Benzenesulfonic acid, 3-(sulfoamino)- | 113468-01-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: Benzenesulfonic acid, 3-(sulfoamino)-
• 英文别名: 3-(sulfoamino)benzenesulfonic acid
• CAS: 113468-01-2
• 化学式: C₆H₇NO₆S₂
• 分子量: 253.3
• InChiKey: BMBDQUJVSIYMCK-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.3
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  138
• 氢给体数：
  3
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Benzenesulfonic acid, 3-(sulfoamino)- 、 硫酸二甲酯 生成 3-(methylamino)benzenesulfonic acid
  参考文献：
  名称：

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  3-氨基苯磺酸 生成 Benzenesulfonic acid, 3-(sulfoamino)-
  参考文献：
  名称：

  摘要：

  DOI：

文献信息

• CMP method for copper, tungsten, titanium, polysilicon, and other substrates using organosulfonic acids as oxidizers
  申请人：Carter K. Melvin

  公开号：US20050090109A1

  公开（公告）日：2005-04-28

  The invention relates to chemical mechanical polishing of substrates using an abrasive and a fluid composition, wherein certain organosulfonic acid compounds are used as oxidizers, and particularly relates to a method of polishing substrates comprising copper, tungsten, titanium, and/or polysilicon using a chemical-mechanical polishing system comprising organosulfonic acids having an electrochemical oxidation potential greater than 0.2V as an oxidizer.

  本发明涉及使用磨料和流体组合物对基底进行化学机械抛光，其中使用某些有机磺酸化合物作为氧化剂，特别是涉及一种使用化学机械抛光系统对由铜、钨、钛和/或多晶硅组成的基底进行抛光的方法，该系统包含电化学氧化电位大于 0.2V 的有机磺酸作为氧化剂。
• ——
  作者：KRAJTL S.、 VRBA Z.

  DOI：——

  日期：——
• US7247566B2
  申请人：——

  公开号：US7247566B2

  公开（公告）日：2007-07-24