9-Decyl-3,6-dinitro-9H-carbazole

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 吲哚及其衍生物
• 英文名称: 9-Decyl-3,6-dinitro-9H-carbazole
• 英文别名: 9-decyl-3,6-dinitrocarbazole
• 化学式: C22H27N3O4
• 分子量: 397.5
• InChiKey: IECIGBHIMWKNMZ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  7.4
• 重原子数：
  29
• 可旋转键数：
  9
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.45
• 拓扑面积：
  96.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

文献信息

• Photosensitive Polybenzoxazines and Methods of Making the Same
  申请人：Yamanaka Kazuhiro

  公开号：US20100009290A1

  公开（公告）日：2010-01-14

  Photosensitive polybenzoxazine compositions include a photosensitive additive such as an o-diazoquinone and a polymer comprising a repeating unit represented by the following formula (I) wherein R 1 comprises an aliphatic group, an alicyclic group, an aromatic group, a heterocyclic group, or combinations thereof, R 2 comprises an aliphatic group, an alicyclic group, an aromatic group, a heterocyclic group, or combinations thereof, R 4 comprises a hydrophilic group, a hydrophilic group protected by an acid-cleavable group, a hydrophilic group protected by a base-cleavable group, a cross-linkable group, or combinations thereof, and i represents an integer of 1 or more. The photosensitive compositions may be formed by combining a precursor polymer with a photosensitive additive and a solvent, patterning the precursor polymer, and heating the precursor polymer at a thermal processing temperature in a range of from about 180° C. to about 300° C. to convert the precursor polymer into the final polymer.
• Photosensitive Polyimides and Methods of Making the Same
  申请人：Yamanaka Kazuhiro

  公开号：US20100216070A1

  公开（公告）日：2010-08-26

  Photosensitive polyimide compositions include a photosensitive additive and a polymer comprising a repeating unit represented by the following formula (I): wherein R 1 comprises an aliphatic group, an alicyclic group, an aromatic group, a heterocyclic group, or combinations thereof, R 2 comprises an aliphatic group, an alicyclic group, an aromatic group, a heterocyclic group, or combinations thereof, R 3 represents hydrogen or an organic group comprising a hydrophilic group, an acid-cleavable group, a base-cleavable group, a cross-linkable group, or combinations thereof, and h represents an integer of 1 or more. The photosensitive compositions may be formed by combining a precursor polymer with a processing solvent, followed by a relatively low-temperature cyclization process in which the precursor polymer is converted to the final polymer. The resulting polyimide may be separated from the solution and purified. It may then be combined with a casting solvent and a photosensitive additive.
• [EN] PHOTOSENSITIVE POLYIMIDES AND METHODS OF MAKING THE SAME<br/>[FR] POLYIMIDES PHOTOSENSIBLES ET PROCÉDÉS POUR LES PRÉPARER
  申请人：CENTRAL GLASS CO LTD

  公开号：WO2008069813A1

  公开（公告）日：2008-06-12

  [EN] Photosensitive polyimide compositions include a photosensitive additive and a polymer comprising a repeating unit represented by the following formula (I): wherein R¹ comprises an aliphatic group, an alicyclic group, an aromatic group, a heterocyclic group, or combinations thereof, R² comprises an aliphatic group, an alicyclic group, an aromatic group, a heterocyclic group, or combinations thereof, R³ represents hydrogen or an organic group comprising a hydrophilic group, an acid-cleavable group, a base-cleavable group, a cross-linkable group, or combinations thereof, and h represents an integer of 1 or more. The photosensitive compositions may be formed by combining a precursor polymer with a processing solvent, followed by a relatively low-temperature cyclization process in which the precursor polymer is converted to the final polymer. The resulting polyimide may be separated from the solution and purified. It may then be combined with a casting solvent and a photosensitive additive.
  [FR] L'invention concerne des compositions de polyimide photosensible qui comprennent un additif photosensible et un polymère contenant une unité de répétition représentée par la formule suivant (I) : dans laquelle R¹ représente un groupe aliphatique, un groupe alicyclique, un groupe aromatique, un groupe hétérocyclique, ou des combinaisons de ceux-ci, R² représente un groupe aliphatique, un groupe alicyclique, un groupe aromatique, un groupe hétérocyclique, ou des combinaisons de ceux-ci, R³ représente de l'hydrogène ou un groupe organique comprenant un groupe hydrophile, un groupe clivable par un acide, un groupe clivable par une base, un groupe réticulable, ou des combinaisons de ceux-ci, et h représente un nombre entier de 1 ou plus de 1. Les compositions photosensibles peuvent être formées par combinaison d'un polymère précurseur avec un solvant de traitement, suivie par un procédé de cyclisation à relativement basse température dans lequel le polymère précurseur est converti en polymère final. Le polyimide résultant peut être séparé de la solution et purifié. Il peut alors être combiné avec un solvant de coulée et un additif photosensible.
• [EN] PHOTOSENSITIVE POLYBENZOXAZINES AND METHODS OF MAKING THE SAME<br/>[FR] POLYBENZOXAZINES PHOTOSENSIBLES ET PROCÉDÉS POUR LES PRÉPARER
  申请人：CENTRAL GLASS CO LTD

  公开号：WO2008069812A1

  公开（公告）日：2008-06-12

  [EN] Photosensitive polybenzoxazine compositions include a photosensitive additive such as an o-diazoquinone and a polymer comprising a repeating unit represented by the following formula (I) wherein R¹ comprises an aliphatic group, an alicyclic group, an aromatic group, a heterocyclic group, or combinations thereof, R² comprises an aliphatic group, an alicyclic group, an aromatic group, a heterocyclic group, or combinations thereof, R⁴ comprises a hydrophilic group, a hydrophilic group protected by an acid-cleavable group, a hydrophilic group protected by a base- cleavable group, a cross-linkable group, or combinations thereof, and i represents an integer of 1 or more. The photosensitive compositions may be formed by combining a precursor polymer with a photosensitive additive and a solvent, patterning the precursor polymer, and heating the precursor polymer at a thermal processing temperature in a range of from about 180°C to about 300°C to convert the precursor polymer into the final polymer.
  [FR] L'invention concerne des compositions de polybenzoxazine photosensibles qui comprennent un additif photosensible tel qu'une o-diazoquinone et un polymère contenant une unité de répétition représentée par la formule suivante (I) dans laquelle R¹ représente un groupe aliphatique, un groupe alicyclique, un groupe aromatique, un groupe hétérocyclique, ou des combinaisons de ceux-ci, R² représente un groupe aliphatique, un groupe alicyclique, un groupe aromatique, un groupe hétérocyclique, ou des combinaisons de ceux-ci, R⁴ comprend un groupe hydrophile, un groupe hydrophile protégé par un groupe clivable par un acide, un groupe hydrophile protégé par un groupe clivable par une base, un groupe réticulable, ou des combinaisons de ceux-ci, et i représente un nombre entier de 1 ou plus de 1. Les compositions photosensibles peuvent être formées en combinant un polymère précurseur avec un additif photosensible et un solvant, en reproduisant le polymère précurseur, et en chauffant le polymère précurseur à une température de traitement thermique dans la plage d'environ 180°C à environ 300°C pour convertir le polymère précurseur en polymère final.