012; 在 wileyonlinelibrary.com 上在线查看这篇文章。DOI 10.1002/hc.20753

  DOI：

  10.1002/hc.20753
• 作为产物：
  描述：

  3-溴联苯 、 甲酸乙酯 在 碘 、 magnesium 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 以78%的产率得到3,3'-diphenylbenzhydrol
  参考文献：
  名称：

  新型神经酰胺衍生物的合成及光致发光性能

  摘要：

  一系列新的神经酰胺衍生物 8a-f 已通过 4-5 步合成，涉及神经酰胺与各种三苯基溴化鏻的 Wittig 反应。报告了它们的紫外线和光致发光 (PL) 特性。在 1 × 10-5 M CH2Cl2 的浓度下，这些化合物在 502 和 522 nm 之间显示出中等至强的 PL。© 2011 Wiley Periodicals, Inc. 杂原子化学 23:66–73, 2012; 在 wileyonlinelibrary.com 上在线查看这篇文章。DOI 10.1002/hc.20753

  DOI：

  10.1002/hc.20753

文献信息

• Enantioselective Borylation of Aromatic C−H Bonds with Chiral Dinitrogen Ligands
  作者：Bo Su、Tai-Gang Zhou、Pei-Lin Xu、Zhang-Jie Shi、John F. Hartwig

  DOI：10.1002/anie.201702628

  日期：2017.6.12

  The borylation of C−H bonds catalyzed by transition metals has been investigated extensively in the past two decades, but no iridium‐catalyzed enantioselective borylation of C−H bonds has been reported. We report a set of iridium‐catalyzed enantioselective borylations of aromatic C−H bonds. This reaction relies on a set of newly developed chiral quinolyl oxazoline ligands. This process proceeds under

  在过去的二十年中，对过渡金属催化的CH键的硼化作用进行了广泛的研究，但尚无铱催化的CH键的对映选择性硼化的报道。我们报道了一组芳香族CH键的铱催化的对映选择性硼化。该反应依赖于一组新开发的手性喹啉基恶唑啉配体。该过程在温和条件下进行，具有良好的对映选择性，优异的对映选择性，并且硼化产物可以转化为含有新的C-O，CC-，CC-Cl或C-Br键的对映体富集的衍生物。
• CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL, PATTERN-FORMING METHOD, COMPOUND, AND PRODUCTION METHOD OF COMPOUND
  申请人：OSAKA UNIVERSITY

  公开号：US20170052449A1

  公开（公告）日：2017-02-23

  A pattern-forming method comprises patternwise exposing a predetermined region of a resist material film made from a photosensitive resin composition comprising a chemically amplified resist material to a first radioactive ray that is ionizing radiation or nonionizing radiation having a wavelength of no greater than 400 nm. The resist material film patternwise exposed is floodwise exposed to a second radioactive ray that is nonionizing radiation having a wavelength greater than the wavelength of the nonionizing radiation for the patternwise exposing and greater than 200 nm. The chemically amplified resist material comprises a base component, and a generative component that is capable of generating a radiation-sensitive sensitizer and an acid upon an exposure. The generative component comprises a radiation-sensitive sensitizer generating agent. The radiation-sensitive sensitizer generating agent comprises a compound represented by formula (A).

  一种图案形成方法包括将一种化学放大型光刻胶材料制成的感光树脂组成物的预定区域图案暴露于第一种放射性射线中，该放射性射线是电离辐射或波长不大于400 nm的非电离辐射。图案化暴露的光刻胶材料膜被洪水式暴露于第二种放射性射线中，该放射性射线是波长大于图案化暴露的非电离辐射的波长和大于200 nm的非电离辐射。该化学放大型光刻胶材料包括基础组分和能够在暴露时生成辐射敏感的敏化剂和酸的生成组分。生成组分包括辐射敏感的敏化剂生成剂。辐射敏感的敏化剂生成剂包括由式(A)表示的化合物。
• Enantioselective Radical Addition to Ketones through Lewis Acid-Enabled Photoredox Catalysis
  作者：Liuzhen Hou、Yuqiao Zhou、Han Yu、Tangyu Zhan、Weidi Cao、Xiaoming Feng

  DOI：10.1021/jacs.2c09691

  日期：2022.12.7

  formidable challenge. Accordingly, the development of simple, efficient, and economic catalytic systems is the ideal pursuit for chemists. Herein, we report an enantioselective radical photoaddition to ketones through a Lewis acid-enabled photoredox catalysis wherein the in situ formed chiral N,N′-dioxide/Sc(III)–ketone complex serves as a temporary photocatalyst to trigger single-electron transfer oxidation

