bis-(4-methanesulfonyl-phenyl)-ether

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: bis-(4-methanesulfonyl-phenyl)-ether
• 英文别名: Bis-(4-methansulfonyl-phenyl)-aether；1-Methylsulfonyl-4-(4-methylsulfonylphenoxy)benzene
• 化学式: C₁₄H₁₄O₅S₂
• 分子量: 326.394
• InChiKey: IPSVMFZGTIVPPH-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.9
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.14
• 拓扑面积：
  94.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  bis-(4-methanesulfonyl-phenyl)-ether 、 2-苯基-1-丙烯 在 sodium iodide 作用下， 以 氯仿 、 水 为溶剂， 以62 %的产率得到4,4′-oxybis(((2-phenylallyl)sulfonyl)benzene)
  参考文献：
  名称：

  KI 催化α-甲基苯乙烯衍生物与磺酰肼的电化学烯丙基磺化反应

  摘要：

  在无外源氧化剂和无金属催化剂的电化学条件下，开发了用磺酰肼直接活化 α-甲基苯乙烯衍生物的烯丙基 C-H 键以合成烯丙基砜。使用电流中的电子转移而不是化学计量的化学氧化剂，通过自由基偶联获得了一系列具有广泛底物范围和出色区域选择性的有价值的烯丙基砜。

  DOI：

  10.1021/acs.joc.3c00147
• 作为产物：
  描述：

  氯乙酸 、 alkaline earth salt of/the/ methylsulfuric acid 在 水 、 sodium carbonate 作用下， 生成 bis-(4-methanesulfonyl-phenyl)-ether
  参考文献：
  名称：

  DERIVATIVES OF CHLOROBENZENE-2,4-DISULPHONIC ACID

  摘要：

  氯苯-2,4-二磺酸酯（II）、-二磺酮（IV）和-二磺酰胺（V）已从氯苯-2,4-二磺酰氯（I）制备而成。已将I-V的性质和反应与对苯二磺酸和苯氧基苯-4,4'-二磺酸的相关衍生物进行了比较。

  DOI：

  10.1139/v54-078

文献信息

• [EN] POLY(ARYL ETHER SULFONE)-ETHER IMIDE COPOLYMER AND PREPARATION METHOD THEREFOR<br/>[FR] COPOLYMÈRE DE POLY(ARYL ÉTHER SULFONE)-ÉTHER IMIDE ET SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION<br/>[ZH] 一种聚芳醚砜-醚酰亚胺共聚物及其制备方法
  申请人：JIANGMEN YOUJU NEW MAT CO LTD

  公开号：WO2019153135A1

  公开（公告）日：2019-08-15

  一种聚芳醚砜-醚酰亚胺共聚物及其制备方法，聚芳醚砜-醚酰亚胺共聚物是无规共聚物或嵌段共聚物，平均分子量为20000～100000。聚芳醚砜-醚酰亚胺共聚物结合了聚芳醚砜和聚酰亚胺的优点，提高了耐热性、可加工性；该共聚物制备方法工艺简单，后处理容易，适宜工业化生产。
• NS1 protein inhibitors
  申请人：Roth Michael

  公开号：US20090170840A1

  公开（公告）日：2009-07-02

  The present invention generally relates to compounds to treat viral infections and methods of their use. In particular, compounds of the present invention inhibit the activity of NS1 protein, thereby mitigating viral infection and, in particular, influenza virus infection. Accordingly, NS1 protein inhibitors and methods of treatment that employ such inhibitors are contemplated by the present invention.
• PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR, METHOD FOR PRODUCING PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE, AND POLYMER COMPOUND
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US20170173938A1

  公开（公告）日：2017-06-22

  Provided are a photosensitive resin composition which enables production of a lithographic printing plate precursor having a non-image portion which has good solubility in an alkali aqueous solution and which enables production of a lithographic printing plate having excellent chemical resistance and excellent printing durability, a lithographic printing plate precursor obtained by using the photosensitive resin composition, a method for producing a lithographic printing plate, and a new polymer compound. The photosensitive resin composition of the present invention contains: a polymer compound which has an amine bond or a quaternary ammonium salt bond, and at least one bond selected from the group consisting of a urea bond, a urethane bond, and a carbonate bond in the main chain and has a sulfonamide group or a phenolic hydroxyl group in the main chain and/or the side chain; and an infrared absorbing material.
• US4137273A
  申请人：——

  公开号：US4137273A

  公开（公告）日：1979-01-30
• US7244544B2
  申请人：——

  公开号：US7244544B2

  公开（公告）日：2007-07-17