1′-methylcyclopentyl-1-cyclopentyl methacrylate | 1446115-11-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 1′-methylcyclopentyl-1-cyclopentyl methacrylate
• 英文别名: [1-(1-Methylcyclopentyl)cyclopentyl] 2-methylprop-2-enoate；[1-(1-methylcyclopentyl)cyclopentyl] 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 1446115-11-2
• 化学式: C₁₅H₂₄O₂
• 分子量: 236.354
• InChiKey: RSEMUFSYZNCVDE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.4
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.8
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  1-甲基环戊烷-1-羧酸乙酯 在 magnesium 、 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 、 二氯甲烷 为溶剂， 反应 78.0h， 生成 1′-methylcyclopentyl-1-cyclopentyl methacrylate
  参考文献：
  名称：

  CYCLOALIPHATIC MONOMER, POLYMER COMPRISING THE SAME, AND PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING THE POLYMER

  摘要：

  单体具有式I：其中R1，R2和R3各自独立地为C1-30单价有机基团，且R1，R2和R3各自独立地未取代或包括卤素，腈，醚，酯，酮，醇或包含上述至少一种功能基团的组合；R4包括H，F，C1-4烷基或C1-4氟烷基；A是单键或二价连接基团，其中A未取代或取代以包括卤素，腈，醚，酯，酮，醇或包含上述至少一种功能基团的组合；m和n各自独立地为1至8的整数；x为0至2n+2，y为0至2m+2。

  公开号：

  US20130171429A1

文献信息

• Photoresists comprising amide component
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US10719014B2

  公开（公告）日：2020-07-21

  New photoresist compositions are provided that comprise a component that comprises an amide group and multiple hydroxyl groups. Preferred photoresists of the invention may comprise a resin with photoacid-labile groups; a photoacid generator compound; and an amide component with multiple hydroxyl groups that can function to decrease undesired photogenerated-acid diffusion out of unexposed regions of a photoresist coating layer.

  本发明提供的新型光刻胶组合物包含一种由酰胺基团和多个羟基组成的成分。本发明的优选光刻胶可包括具有光酸亲和基的树脂、光酸发生器化合物和具有多个羟基的酰胺成分，这些羟基的作用是减少光刻胶涂布层未暴露区域中不需要的光生酸扩散。
• IONIC THERMAL ACID GENERATORS FOR LOW TEMPERATURE APPLICATIONS
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20150212414A1

  公开（公告）日：2015-07-30

  New ionic thermal acid generator compounds are provided. Also provided are photoresist compositions, antireflective coating compositions, and chemical trim overcoat compositions, and methods of using the compositions.
• US8790861B2
  申请人：——

  公开号：US8790861B2

  公开（公告）日：2014-07-29
• US9541834B2
  申请人：——

  公开号：US9541834B2

  公开（公告）日：2017-01-10
• CYCLOALIPHATIC MONOMER, POLYMER COMPRISING THE SAME, AND PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING THE POLYMER
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20130171429A1

  公开（公告）日：2013-07-04

  A monomer has the Formula I: wherein R 1 , R 2 , and R 3 are each independently a C 1-30 monovalent organic group, and R 1 , R 2 , and R 3 are each independently unsubstituted or include a halogen, nitrile, ether, ester, ketone, alcohol, or a combination comprising at least one of the foregoing functional groups; R 4 includes H, F, C 1-4 alkyl, or C 1-4 fluoroalkyl; A is a single bond or a divalent linker group, wherein A is unsubstituted or substituted to include a halogen, nitrile, ether, ester, ketone, alcohol, or a combination comprising at least one of the foregoing functional groups; m and n are each independently an integer of 1 to 8; and x is 0 to 2n+2, and y is 0 to 2m+2.

  单体具有式I：其中R1，R2和R3各自独立地为C1-30单价有机基团，且R1，R2和R3各自独立地未取代或包括卤素，腈，醚，酯，酮，醇或包含上述至少一种功能基团的组合；R4包括H，F，C1-4烷基或C1-4氟烷基；A是单键或二价连接基团，其中A未取代或取代以包括卤素，腈，醚，酯，酮，醇或包含上述至少一种功能基团的组合；m和n各自独立地为1至8的整数；x为0至2n+2，y为0至2m+2。