2-(1H-benzoimidazol-2-yl)-propionitrile | 67431-21-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 苯并咪唑类
• 英文名称: 2-(1H-benzoimidazol-2-yl)-propionitrile
• 英文别名: 2-(1H-Benzo[d]imidazol-2-yl)propanenitrile；2-(1H-benzimidazol-2-yl)propanenitrile
• CAS: 67431-21-4
• 化学式: C₁₀H₉N₃
• 分子量: 171.202
• InChiKey: PNLMQWKZYYBDQY-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  416.8±28.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.235±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.2
• 拓扑面积：
  52.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-(1H-benzoimidazol-2-yl)-propionitrile 、 巯基乙酸乙酯 在 哌啶 作用下， 以 吡啶 为溶剂， 反应 0.5h， 生成 2-[1-(1H-benzoimidazol-2-yl)-ethylidene]-thiazolidin-4-one
  参考文献：
  名称：

  Satzinger,G., Justus Liebigs Annalen der Chemie, 1978, p. 473 - 511

  摘要：

  DOI：

文献信息

• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERN FORMING METHOD, EACH USING THE SAME
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US20150004533A1

  公开（公告）日：2015-01-01

  An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition in the present invention contains a nitrogen-containing compound (N) which is represented by the following general formula (N1): wherein, in the general formula (N1), X represents a group including a hetero atom; L represents a single bond or an alkylene group; R 2 represents a substituent, in the case where a plurality of R 2 's are present, they may be the same as or different from each other and a plurality of R 2 's may be bonded to each other to form a ring; R 3 represents a hydrogen atom or a substituent; and n represents an integer of 0 to 4.
• US4064136A
  申请人：——

  公开号：US4064136A

  公开（公告）日：1977-12-20
• US4113718A
  申请人：——

  公开号：US4113718A

  公开（公告）日：1978-09-12
• US4256896A
  申请人：——

  公开号：US4256896A

  公开（公告）日：1981-03-17
• US4260770A
  申请人：——

  公开号：US4260770A

  公开（公告）日：1981-04-07