Di-<3-sulfo-2-hydroxy-propyl>-disulfid | 76274-72-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机磺酸及其衍生物
• 英文名称: Di-<3-sulfo-2-hydroxy-propyl>-disulfid
• 英文别名: 3,3'-Dithiobis(2-hydroxypropane-1-sulfonic acid)；2-hydroxy-3-[(2-hydroxy-3-sulfopropyl)disulfanyl]propane-1-sulfonic acid
• CAS: 76274-72-1
• 化学式: C₆H₁₄O₈S₄
• 分子量: 342.436
• InChiKey: ZUFMFTGDCZKQRE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -2.6
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  9
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  217
• 氢给体数：
  4
• 氢受体数：
  10

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Di-<3-sulfo-2-hydroxy-propyl>-disulfid 在 双氧水 作用下， 生成
  参考文献：
  名称：

  Fedoseeva,V.N.; Petrun'kin,V.E., Soviet progress in chemistry, 1967, vol. 33, # 5, p. 67 - 69

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  sodium 3-chloro-2-hydroxypropane-sulfonate 在 sodium tetrasulfide 作用下， 以 乙醇 为溶剂， 生成 Di-<3-sulfo-2-hydroxy-propyl>-disulfid
  参考文献：
  名称：

  Fedoseyeva,V.N.; Petrun'kin,V.E., Soviet progress in chemistry, 1967, vol. 33, # 6, p. 57 - 58

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Interaction Profile of Diphenyl Diselenide with Pharmacologically Significant Thiols
  作者：Waseem Hassan、Joao Rocha

  DOI：10.3390/molecules171012287

  日期：——

  Diphenyl diselenide has shown interesting biological activities in various free-radical-induced damage models and can be considered as a potential candidate drug against oxidative stress. Apart from its anti-oxidant activity, this compound can oxidize various thiols. However there are no detailed studies in the literature about the thiol oxidase-like activity of this compound against biologically significant mono and di-thiols with respect to various pH conditions. Keeping in mind the scarcity of data in this area of organochalcogen chemistry, we report for the first time the kinetics of thiol oxidation by diphenyl diselenide, which was carried out in a commonly used phosphate buffer, not only at physiological pH, but also at a number of acidic values. The relative reactivities of the different thiols with diphenyl diselenide were independent of the pKa of the thiol group, such that at pH 7.4, cysteine and dithiothreitol were the most reactive, while 2,3-dimercapto-1-propanesulfonic acid and glutathione were weakly reactive and extremely low reactivity was observed with dimercaptosuccinic acid. Rate of oxidation was dependent on the pH of the incubation medium. The results obtained will help us in the design of rational strategies for the safe pharmacological use of diphenyl diselenide.

  二苯二硒显示了在各种自由基诱导损伤模型中的有趣生物活性，可以被视为抗氧化压力的潜在候选药物。除了其抗氧化活性外，该化合物还可以氧化多种硫醇。然而，目前文献中尚无详细研究该化合物在不同pH条件下对生物显著的单硫醇和二硫醇的硫醇氧化酶样活性。鉴于该领域有机硒化学数据的稀缺，我们首次报告了二苯二硒对硫醇氧化的动力学研究，该研究在常用的磷酸盐缓冲液中进行，不仅在生理pH下，还在多个酸性值下进行。不同硫醇与二苯二硒的相对反应性与硫醇基团的pKa无关，在pH 7.4时，半胱氨酸和二硫硫醇反应性最强，而2,3-二巯基-1-丙烷磺酸和谷胱甘肽反应性较弱，与二巯基琥珀酸的反应性极低。氧化速率依赖于培养基的pH。所获得的结果将有助于我们设计二苯二硒安全药理学使用的合理策略。
• WÄSSRIGES BAD UND VERFAHREN ZUM ELEKTROLYTISCHEN ABSCHEIDEN VON KUPFERSCHICHTEN
  申请人：ATOTECH Deutschland GmbH

  公开号：EP1042538B1

  公开（公告）日：2001-07-11
• US4322214A
  申请人：——

  公开号：US4322214A

  公开（公告）日：1982-03-30
• US6425996B1
  申请人：——

  公开号：US6425996B1

  公开（公告）日：2002-07-30
• [DE] WÄSSRIGES BAD UND VERFAHREN ZUM ELEKTROLYTISCHEN ABSCHEIDEN VON KUPFERSCHICHTEN<br/>[EN] WATER BATH AND METHOD FOR ELECTROLYTIC DEPOSITION OF COPPER COATINGS<br/>[FR] BAIN AQUEUX ET PROCEDE POUR DEPOSER DES COUCHES DE CUIVRE PAR VOIE ELECTROLYTIQUE
  申请人：——

  公开号：WO1999031300A2

  公开（公告）日：1999-06-24

  [EN] A water deposition bath is used for homogeneous electrolytic deposition of copper coatings, more particularly, on printed boards. Said bath contains at least one copper ion source, at least one compound enhancing the electric conductivity of the deposition bath and at least one additive. The additive contains at least one conversion product, formed by epihalogenohydrins, dihalogenohydrins or 1-halogen-2,3-propanediols and polyamidoamines. The polyamidoamines are formed by condensation reaction of dicarboxylic acids with polyalkylene polyamines. Copper coatings with homogenous coating thickness can be deposited using said bath.
  [FR] L'invention vise à permettre le dépôt électrolytique homogène de couches de cuivre, notamment sur des cartes de circuits. A cet effet, on utilise un bain de dépôt aqueux contenant au moins une source d'ion cuivre, au moins un composé augmentant la conductivité électrique du bain de dépôt et au moins un additif constitué par au moins un produit de réaction contenant des épihalogénohydrines, des dihalogénohydrines ou des 1-halogéno-2,3-propanediols et des polyamido-amines. Les polyamido-amines sont formées par réaction de condensation d'acide dicarboxylique avec des polyamines de polyalkylène. L'utilisation de ce bain permet le dépôt de couches de cuivre d'épaisseur homogène.
  [DE] Zum gleichmässigen elektrolytischen Abscheiden von Kupferschichten, insbesondere auf Leiterplatten, wird eine wässriges Abscheidebad eingesetzt, das als Bestandteile mindestens eine Kupferionenquelle, mindestens eine die elektrische Leiftfähigkeit des Abscheidebades erhöhende Verbindung sowie mindestens einen Zusatzstoff enthält, wobei als Zusatzstoff mindestens ein Umsetzungsprodukt, gebildet aus Epihalogenhydrinen, Dihalogenhydrinen bzw. 1-Halogen-2,3-propandiolen und Polyamidoaminen, enthalten ist. Die Polyamidoamine werden durch Kondensationsreaktion von Dicarbonsäuren mit Polyalkylenpolyaminen gebildet. Bei Abscheidung von Kupferschichten aus diesem Bad können Kupferschichten mit gleichmässiger Schichtdicke abgeschieden werden.