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1,2-diethynyl-3,4,5,6-tetrafluorobenzene | 196958-65-3

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
1,2-diethynyl-3,4,5,6-tetrafluorobenzene
英文别名
Benzene, 1,2-diethynyl-3,4,5,6-tetrafluoro-
1,2-diethynyl-3,4,5,6-tetrafluorobenzene化学式
CAS
196958-65-3
化学式
C10H2F4
mdl
——
分子量
198.119
InChiKey
CSJUMDGEHNZLIE-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.8
  • 重原子数:
    14
  • 可旋转键数:
    2
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.0
  • 拓扑面积:
    0
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    4

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    1,2-diethynyl-3,4,5,6-tetrafluorobenzene四甲基乙二胺氧气copper(l) chloride 作用下, 以 邻二氯苯 为溶剂, 反应 6.0h, 生成 、
    参考文献:
    名称:
    与四氟苯稠合的脱氢[12]-和-[18]环戊烯:合成,电子性质,堆积结构和固态反应性。
    摘要:
    通过铜介导的1,2-二乙炔基四氟苯的氧化偶联,新合成了与四氟苯稠合的脱氢[12]-和-[18]环戊烯3和4。3和4的UV-vis光谱显示最大吸收分别与相应的未取代的苯并氢[12]-和-[18]环戊烯1和2几乎相同,而在循环伏安法中在电位下观察到还原波-3和4的-1.48和-1.56 V vs Fc / Fc(+)的负值小于1和2的负值。与这些结果一致,理论计算(B3LYP / 6-31G(d))表明,HOMO -LUMO间隙对于1和3以及对于2和4是相似的,但是3和4的LUMO水平明显被负电性氟取代基降低。从3(晶体A),3生长的单晶的X射线晶体学。C(6)H(6)(晶体B)和1和3的混合物(晶体C)表明,3的分子以倾斜的方式堆叠在晶体A和B中,而1和3的分子形成三明治状。 1:2的络合物(3.1.3)以柱状排列堆叠在晶体C中。尽管适用于拓扑化学聚合的填料,晶体AC还是很稳定的抗光化学反应
    DOI:
    10.1021/jo025786t
  • 作为产物:
    描述:
    1,2-二碘四氟苯 在 bis-triphenylphosphine-palladium(II) chloride 、 氢氧化钾copper(l) iodide二异丙胺 作用下, 以 甲醇乙醚甲苯 为溶剂, 反应 20.05h, 生成 1,2-diethynyl-3,4,5,6-tetrafluorobenzene
    参考文献:
    名称:
    与四氟苯稠合的脱氢[12]-和-[18]环戊烯:合成,电子性质,堆积结构和固态反应性。
    摘要:
    通过铜介导的1,2-二乙炔基四氟苯的氧化偶联,新合成了与四氟苯稠合的脱氢[12]-和-[18]环戊烯3和4。3和4的UV-vis光谱显示最大吸收分别与相应的未取代的苯并氢[12]-和-[18]环戊烯1和2几乎相同,而在循环伏安法中在电位下观察到还原波-3和4的-1.48和-1.56 V vs Fc / Fc(+)的负值小于1和2的负值。与这些结果一致,理论计算(B3LYP / 6-31G(d))表明,HOMO -LUMO间隙对于1和3以及对于2和4是相似的,但是3和4的LUMO水平明显被负电性氟取代基降低。从3(晶体A),3生长的单晶的X射线晶体学。C(6)H(6)(晶体B)和1和3的混合物(晶体C)表明,3的分子以倾斜的方式堆叠在晶体A和B中,而1和3的分子形成三明治状。 1:2的络合物(3.1.3)以柱状排列堆叠在晶体C中。尽管适用于拓扑化学聚合的填料,晶体AC还是很稳定的抗光化学反应
    DOI:
    10.1021/jo025786t
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文献信息

  • US4892975A
    申请人:——
    公开号:US4892975A
    公开(公告)日:1990-01-09
  • US5942769A
    申请人:——
    公开号:US5942769A
    公开(公告)日:1999-08-24
  • US5945155A
    申请人:——
    公开号:US5945155A
    公开(公告)日:1999-08-31
  • US5942328A
    申请人:——
    公开号:US5942328A
    公开(公告)日:1999-08-24
  • US6150010A
    申请人:——
    公开号:US6150010A
    公开(公告)日:2000-11-21
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