  光催化为羰基化学打开了一扇新窗。尽管羰基化合物有多种光化学反应，但可见光诱导的催化不对称转化仍然难以捉摸，并构成了巨大的挑战。因此，开发简单、高效、经济的催化体系是化学家的理想追求。在此，我们报告了通过路易斯酸启用的光氧化还原催化对酮的对映选择性自由基光加成，其中原位形成的手性N，N'-二氧化物/Sc(III)-酮络合物作为临时光催化剂触发单电子转移氧化用于产生亲核自由基物种的硅烷，包括伯、仲和叔烷基自由基，给出各种对映体富集基于氮杂杂环的叔醇，具有良好至优异的产率和对映选择性。电子顺磁共振（EPR）和高分辨率质谱（HRMS）测量结果为该反应中涉及的立体控制自由基加成过程提供了有利证据。
• HOMOGENEOUS ASYMMETRIC HYDROGENATION CATALYST
  申请人：Takasago International Corporation

  公开号：EP2543437A2

  公开（公告）日：2013-01-09

  The present invention provides a catalyst for producing optically active aldehyde or optically active ketone, as an optically active carbonyl compound, by selectively asymmetrically hydrogenating an α, β-unsaturated carbonyl compound, and in particular, a catalyst insoluble in a reaction mixture for obtaining optically active citronellal useful as a flavoring by selectively asymmetrically hydrogenating citral, geranial or neral, and a method for producing the corresponding optically active carbonyl compound. In particular, the present invention provides a method for producing citronellol of identical optical isomers regardless of a mixing ratio of neral and geranial in the asymmetric hydrogenation of citral. In the present invention, the α, β-unsaturated carbonyl compound is asymmetrically hydrogenated using a catalyst including a complex of at least one transition metal selected from transition metals belonging to Group 8 to Group 10 of the Periodic Table, and an optically active cyclic nitrogen-containing compound, and an acid if necessary.

  本发明提供了一种通过选择性不对称氢化α，β-不饱和羰基化合物来生产光学活性醛或光学活性酮，作为光学活性羰基化合物的催化剂，特别是提供了一种不溶于反应混合物的催化剂，用于通过选择性不对称氢化柠檬醛、香叶醇或香叶酯来获得用作香料的光学活性香茅醛，以及生产相应光学活性羰基化合物的方法。特别是，本发明提供了一种在柠檬醛的不对称氢化过程中，无论香叶醇和香叶酯的混合比例如何，都能生产出相同光学异构体的香茅醇的方法。在本发明中，α，β-不饱和羰基化合物使用一种催化剂进行不对称氢化，该催化剂包括至少一种选自属于元素周期表第 8 族至第 10 族的过渡金属的络合物和一种光学活性环状含氮化合物，必要时还包括一种酸。
• Chemically amplified resist material and resist pattern-forming method
  申请人：JSR CORPORATION

  公开号：US10018911B2

  公开（公告）日：2018-07-10

  A chemically amplified resist material comprises a polymer component that is capable of being made soluble or insoluble in a developer solution by an action of an acid, and a generative component that is capable of generating a radiation-sensitive sensitizer and an acid upon an exposure. The radiation-sensitive acid-and-sensitizer generating agent or the radiation-sensitive acid generating agent included in the generative component comprises the first compound that is radiation-sensitive and second compound that is radiation-sensitive. The first compound includes a first onium cation and a first anion, and the second compound includes a second onium cation and a second anion that is different from the first anion. Each of an energy released upon reduction of the first onium cation to a radical and an energy released upon reduction of the second onium cation to a radical is less than 5.0 eV.

  一种化学放大抗蚀剂材料包括一种在酸的作用下能溶于或不溶于显影液的聚合物成分，以及一种在曝光时能产生辐射敏感敏化剂和酸的生成成分。生成组件中的辐射敏感性酸和敏化剂生成剂或辐射敏感性酸生成剂包括辐射敏感性第一化合物和辐射敏感性第二化合物。第一化合物包括第一鎓阳离子和第一阴离子，第二化合物包括第二鎓阳离子和不同于第一阴离子的第二阴离子。第一鎓阳离子还原成自由基时释放的能量和第二鎓阳离子还原成自由基时释放的能量均小于 5.0 eV。