Pentaiodotoluene | 64349-91-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: Pentaiodotoluene
• 英文别名: 1,2,3,4,5-Pentaiodo-6-methylbenzene
• CAS: 64349-91-3
• 化学式: C₇H₃I₅
• 分子量: 721.623
• InChiKey: CFQWEQWWKVBQGG-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  340 °C (decomp)(Solv: benzene (71-43-2))
• 沸点：
  480.1±45.0 °C(Predicted)
• 密度：
  3.339±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.5
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.14
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Pentaiodotoluene 、 苯乙炔 在 bis-triphenylphosphine-palladium(II) chloride copper(l) iodide 、 三乙胺 作用下， 反应 12.0h， 以51%的产率得到1-Methyl-2,3,4,5,6-pentakis-phenylethynyl-benzene
  参考文献：
  名称：

  Palladium-catalyzed alkenylation and alkynylation of polyhaloarenes

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jo00288a013
• 作为产物：
  描述：

  4-碘甲苯 在 dipotassium peroxodisulfate 、 碘 、 硫酸 、 三氟乙酸 作用下， 以 1,2-二氯乙烷 、 水 为溶剂， 反应 0.08h， 以80%的产率得到Pentaiodotoluene
  参考文献：
  名称：

  A Direct and Convenient Synthesis of Periodoarenes Using Molecular Iodine

  摘要：

  分子碘在过氧二硫酸钾、浓硫酸和三氟乙酸的存在下，可以彻底碘化芳香烃，生成周期碘化芳香化合物。苯以及其他中等活化和去活化的芳烃可以很容易地转化为相应的周期碘化衍生物，得率良好至较高。

  DOI：

  10.1055/s-0029-1217072

文献信息

• RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, AND COMPOUND
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20200174365A1

  公开（公告）日：2020-06-04

  A resist composition containing a base material component of which solubility in a developing solution is changed due to an action of an acid and a compound represented by Formula (bd1); in the formula, R bd1 to R bd3 each independently represent an aryl group which may have a substituent, provided that one or more of R bd1 to R bd3 are aryl groups having a fluorinated alkyl group which may have a substituent, and at least one of the fluorinated alkyl groups which may have a substituent in these aryl groups is bonded to a carbon atom adjacent to a carbon atom that is bonded to a sulfur atom in the formula, and a total number of the fluorinated alkyl groups which may have a substituent is 2 or more; X − represents a counter anion.

  一种抗蚀组合物，含有基础材料组分，其在显影溶液中的溶解性由酸的作用和由化合物代表的公式（bd1）改变；在公式中，Rbd1到Rbd3各自独立地代表可能具有取代基的芳基，前提是Rbd1到Rbd3中的一个或多个是可能具有取代基的芳基，而这些芳基中至少有一个可能具有取代基的氟代烷基与公式中与硫原子相结合的碳原子相邻的碳原子结合，可能具有取代基的氟代烷基的总数为2或更多；X−代表一个对离子。
• RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, COMPOUND, AND ACID GENERATOR
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20180149973A1

  公开（公告）日：2018-05-31

  A resist composition including a base component which exhibits changed solubility in a developing solution under action of acid, and a compound (B1) having an anion moiety and a cation moiety and being represented by general formula (b1) (wherein R 01 to R 014 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may have a substituent, or two or more of R 01 to R 014 may be mutually bonded to form a ring structure, provided that at least two of R 01 to R 014 are mutually bonded to form a ring structure, and at least one of R 01 to R 014 has an anion group, and the anion moiety as a whole forms an anion having a valency of n; n represents an integer of 1 or more; represents an integer of 1 or more; and M m+ represents an organic cation having a valency of m).

  一种抗蚀组合物，包括在酸的作用下在显影溶液中表现出改变溶解度的基础组分，以及一种具有阴离子基团和阳离子基团的化合物（B1），其由一般式（b1）表示（其中R01至R014分别独立地表示氢原子或可能具有取代基的碳氢基团，或者R01至R014中的两个或两个以上可能相互键合形成环结构，前提是至少两个R01至R014相互键合形成环结构，至少一个R01至R014具有阴离子基团，整体上阴离子基团形成带有价数n的阴离子；n表示1或更多的整数；表示1或更多的整数；Mm+表示具有价数m的有机阳离子）。
• Pentakis(trifluoromethyl)phenyl, a Sterically Crowded and Electron-withdrawing Group:  Synthesis and Acidity of Pentakis(trifluoromethyl)benzene, -toluene, -phenol, and -aniline
  作者：Agnes Kütt、Valeria Movchun、Toomas Rodima、Timo Dansauer、Eduard B. Rusanov、Ivo Leito、Ivari Kaljurand、Juta Koppel、Viljar Pihl、Ivar Koppel、Gea Ovsjannikov、Lauri Toom、Masaaki Mishima、Maurice Medebielle、Enno Lork、Gerd-Volker Röschenthaler、Ilmar A. Koppel、Alexander A. Kolomeitsev

