tris-(4-butoxyphenyl) sulfonium nonafluorobutane sulfonate | 258872-08-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 卤代烷
• 英文名称: tris-(4-butoxyphenyl) sulfonium nonafluorobutane sulfonate
• 英文别名: 1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfonate;tris(4-butoxyphenyl)sulfanium
• CAS: 258872-08-1
• 化学式: C₄F₉O₃S*C₃₀H₃₉O₃S
• 分子量: 778.798
• InChiKey: CNEIUUAIGIIUIP-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  10.28
• 重原子数：
  51
• 可旋转键数：
  17
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.47
• 拓扑面积：
  94.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  15

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  tris-(4-butoxyphenyl) sulfonium nonafluorobutane sulfonate 、 全氟-1-丁磺酸 、 以 乙醇 、 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 8.0h， 生成 Tris-(4-hydroxyphenyl) sulfonium nonafluorobutane sulfonate
  参考文献：
  名称：

  Radiation-sensitive composition of chemical amplification type

  摘要：

  本发明涉及一种化学增感放射敏感组合物，包含羟基苯乙烯树脂和生成氟代烷基磺酸的硫离子或碘离子盐前体作为光酸发生剂，其中所述光酸发生剂是由式(I)所表示的氟代烷基磺酸的硫离子或碘离子盐制成：Y+ASO3−  (I)其中，A代表CF3CHFCF2或CF3CF2CF2CF2；Y代表R1、R2、R3、R4和R5各自独立地代表烷基、单环或双环烷基、环烷基羰基、苯基、萘基、蒽基、苯并环戊二烯基、吡喃基、噻吩基、芳烷基或芳基羰基亚甲基组，或R1、R2和R3中的任意两个或R4和R5中的任意两个共同代表形成五元或六元环的烷基或氧烷基，其中硫或碘作为中间原子，所述环可以选择性地与芳基团融合。

  公开号：

  US06358665B1
• 作为产物：
  描述：

  bis(4-tert-butoxyphenyl)-sulfoxide 、 吡啶 、 三甲基硅烷基1,1,2,2,3,3,4,4,4-九氟-1-丁烷磺酸酯 、 镁 、 对氯苯基叔丁基醚 、 、 四氢呋喃 在 二氯甲烷 、 saturated aqueous solution 、 氯化铵 、 水 、 silica gel 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 2.33h， 以Thus, tris-(4-butoxyphenyl) sulfonium nonafluorobutane sulfonate was obtained as a slightly yellowish powder的产率得到tris-(4-butoxyphenyl) sulfonium nonafluorobutane sulfonate
  参考文献：
  名称：

  Radiation-sensitive composition of chemical amplification type

  摘要：

  本发明涉及一种化学增感放射敏感组合物，包含羟基苯乙烯树脂和生成氟代烷基磺酸的硫离子或碘离子盐前体作为光酸发生剂，其中所述光酸发生剂是由式(I)所表示的氟代烷基磺酸的硫离子或碘离子盐制成：Y+ASO3−  (I)其中，A代表CF3CHFCF2或CF3CF2CF2CF2；Y代表R1、R2、R3、R4和R5各自独立地代表烷基、单环或双环烷基、环烷基羰基、苯基、萘基、蒽基、苯并环戊二烯基、吡喃基、噻吩基、芳烷基或芳基羰基亚甲基组，或R1、R2和R3中的任意两个或R4和R5中的任意两个共同代表形成五元或六元环的烷基或氧烷基，其中硫或碘作为中间原子，所述环可以选择性地与芳基团融合。

  公开号：

  US06358665B1

文献信息

• RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION OF CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE
  申请人：Clariant International Ltd.

  公开号：EP1033624A1

  公开（公告）日：2000-09-06

  A chemically amplified radiation sensitive composition is provided which comprises a film forming hydroxystyrene based resin in combination with an onium salt precursor which generates a fluorinated alkanesulfonic acid as a photoacid generator. This composition can realize neither corrosion of apparatuses by outgas, nor T-shaped pattern profiles, nor change in linewidth attributable to process time delay, on the other side, high sensitivity and resolution, and good pattern profiles and stability thereof.

  本发明提供了一种化学放大辐射敏感组合物，该组合物由成膜的羟基苯乙烯基树脂与鎓盐前体结合而成，鎓盐前体生成氟化烷磺酸作为光酸发生器。这种组合物既不会因放出气体而腐蚀设备，也不会产生 T 型图案轮廓，也不会因加工时间延迟而改变线宽，同时还具有高灵敏度和高分辨率，以及良好的图案轮廓和稳定性。
• US6358665B1
  申请人：——

  公开号：US6358665B1

  公开（公告）日：2002-03-19