isophorone diacrylamide | 39573-23-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: isophorone diacrylamide
• 英文别名: N-[[1,3,3-trimethyl-5-(prop-2-enoylamino)cyclohexyl]methyl]prop-2-enamide
• CAS: 39573-23-4
• 化学式: C₁₆H₂₆N₂O₂
• 分子量: 278.395
• InChiKey: YIXAJVKRFREWMG-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.8
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.62
• 拓扑面积：
  58.2
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  异佛尔酮二异氰酸酯 、 丙烯酸 在 4-甲氧基苯酚 、 magnesium chloride 作用下， 以 N-甲基吡咯烷酮 为溶剂， 反应 4.0h， 生成 isophorone diacrylamide
  参考文献：
  名称：

  [EN] ACRYLAMIDE-BASED CROSSLINKING MONOMERS, THEIR PREPARATION, AND USES THEREOF
  [FR] MONOMÈRES DE RÉTICULATION À BASE D'ACRYLAMIDE, PRÉPARATION ET UTILISATION CORRESPONDANTES

  摘要：

  一种制备丙烯酰胺基交联单体的方法，包括在催化剂存在下，将至少含有两个异氰酸酯基团的异氰酸酯化合物与丙烯酸或甲基丙烯酸之一反应。这些丙烯酰胺基交联单体用于制备涂料组合物、通过施加热能或辐射能固化的粘合剂组合物，以及阳离子或阴离子交换膜的制备。

  公开号：

  WO2014059516A1

文献信息

• INORGANIC-CONTAINING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING INORGANIC PATTERN
  申请人：Kansai Research Institute

  公开号：EP0965885A1

  公开（公告）日：1999-12-22

  An inorganic pattern is formed by coating an inorganic substance-containing photosensitive composition comprising a photosensitive polymer (A), a condensable organic metal compound or a condensate thereof (B) and an inorganic filler having a functional group (C) on a base, exposing the coated layer, and developing the exposed layer to form a pattern, baking the pattern give an inorganic pattern. The photosensitive polymer (A) may be constituted of an oligomer or polymer, and a photosensitizer, and the condensable organic metal compound (B) may have a photosensitive group. The inorganic filler may be a monodispersed colloidal silica having a mean particle size of 2 to 100 nm. The proportions of the components (B) and (C) relative to 1 part by weight of the component (A) on a solid basis are about 1 to 25 parts by weight and about 1 to 20 parts by weight, respectively. Even when the content of an inorganic component is high, an inorganic pattern of high resolution can be formed with the use of the above resin composition.

  无机图案是通过在基底上涂布由光敏聚合物（A）、可缩合有机金属化合物或其缩合物（B）和具有官能团的无机填料（C）组成的含无机物的光敏组合物，对涂布层进行曝光，并对曝光层进行显影以形成图案，烘烤图案得到无机图案。光敏聚合物（A）可以由低聚物或聚合物和光敏剂构成，可缩合有机金属化合物（B）可以具有光敏基团。无机填料可以是平均粒径为 2 至 100 纳米的单分散胶体二氧化硅。组分（B）和组分（C）相对于 1 重量份组分（A）的固体比例分别为约 1 至 25 重量份和约 1 至 20 重量份。即使无机成分含量较高，使用上述树脂组合物也能形成高分辨率的无机图案。
• US4383903A
  申请人：——

  公开号：US4383903A

  公开（公告）日：1983-05-17
• [EN] ACRYLAMIDE-BASED CROSSLINKING MONOMERS, THEIR PREPARATION, AND USES THEREOF<br/>[FR] MONOMÈRES DE RÉTICULATION À BASE D'ACRYLAMIDE, PRÉPARATION ET UTILISATION CORRESPONDANTES
  申请人：SALTWORKS TECHNOLOGIES INC

  公开号：WO2014059516A1

  公开（公告）日：2014-04-24

  A process for preparing an acrylamide-based crosslinking monomer comprising reacting in the presence of a catalyst an isocyanate compound containing at least two isocyanate groups with one of acrylic acid or methacrylic acid. These acrylamide-based crosslinking monomers are used in the preparation of coating compositions, adhesive compositions curable by applying thermal or radiation energy, and in the preparation of cation or anion exchange membranes.

  一种制备丙烯酰胺基交联单体的方法，包括在催化剂存在下，将至少含有两个异氰酸酯基团的异氰酸酯化合物与丙烯酸或甲基丙烯酸之一反应。这些丙烯酰胺基交联单体用于制备涂料组合物、通过施加热能或辐射能固化的粘合剂组合物，以及阳离子或阴离子交换膜的制备。