benzhydrol bromide | 78410-88-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: benzhydrol bromide
• 英文别名: Bromo(diphenyl)methanol
• CAS: 78410-88-5
• 化学式: C₁₃H₁₁BrO
• 分子量: 263.134
• InChiKey: UYQMGEMNWUMPSQ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.9
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.08
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  benzhydrol bromide 、 (R)-(β)-butoxycarbonylamino-β-phenylethylamine 在 三乙胺 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 生成 (R)-(-)-N-[β-(butoxycarbonylamino)-β-(phenyl)ethyl]-benzhydrylamine
  参考文献：
  名称：

  ACAT inhibitors

  摘要：

  这项发明涉及新颖的化合物，它们是ACAT抑制剂，可降低血液胆固醇水平。这些化合物包含两个脲或硫脲、酰胺或胺基团，或这些团的组合，并具有以下一般公式： 其中Ar是芳基，m和n为零或一，W和YNH形成脲、硫脲、酰胺或胺基团。

  公开号：

  EP0432442A1

文献信息

• QUATERNARY N-(HALOMETHYL) AMMONIUM SALTS AS THERAPEUTIC AGENTS
  申请人：Rios Vasquez Luz Amalia

  公开号：US20140194640A1

  公开（公告）日：2014-07-10

  The use of quaternary halogenated ammonium salts for treating leishmaniasis infections and other parasitic diseases is described. Although there have been previous reports in which quaternary ammonium salts are used as antimalarial, antifungal, and antileishmanial compounds, the use of such salts containing a halogenated N-methyl substituent as a therapeutic agent against leishmaniasis had not been reported. The compounds described here, in specific those with a terminal arylalkenyl or diarylalkenyl moiety, are shown to inhibit the growth of Leishmania panamensis parasites, a known causative agent of leishmaniasis disease. In addition, the series of compounds are also extensive against malaria, Chagas disease, toxoplasmosis, and other parasitic diseases.

  描述了使用四元卤化铵盐治疗利什曼病感染和其他寄生虫病的方法。尽管先前有报道四元铵盐被用作抗疟疾、抗真菌和抗利什曼病化合物的情况，但含有卤代N-甲基取代基的这类盐作为利什曼病治疗药物的使用尚未被报道。本文描述的化合物，特别是那些带有末端芳基烯烃或二芳基烯烃基团的化合物，被证明能抑制利什曼巴尼马寄生虫的生长，后者是利什曼病的已知病因。此外，这一系列化合物对疟疾、恙虫病、弓形虫病和其他寄生虫病也具有广泛的抑制作用。
• Hydrophobic Flourinated Polymer Surfaces
  申请人：Greiner Andreas

  公开号：US20090010870A1

  公开（公告）日：2009-01-08

  The invention at hand concerns hydrophobic polymer surfaces, in particular superhydrophobic polymer surfaces, comprising at least one homo- or copolymer, which comprises at least one side chain with at least one fluoro-substituted aryl group. Furthermore, the invention at hand concerns a method for the production of polymer surfaces of this type, their use and polymers of the general formula I: wherein n is an integer between 10 and 4,500, preferably between 20 and 2,200 and particularly preferably between 100 and 670.

  这项发明涉及疏水性聚合物表面，特别是至少含有一个氟代芳基侧链的超疏水性聚合物表面，该聚合物包括至少一个同分或共聚物。此外，该发明涉及一种用于制备此类聚合物表面的方法，它们的用途以及一般式I的聚合物：其中n是介于10和4,500之间的整数，最好介于20和2,200之间，特别优选介于100和670之间。
• CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL, PATTERN-FORMING METHOD, COMPOUND, AND PRODUCTION METHOD OF COMPOUND
  申请人：OSAKA UNIVERSITY

  公开号：US20170052449A1

  公开（公告）日：2017-02-23

  A pattern-forming method comprises patternwise exposing a predetermined region of a resist material film made from a photosensitive resin composition comprising a chemically amplified resist material to a first radioactive ray that is ionizing radiation or nonionizing radiation having a wavelength of no greater than 400 nm. The resist material film patternwise exposed is floodwise exposed to a second radioactive ray that is nonionizing radiation having a wavelength greater than the wavelength of the nonionizing radiation for the patternwise exposing and greater than 200 nm. The chemically amplified resist material comprises a base component, and a generative component that is capable of generating a radiation-sensitive sensitizer and an acid upon an exposure. The generative component comprises a radiation-sensitive sensitizer generating agent. The radiation-sensitive sensitizer generating agent comprises a compound represented by formula (A).

  一种图案形成方法包括将一种化学放大型光刻胶材料制成的感光树脂组成物的预定区域图案暴露于第一种放射性射线中，该放射性射线是电离辐射或波长不大于400 nm的非电离辐射。图案化暴露的光刻胶材料膜被洪水式暴露于第二种放射性射线中，该放射性射线是波长大于图案化暴露的非电离辐射的波长和大于200 nm的非电离辐射。该化学放大型光刻胶材料包括基础组分和能够在暴露时生成辐射敏感的敏化剂和酸的生成组分。生成组分包括辐射敏感的敏化剂生成剂。辐射敏感的敏化剂生成剂包括由式(A)表示的化合物。
• Complexes support-enzyme et leur procédé de préparation
  申请人：RHONE-POULENC SPECIALITES CHIMIQUES

  公开号：EP0003923A1

  公开（公告）日：1979-09-05

  Complexes support-enzyme dans lesquels les enzymes sont liées par liaison covalente à au moins une fonction réactive de groupements organiques greffés à des supports minéraux par au moins une liaison ester. Ces complexes sont obtenus par réaction d'un support minéral insoluble posaédant des groupes hydroxyle avec un composé formé d'un groupement organique possédant au moins une fonction alcohol ou phénol et au moins une fonction réactive à laquelle l'enzyme est ensuite liée.

  支持物-酶复合物，其中酶通过共价键与通过至少一个酯键接枝到矿物支持物上的有机基团的至少一个活性官能团相连接。 这些复合物是通过使含有羟基的不溶性矿物载体与由含有至少一个醇或酚官能团的有机基团和至少一个反应官能团形成的化合物反应而得到的，然后将酶与该化合物连接。
• Chemically amplified resist material and resist pattern-forming method
  申请人：JSR CORPORATION

  公开号：US10018911B2

  公开（公告）日：2018-07-10

  A chemically amplified resist material comprises a polymer component that is capable of being made soluble or insoluble in a developer solution by an action of an acid, and a generative component that is capable of generating a radiation-sensitive sensitizer and an acid upon an exposure. The radiation-sensitive acid-and-sensitizer generating agent or the radiation-sensitive acid generating agent included in the generative component comprises the first compound that is radiation-sensitive and second compound that is radiation-sensitive. The first compound includes a first onium cation and a first anion, and the second compound includes a second onium cation and a second anion that is different from the first anion. Each of an energy released upon reduction of the first onium cation to a radical and an energy released upon reduction of the second onium cation to a radical is less than 5.0 eV.

  一种化学放大抗蚀剂材料包括一种在酸的作用下能溶于或不溶于显影液的聚合物成分，以及一种在曝光时能产生辐射敏感敏化剂和酸的生成成分。生成组件中的辐射敏感性酸和敏化剂生成剂或辐射敏感性酸生成剂包括辐射敏感性第一化合物和辐射敏感性第二化合物。第一化合物包括第一鎓阳离子和第一阴离子，第二化合物包括第二鎓阳离子和不同于第一阴离子的第二阴离子。第一鎓阳离子还原成自由基时释放的能量和第二鎓阳离子还原成自由基时释放的能量均小于 5.0 eV。