  DOI：10.1021/jo702513w

  日期：2008.4.1

  potassium pentakis(trifluoromethyl)phenoxide along with hexakis(trifluoromethyl)benzene and pentakis(trifluoromethyl)benzene in a combined yield of 80%. A possible reaction pathway explaining the formation of pentakis(trifluoromethyl)phenoxide is proposed. Pentakis(trifluoromethyl)phenol gives rise to easily functionalized pentakis(trifluoromethyl)chlorobenzene and pentakis(trifluoromethyl)aniline. Pertrifluoromethylation

  提出了一种功能化的五（三氟甲基）苯基（C 6（CF 3）5）衍生物的一般路线，这是设计新颖稳定的卡宾，自由基，超强酸，弱配位阴离子和其他实际和理论上有用的物种的有前途的组成部分。这种全三氟甲基化途径是通过方便地预生成的（三氟甲基）铜（CF 3通过添加1,3-二甲基-2-咪唑啉酮（DMI）来稳定DMF中的Cu）物种。这些物质在环境温度下与六碘苯反应，得到五（三氟甲基）苯酚钾以及六（三氟甲基）苯和五（三氟甲基）苯，合计产率为80％。提出了可能的解释五（三氟甲基）苯酚五氧化物形成的反应途径。五（三氟甲基）苯酚产生易于官能化的五（三氟甲基）氯苯和五（三氟甲基）苯胺。五碳五氯苯和五碳五甲苯的全三氟甲基化分别允许直接获得五（三氟甲基）氯苯和五（三氟甲基）甲苯。几个C 6（CF 3）的XRD结构确定了5个导数并将其与计算的结构进行比较。由于空间拥挤，所有C 6（CF 3）5衍生物中的芳环都明显变形。已经
• Resist composition and method for forming resist pattern
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US10241406B2

  公开（公告）日：2019-03-26

  A resist composition containing a resin component having a structural unit represented by general formula (a0-1), and a compound represented by general formula (b1). In general formula (a0-1), R is a hydrogen atom, an alkyl group, or a halogenated alkyl group. Va1 is a divalent hydrocarbon group. na1 represents an integer of 0 to 2. Ra′12 and Ra′13 are a monovalent chain saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a hydrogen atom. Ra′14 is a phenyl group, a naphthyl group, or an anthryl group. In general formula (b1), Rb1 represents a cyclic hydrocarbon group. Yb1 represents a divalent linking group containing an ester bond. Vb1 represents an alkylene group, a fluorinated alkylene group, or a single bond. m is an integer of 1 or more, and Mm+ is an m-valent organic cation.

  一种抗蚀剂组合物，含有具有通式（a0-1）表示的结构单元的树脂成分和通式（b1）表示的化合物。在通式（a0-1）中，R 是氢原子、烷基或卤代烷基。Va1是二价烃基，na1代表0至2的整数。 Ra′12和Ra′13是具有1至10个碳原子的单价链饱和烃基或氢原子。Ra′14 是苯基、萘基或蒽基。通式（b1）中，Rb1 代表环状烃基。Yb1 代表含有酯键的二价连接基团。Vb1 代表亚烷基、氟化亚烷基或单键。m 为 1 或 1 以上的整数，Mm+ 为 m 价有机阳离子。
• Resist composition, method for forming resist pattern, and polymer compound
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US10295905B2

  公开（公告）日：2019-05-21

  A resist composition which generates an acid upon exposure and whose solubility on a developing solution changes under the action of the acid, including a polymer compound having units represented by formulas (a0-1), (a0-2), and (a0-3) in an amount of 0 to 10 mol %. In the formulas, R is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a halogenated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, Va01 and Va03 are a divalent hydrocarbon group, na01 and na03 each are an integer of 0 to 2, Ra0″ is a specific acid dissociable group, Va02 is a divalent linking group containing a hetero atom or a single bond, Ra07 is a monovalent organic group, na021 is an integer of 0 to 3, and na022 is an integer of 1 to 3.

  一种抗蚀剂组合物，该组合物在曝光时会产生一种酸，其在显影溶液上的溶解度会在酸的作用下发生变化，该组合物包括一种具有由式（a0-1）、（a0-2）和（a0-3）表示的单元的聚合物化合物，其含量为 0 至 10 摩尔％。在这些式子中，R 是氢原子、具有 1 至 5 个碳原子的烷基或具有 1 至 5 个碳原子的卤代烷基，Va01 和 Va03 是二价烃基，na01 和 na03 各为 0 至 2 的整数、Ra0″ 是特定的酸可解离基团，Va02 是含有杂原子或单键的二价连接基团，Ra07 是一价有机基团，na021 是 0 至 3 的整数，na022 是 1 至 3 的整数。