cyclohexyl p-acetamidobenzenesulfonate | 69564-59-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: cyclohexyl p-acetamidobenzenesulfonate
• 英文别名: p-Acetamino-benzolsulfonsaeure-cyclohexylester；N-acetyl-sulfanilic acid cyclohexyl ester；N-Acetyl-sulfanilsaeure-cyclohexylester；Cyclohexyl 4-acetamidobenzenesulfonate
• CAS: 69564-59-6
• 化学式: C₁₄H₁₉NO₄S
• 分子量: 297.375
• InChiKey: RKJZTZQUXMGXNG-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.2
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  80.8
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  cyclohexyl p-acetamidobenzenesulfonate 在 lithium aluminium tetrahydride 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 6.0h， 以79%的产率得到cyclohexyl p-(ethylamino)benzenesulfonate
  参考文献：
  名称：

  Formation of olefins via pyrolysis of sulfonate esters

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jo00263a024

文献信息

• COREY, E. J.;POSNER, GARY H.;ATKINSON, RICHARD F.;WINGARD, ASTRID K.;HALL+, J. ORG. CHEM., 54,(1989) N, C. 389-393
  作者：COREY, E. J.、POSNER, GARY H.、ATKINSON, RICHARD F.、WINGARD, ASTRID K.、HALL+

  DOI：——

  日期：——
• Heat-hardenable composition and planographic form plate using the composition
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：EP0950515B1

  公开（公告）日：2003-03-26
• LASER-DECOMPOSABLE RESIN COMPOSITION AND PATTERN-FORMING MATERIAL USING THE SAME
  申请人：TAGUCHI Yoshinori

  公开号：US20080268371A1

  公开（公告）日：2008-10-30

  A laser-decomposable resin composition, includes: (A) a polymer compound containing a structure represented by formula (0) as a repeating unit in a main chain of the polymer compound: wherein R 1 represents H or a hydrocarbyl group which may have a substituent; and (B) a photo-latent or heat-latent catalyst, and a pattern-forming material, includes: a layer containing the laser-decomposable resin composition.
• US6177230B1
  申请人：——

  公开号：US6177230B1

  公开（公告）日：2001-01-23
• US7741010B2
  申请人：——

  公开号：US7741010B2

  公开（公告）日：2010-06-22