1,3,4,6-tetrakis(2-hydroxyethyl)glycoluril | 40777-42-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 唑烷类
• 英文名称: 1,3,4,6-tetrakis(2-hydroxyethyl)glycoluril
• 英文别名: 1,3,4,6-Tetrakis(2-hydroxyethyl)-3a,6a-dihydroimidazo[4,5-d]imidazole-2,5-dione；1,3,4,6-tetrakis(2-hydroxyethyl)-3a,6a-dihydroimidazo[4,5-d]imidazole-2,5-dione
• CAS: 40777-42-2
• 化学式: C₁₂H₂₂N₄O₆
• 分子量: 318.33
• InChiKey: QWCYKYBJCGYMOZ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -3.6
• 重原子数：
  22
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.83
• 拓扑面积：
  128
• 氢给体数：
  4
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,3,4,6-tetrakis(2-hydroxyethyl)glycoluril 在 氯化亚砜 、 sodium trithiocarbonate 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 11.0h， 以85%的产率得到1,3,4,6-tetrakis(2-mercaptoethyl)-glycoluril
  参考文献：
  名称：

  MERCAPTOALKYLGLYCOLURILS AND USE OF SAME

  摘要：

  本发明提供一种由通式（I）表示的巯基烷基脲，其中R1和R2各自独立地表示氢原子、低碳基或苯基；R3、R4和R5各自独立地表示氢原子或从巯基甲基、2-巯基乙基和3-巯基丙基中选择的巯基烷基；n为0、1或2。本发明还提供一种包括环氧树脂和巯基烷基脲的环氧树脂组合物，以及使用该组合物制备层压板或多层印刷电路板的方法。

  公开号：

  US20160289237A1

文献信息

• 多価カルボン酸およびそれを含有する多価カルボン酸組成物、エポキシ樹脂組成物
  申请人：日本化薬株式会社

  公开号：JP2016222546A

  公开（公告）日：2016-12-28

  【課題】硬化時の重量減少が少なく、透過率、硬さに優れた硬化物を与える多価カルボン酸、該多価カルボン酸組成物、エポキシ樹脂組成物等の提供。【解決手段】式（１）で表わされる多価カルボン酸、及び前記化合物からなるエポキシ樹脂組成物。【選択図】なし

  题目：提供在硬化时重量减少较少，具有较好透过率和硬度的多羧酸，多羧酸组合物，环氧树脂组合物等。 解决方案：提供由式（1）表示的多羧酸和由该化合物制成的环氧树脂组合物。 选择图：无。
• MERCAPTOETHYLGLYCOL URIL COMPOUND AND UTILIZATION THEREOF
  申请人：SHIKOKU CHEMICALS CORPORATION

  公开号：US20180051038A1

  公开（公告）日：2018-02-22

  The present invention provides a novel mercaptoethylglycoluril compound. The present invention also provides a curing agent for an epoxy resin using the substance, an epoxy resin composition using the curing agent for an epoxy resin, and an adhesive and a sealing agent each using the epoxy resin composition.

  本发明提供了一种新型的巯基乙基葫芦脲化合物。本发明还提供了一种使用该物质的环氧树脂固化剂，一种使用环氧树脂固化剂的环氧树脂组合物，以及一种使用环氧树脂组合物的粘合剂和密封剂。
• Mercaptoalkylglycolurils and use of same
  申请人：SHIKOKU CHEMICALS CORPORATION

  公开号：US10030023B2

  公开（公告）日：2018-07-24

  The invention provides a mercaptoalkylglycoluril represented by the general formula (I): wherein R1 and R2 each independently represent a hydrogen atom, a lower alkyl group, or a phenyl group; R3, R4, and R5 each independently represent a hydrogen atom or a mercaptoalkyl group selected from a mercaptomethyl group, a 2-mercaptoethyl group, and a 3-mercaptopropyl group; and n is 0, 1, or 2. The invention further provides an epoxy resin composition comprising an epoxy resin and the mercaptoalkylglycoluril, and a method for producing a laminate or a multilayer printed circuit board using the same.

  本发明提供了一种由通式 (I) 表示的巯基烷基甘氨酰脲： 其中 R1 和 R2 各自独立地代表氢原子、低级烷基或苯基；R3、R4 和 R5 各自独立地代表氢原子或选自巯甲基、2-巯乙基和 3-巯丙基的巯烷基；以及 n 为 0、1 或 2。本发明进一步提供了一种由环氧树脂和巯基烷基甘氨酰脲组成的环氧树脂组合物，以及使用该组合物生产层压板或多层印刷电路板的方法。
• Mercaptoethylglycol uril compound and utilization thereof
  申请人：SHIKOKU CHEMICALS CORPORATION

  公开号：US10550131B2

  公开（公告）日：2020-02-04

  The present invention provides a novel mercaptoethylglycoluril compound. The present invention also provides a curing agent for an epoxy resin using the substance, an epoxy resin composition using the curing agent for an epoxy resin, and an adhesive and a sealing agent each using the epoxy resin composition.

  本发明提供了一种新型巯乙基甘氨酰脲化合物。本发明还提供了一种使用该物质的环氧树脂固化剂、一种使用该环氧树脂固化剂的环氧树脂组合物，以及一种使用该环氧树脂组合物的粘合剂和密封剂。
• Composition for forming resist underlayer film and method for forming resist pattern using same
  申请人：NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.

  公开号：US10844167B2

  公开（公告）日：2020-11-24

  A composition for forming a resist underlayer film that has a high dry etching rate, functions as an anti-reflective coating during exposure, and fills a recess having a narrow space and a high aspect ratio. A composition for forming a resist underlayer film has a copolymer having a structural unit of following formula (1), a cross-linkable compound, a cross-linking catalyst, and a solvent: wherein R1 and R2 are each independently a C1-3 alkylene group or a single bond, Z is an —O— group, a —S— group, or a —S—S— group, and Ar is an arylene group. The copolymer is synthesized by a reaction of a carboxyl group of a dicarboxylic acid compound having an —O— group, a —S— group, or a —S—S— group with an epoxy group of a diglycidyl ether compound having an arylene group.

  一种用于形成抗蚀剂底层膜的组合物，该抗蚀剂底层膜具有较高的干蚀刻率，在曝光期间可用作抗反射涂层，并可填充具有较窄空间和较高长宽比的凹槽。一种用于形成抗蚀剂底层膜的组合物包含具有下式（1）结构单元的共聚物、可交联化合物、交联催化剂和溶剂： 其中 R1 和 R2 各自独立地为 C1-3 亚烷基或单键，Z 为 -O- 基团、-S- 基团或 -S-S- 基团，Ar 为芳基。该共聚物是通过具有-O-基团、-S-基团或-S-S-基团的二羧酸化合物的羧基与具有芳烯基团的二缩水甘油醚化合物的环氧基反应合成的。