摘要:
在金属间化合物Ga 3 TM(TM─过渡金属)的系统研究过程中,通过元素在700℃下直接反应合成了化合物Ga 3 Rh。所获得的材料被表征为Ga 3 Rh的高温改性体。粉末和单晶 X 射线衍射分析揭示了四方对称性(空间群P 4 2 / mnm ,编号 146), a = 6.4808(2) Å 和c = 6.5267(2) Å。 Ga原子的原子位移参数值大且各向异性强,表明晶体结构存在本质无序。应用分裂位置技术来描述ht -Ga 3 Rh 的真实晶体结构。在具有空间群P 1̅、 P 4 2 nm和P 4 2 2 1 2 的有序模型上进行的ht -Ga 3 Rh 中的成键分析表明,除了菱形棱柱∞ 3 [Ga 8中无处不在的杂原子 Ga-Rh 键之外, /2 Rh 2 ],形成桥接 Rh-Rh 接触的同原子 Ga-Ga 键,并且不存在显着的 Rh-Rh 键合。这些特征是实验观察到晶格无序的重要原因。与计算出的电子态密度一致,