通过铜介导的1,2-二乙炔基四氟苯的氧化偶联,新合成了与四氟苯稠合的脱氢[12]-和-[18]环戊烯3和4。3和4的UV-vis光谱显示最大吸收分别与相应的未取代的苯并氢[12]-和-[18]环戊烯1和2几乎相同,而在循环伏安法中在电位下观察到还原波-3和4的-1.48和-1.56 V vs Fc / Fc(+)的负值小于1和2的负值。与这些结果一致,理论计算(B3LYP / 6-31G(d))表明,HOMO -LUMO间隙对于1和3以及对于2和4是相似的,但是3和4的LUMO水平明显被负电性氟取代基降低。从3(晶体A),3生长的单晶的X射线晶体学。C(6)H(6)(晶体B)和1和3的混合物(晶体C)表明,3的分子以倾斜的方式堆叠在晶体A和B中,而1和3的分子形成三明治状。 1:2的络合物(3.1.3)以柱状排列堆叠在晶体C中。尽管适用于拓扑化学聚合的填料,晶体AC还是很稳定的抗光化学反应
通过铜介导的1,2-二乙炔基四氟苯的氧化偶联,新合成了与四氟苯稠合的脱氢[12]-和-[18]环戊烯3和4。3和4的UV-vis光谱显示最大吸收分别与相应的未取代的苯并氢[12]-和-[18]环戊烯1和2几乎相同,而在循环伏安法中在电位下观察到还原波-3和4的-1.48和-1.56 V vs Fc / Fc(+)的负值小于1和2的负值。与这些结果一致,理论计算(B3LYP / 6-31G(d))表明,HOMO -LUMO间隙对于1和3以及对于2和4是相似的,但是3和4的LUMO水平明显被负电性氟取代基降低。从3(晶体A),3生长的单晶的X射线晶体学。C(6)H(6)(晶体B)和1和3的混合物(晶体C)表明,3的分子以倾斜的方式堆叠在晶体A和B中,而1和3的分子形成三明治状。 1:2的络合物(3.1.3)以柱状排列堆叠在晶体C中。尽管适用于拓扑化学聚合的填料,晶体AC还是很稳定的抗光化学反应